期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
添加剂MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响
被引量：
7
1
作者
王羽
刘励昀
+3 位作者
杜荣斌
刘涛
陆冰沪
李大双
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2021年第5期1-9,共9页
本文针对添加剂对铜电沉积机理的影响进行了研究,并采用控制变量法研究了MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响,以探索MPS与DDAC对铜箔晶体择优和微观形貌的协同影响作用。结果表明,在基础镀铜液确定的条件下,MPS单独存在可以增大阴极...
本文针对添加剂对铜电沉积机理的影响进行了研究,并采用控制变量法研究了MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响,以探索MPS与DDAC对铜箔晶体择优和微观形貌的协同影响作用。结果表明,在基础镀铜液确定的条件下,MPS单独存在可以增大阴极极化和成核数密度,减小Cu2+扩散系数;DDAC可以增大阴极极化,其浓度与Cu2+扩散系数呈负相关,与成核数密度呈正相关;Cl^(−)本身对阴极极化作用并不明显,但会改变铜电结晶过程的成核方式。MPS、DDAC和Cl^(−)协同作用时,随着MPS浓度增加,扩散系数和成核数密度最终趋于一定值,MPS浓度达到10 mg/L后只有(220)晶面择优,此时镀层平整性最优。
展开更多
关键词
电沉积
极化作用
成核密度
择优取向
微观形貌
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
添加剂MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响
被引量：
7
1
作者
王羽
刘励昀
杜荣斌
刘涛
陆冰沪
李大双
机构
安庆师范大学化学与化工学院
安徽铜冠铜箔集团股份有限公司
出处
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2021年第5期1-9,共9页
基金
安徽省科技重大专项(18030901069)
安徽省高校学科(专业)拔尖人才学术资助项目(gxbjZD202075)。
文摘
本文针对添加剂对铜电沉积机理的影响进行了研究,并采用控制变量法研究了MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响,以探索MPS与DDAC对铜箔晶体择优和微观形貌的协同影响作用。结果表明,在基础镀铜液确定的条件下,MPS单独存在可以增大阴极极化和成核数密度,减小Cu2+扩散系数;DDAC可以增大阴极极化,其浓度与Cu2+扩散系数呈负相关,与成核数密度呈正相关;Cl^(−)本身对阴极极化作用并不明显,但会改变铜电结晶过程的成核方式。MPS、DDAC和Cl^(−)协同作用时,随着MPS浓度增加,扩散系数和成核数密度最终趋于一定值,MPS浓度达到10 mg/L后只有(220)晶面择优,此时镀层平整性最优。
关键词
电沉积
极化作用
成核密度
择优取向
微观形貌
Keywords
electrodeposition
polarization
nucleation density
preferential orientation
microscopic morphology
分类号
TQ153.14 [化学工程—电化学工业]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
添加剂MPS、DDAC、Cl^(−)对铜箔电沉积的影响
王羽
刘励昀
杜荣斌
刘涛
陆冰沪
李大双
《电镀与精饰》
CAS
北大核心
2021
7
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
