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超薄膜真空电容镀膜工艺性能研究与提升
1
作者
李明峻
李翔
+3 位作者
何东
徐文博
胡忠胜
耿万青
《电子产品可靠性与环境试验》
2024年第1期72-76,共5页
为了满足现有的薄膜电容器体积小、性能稳定和适用高压电路等要求,针对国内真空镀膜机设备存在的操作复杂、工艺参数多、镀膜厚度大和击穿电压低等问题,对超薄膜真空电容镀膜工艺性能进行了研究和设计。经过测试表明,新装置拥有允许小...
为了满足现有的薄膜电容器体积小、性能稳定和适用高压电路等要求,针对国内真空镀膜机设备存在的操作复杂、工艺参数多、镀膜厚度大和击穿电压低等问题,对超薄膜真空电容镀膜工艺性能进行了研究和设计。经过测试表明,新装置拥有允许小规格薄膜作低方阻高速度镀膜并且保证最大程度维持原膜电性能等优点;同时,其还拥有可超薄膜到0.8μm、镀铝速度可达9~15 m/s、镀层厚达0.6Ω/m^(2)、没有热损伤和机械损伤、成倍地提高击穿电压等特点,保证了产品的最佳质量性能,进一步降低了薄膜厚度和电容器体积,大大地提高了产品的质量和经济效益。
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关键词
薄膜电容器
镀膜
工艺
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职称材料
题名
超薄膜真空电容镀膜工艺性能研究与提升
1
作者
李明峻
李翔
何东
徐文博
胡忠胜
耿万青
机构
安徽
赛
宝
工业技术研究院
有限公司
芜湖赛
宝
信息产业技术研究院
有限公司
安徽
飞达电气
科技
有限公司
安徽伽宝真空科技有限公司
出处
《电子产品可靠性与环境试验》
2024年第1期72-76,共5页
基金
2021年度安徽省“揭榜挂帅”专项(薄膜电容器小型化关键技术)资助。
文摘
为了满足现有的薄膜电容器体积小、性能稳定和适用高压电路等要求,针对国内真空镀膜机设备存在的操作复杂、工艺参数多、镀膜厚度大和击穿电压低等问题,对超薄膜真空电容镀膜工艺性能进行了研究和设计。经过测试表明,新装置拥有允许小规格薄膜作低方阻高速度镀膜并且保证最大程度维持原膜电性能等优点;同时,其还拥有可超薄膜到0.8μm、镀铝速度可达9~15 m/s、镀层厚达0.6Ω/m^(2)、没有热损伤和机械损伤、成倍地提高击穿电压等特点,保证了产品的最佳质量性能,进一步降低了薄膜厚度和电容器体积,大大地提高了产品的质量和经济效益。
关键词
薄膜电容器
镀膜
工艺
Keywords
film capacitor
coating film
process
分类号
TM537.1 [电气工程—电器]
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作者
出处
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1
超薄膜真空电容镀膜工艺性能研究与提升
李明峻
李翔
何东
徐文博
胡忠胜
耿万青
《电子产品可靠性与环境试验》
2024
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