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热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响(英文)
被引量:
5
1
作者
冷健
季一勤
+2 位作者
刘华松
庄克文
刘丹丹
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2018年第6期186-191,共6页
光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750...
光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750℃退火条件下SiO_2薄膜的弹性模量(Er)增加到72 GPa,膜层硬度增加到10 GPa。镀完后未经退火处理的SiO_2薄膜表现为压应力,但是应力值在退火温度达到450℃以上时急剧降低,说明热处理有助于改善SiO_2薄膜内应力。经退火处理的SiO_2薄膜泊松比(vf)为0.18左右。退火前后SiO_2薄膜的杨氏模量(Ef)都要比石英块体材料大,并且750℃退火膜层杨氏模量增加了50 GPa以上。550℃退火的SiO_2薄膜热膨胀系数(αf)从6.78×10^(-7)℃^(-1)降到最小值5.22×10^(-7)℃^(-1)。
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关键词
双离子束溅射
SIO2薄膜
退火
力学及热力学特性
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职称材料
热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析
被引量:
3
2
作者
姜玉刚
王利栓
+4 位作者
刘华松
刘丹丹
姜承慧
羊亚平
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014年第10期3334-3337,共4页
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为55...
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。
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关键词
SIO2薄膜
光学特性
热处理
折射率
弱吸收
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职称材料
离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性
被引量:
2
3
作者
刘华松
傅翾
+4 位作者
王利栓
姜玉刚
冷健
庄克文
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2013年第7期1770-1775,共6页
离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度...
离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。
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关键词
离子束溅射
Ta2O5薄膜
正交实验
光学常数
沉积速率
应力
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职称材料
Cu调控的TiN-Cu纳米复合膜包覆钛合金的抗菌性研究
被引量:
2
4
作者
赵梦鲤
刘孟寅
+5 位作者
韩笑
纪醒明
吴杰
董雷
董磊
李德军
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期952-959,共8页
利用磁控共溅射技术在钛合金(Ti6Al4V)表面包覆氮化钛-铜纳米(TiN-Cu)复合膜,并通过控制Cu靶溅射功率实现对TiN-Cu薄膜中Cu含量的调节,进而实现对材料耐蚀性和抗菌性的协同调控。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、能谱...
利用磁控共溅射技术在钛合金(Ti6Al4V)表面包覆氮化钛-铜纳米(TiN-Cu)复合膜,并通过控制Cu靶溅射功率实现对TiN-Cu薄膜中Cu含量的调节,进而实现对材料耐蚀性和抗菌性的协同调控。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、能谱仪分析了包覆TiN-Cu纳米复合膜的钛合金的表面形貌、相结构、元素成分及价态,并在模拟体液条件下测试了该材料的耐腐蚀性能,通过体外抗菌实验评价了Cu含量对材料抗菌性的影响。结果表明:通过在Ti6Al4V表面包覆TiN-Cu纳米复合薄膜显著增强了材料的抗菌性;并抑制了有毒性的V4+、Al3+离子在体液中的释放。Cu靶溅射功率升高在提高TiN-Cu薄膜中Cu含量和薄膜沉积速率的同时,也导致了薄膜中大量柱状晶体结构的生成,加速了薄膜的腐蚀,但提高了抗菌性。综上,合理调控Cu的含量是协同提升TiN-Cu薄膜的耐腐蚀性及抗菌性的关键。
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关键词
钛合金
磁控共溅射
TiN-Cu复合膜
耐腐蚀性
抗菌性
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职称材料
毫米波在SiO_2基底材料中的传播特性
被引量:
1
5
作者
刘华松
余俊宏
+2 位作者
冷健
庄克文
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014年第4期1145-1149,共5页
红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波,给出了介质材料厚度设计的准则,分析了SiO2材料不...
红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波,给出了介质材料厚度设计的准则,分析了SiO2材料不同物理厚度和物理厚度偏差对毫米波传输性能的影响。分析结果表明:基底物理厚度越大,基底物理厚度偏差对毫米波透射、反射和吸收性能的影响就越大,要求也越精确。对红外/毫米波分频器件的设计有一定的参考价值。
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关键词
红外
毫米波
物理厚度
厚度偏差
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职称材料
题名
热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响(英文)
被引量:
5
1
作者
冷健
季一勤
刘华松
庄克文
刘丹丹
机构
天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2018年第6期186-191,共6页
基金
国家自然科学基金(61775167,61405145,61235011,61705165)
天津市自然科学重点基金(15JCZDJC31900)
中国博士后科学基金(2015T80115,2014M560104)
文摘
光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750℃退火条件下SiO_2薄膜的弹性模量(Er)增加到72 GPa,膜层硬度增加到10 GPa。镀完后未经退火处理的SiO_2薄膜表现为压应力,但是应力值在退火温度达到450℃以上时急剧降低,说明热处理有助于改善SiO_2薄膜内应力。经退火处理的SiO_2薄膜泊松比(vf)为0.18左右。退火前后SiO_2薄膜的杨氏模量(Ef)都要比石英块体材料大,并且750℃退火膜层杨氏模量增加了50 GPa以上。550℃退火的SiO_2薄膜热膨胀系数(αf)从6.78×10^(-7)℃^(-1)降到最小值5.22×10^(-7)℃^(-1)。
关键词
双离子束溅射
SIO2薄膜
退火
力学及热力学特性
Keywords
dual ion beam sputtering (DIBS)
SiO2 film
annealing
mechanical and thermoelastic characteristics
分类号
O436 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析
被引量:
3
2
作者
姜玉刚
王利栓
刘华松
刘丹丹
姜承慧
羊亚平
季一勤
机构
同济大学
物理
科学与工程学院先进微结构材料教育部
重点
实验室
天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014年第10期3334-3337,共4页
基金
国家自然科学基金(61235011)
国家重大科学仪器专项子项目(2012YQ04016405)
+1 种基金
天津市科委项目(13JCYBJC17300
12JCQNJC01200)
文摘
采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。
关键词
SIO2薄膜
光学特性
热处理
折射率
弱吸收
Keywords
SiO2 film optical properties thermal treatment refractive index weak absorption
分类号
TB34 [一般工业技术—材料科学与工程]
O434 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性
被引量:
2
3
作者
刘华松
傅翾
王利栓
姜玉刚
冷健
庄克文
季一勤
机构
天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所
二炮驻
天津
地区军事代表室
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2013年第7期1770-1775,共6页
基金
国家自然科学基金(61235011)
天津市科委项目(10JCYBJC01500
12JCQNIC01200)
文摘
离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。
关键词
离子束溅射
Ta2O5薄膜
正交实验
光学常数
沉积速率
应力
Keywords
ion beam sputterings
Ta2Os thin film
orthogonal experiment
optical constants
deposition rate
stress
分类号
O484 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
Cu调控的TiN-Cu纳米复合膜包覆钛合金的抗菌性研究
被引量:
2
4
作者
赵梦鲤
刘孟寅
韩笑
纪醒明
吴杰
董雷
董磊
李德军
机构
物理
与材料科学学院
天津
师范大学
天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第10期952-959,共8页
基金
国家自然科学基金项目(51772209)
天津自然科学基金青年项目(18JCQNJC72000和18JCQNJC73400)
+1 种基金
天津市高等学校创新团队资助项目(TD13-5077)
天津市研究生科研创新项目(2019YJSS137)。
文摘
利用磁控共溅射技术在钛合金(Ti6Al4V)表面包覆氮化钛-铜纳米(TiN-Cu)复合膜,并通过控制Cu靶溅射功率实现对TiN-Cu薄膜中Cu含量的调节,进而实现对材料耐蚀性和抗菌性的协同调控。采用扫描电子显微镜、原子力显微镜、X射线衍射仪、能谱仪分析了包覆TiN-Cu纳米复合膜的钛合金的表面形貌、相结构、元素成分及价态,并在模拟体液条件下测试了该材料的耐腐蚀性能,通过体外抗菌实验评价了Cu含量对材料抗菌性的影响。结果表明:通过在Ti6Al4V表面包覆TiN-Cu纳米复合薄膜显著增强了材料的抗菌性;并抑制了有毒性的V4+、Al3+离子在体液中的释放。Cu靶溅射功率升高在提高TiN-Cu薄膜中Cu含量和薄膜沉积速率的同时,也导致了薄膜中大量柱状晶体结构的生成,加速了薄膜的腐蚀,但提高了抗菌性。综上,合理调控Cu的含量是协同提升TiN-Cu薄膜的耐腐蚀性及抗菌性的关键。
关键词
钛合金
磁控共溅射
TiN-Cu复合膜
耐腐蚀性
抗菌性
Keywords
Ti6Al4V alloy
Magnetron co-sputtering
TiN-Cu nanocomposite film
Corrosion resistance
Antibacterial property
分类号
O539 [理学—等离子体物理]
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职称材料
题名
毫米波在SiO_2基底材料中的传播特性
被引量:
1
5
作者
刘华松
余俊宏
冷健
庄克文
季一勤
机构
天津市薄膜光学重点实验室天津津航技术物理研究所
出处
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014年第4期1145-1149,共5页
基金
国家自然科学基金(61235011)
国家重大科学仪器设备开发专项资金(2012YQ040164)
+1 种基金
天津市科委项目(12JCQNIC01200
13JCYBJC17300)
文摘
红外/毫米波分频器件是红外/毫米波复合探测系统的关键器件之一。利用电磁波干涉理论计算和分析了介质材料特征参数对毫米波透射、反射和吸收性能的影响。针对工作频率为35GHz的电磁波,给出了介质材料厚度设计的准则,分析了SiO2材料不同物理厚度和物理厚度偏差对毫米波传输性能的影响。分析结果表明:基底物理厚度越大,基底物理厚度偏差对毫米波透射、反射和吸收性能的影响就越大,要求也越精确。对红外/毫米波分频器件的设计有一定的参考价值。
关键词
红外
毫米波
物理厚度
厚度偏差
Keywords
IR/MMW
physical thickness
thickness deviation
分类号
O436.1 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响(英文)
冷健
季一勤
刘华松
庄克文
刘丹丹
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2018
5
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职称材料
2
热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析
姜玉刚
王利栓
刘华松
刘丹丹
姜承慧
羊亚平
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014
3
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职称材料
3
离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性
刘华松
傅翾
王利栓
姜玉刚
冷健
庄克文
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2013
2
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职称材料
4
Cu调控的TiN-Cu纳米复合膜包覆钛合金的抗菌性研究
赵梦鲤
刘孟寅
韩笑
纪醒明
吴杰
董雷
董磊
李德军
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020
2
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职称材料
5
毫米波在SiO_2基底材料中的传播特性
刘华松
余俊宏
冷健
庄克文
季一勤
《红外与激光工程》
EI
CSCD
北大核心
2014
1
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职称材料
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