厚度对ZnS薄膜光学特性与力学特性的影响 被引量：1

1

作者 孟阳 陶海军 +3 位作者 刘华松 孙鹏 白金林 杨仕琪 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第3期211-218,共8页

ZnS是重要的宽光谱光学薄膜材料,在宽带红外增透膜膜系中常常需要使用几十纳米到几百纳米的ZnS薄膜。为了明确厚度对ZnS薄膜性能的影响,使用离子辅助电阻热蒸发法在熔融石英基底上镀制了不同厚度的ZnS薄膜,分析了不同厚度ZnS薄膜的光学... ZnS是重要的宽光谱光学薄膜材料,在宽带红外增透膜膜系中常常需要使用几十纳米到几百纳米的ZnS薄膜。为了明确厚度对ZnS薄膜性能的影响,使用离子辅助电阻热蒸发法在熔融石英基底上镀制了不同厚度的ZnS薄膜,分析了不同厚度ZnS薄膜的光学特性与力学特性。实验数据表明,随着ZnS薄膜厚度的增加,薄膜晶粒尺寸也随之增大;ZnS薄膜均呈现压应力,并且应力随厚度增加而减小;ZnS薄膜的折射率随着厚度增加而增大,当膜厚增加到50 nm以后,折射率接近于块状ZnS折射率,进一步增加薄膜厚度折射率趋于稳定值。通过研究,获得了ZnS薄膜膜层厚度对光学和力学特性的影响规律,可以用于指导高性能宽带红外光学多层膜的设计和制备。 展开更多

关键词 光学薄膜 薄膜性能 微观结构分析 硫化锌薄膜 光学特性 力学特性

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SiO_2薄膜光学常数物理模型（英文） 被引量：8

2

作者 刘华松 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 王利栓 姜承慧 姜玉刚 季一勤 张锋 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2017年第9期286-291,共6页

SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交... SiO_2薄膜是光学薄膜领域内常用的重要低折射率材料之一。在文中研究中,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。采用离子束溅射和电子束蒸发两种方法制备了SiO_2薄膜,在拟合过程中,基于L_8(2~2)正交表设计了8组反演计算实验,以评价函数MSE为考核指标。实验结果表明:对IBS SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为界面层模型,对EB SiO_2薄膜拟合MSE函数影响最大的为Pore模型。同时确定了不同物理模型对拟合MSE函数的影响大小和反演计算过程模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,两种薄膜反演计算的MSE函数相对初始MSE可下降35%和38%,表明拟合过程模型选择合理物理意义明确。文中提供了一种判断薄膜物理模型中各因素对于薄膜光学常数分析作用大小的途径,对于薄膜光学常数分析具有指导意义。 展开更多

关键词 SIO2薄膜 光学常数 界面层 折射率梯度 孔隙 表面层

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真空热处理对硫化锌薄膜光学与微结构特性的影响 被引量：9

3

作者 刘华松 姜承慧 +4 位作者 李士达 杨霄 季一勤 张锋 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第8期2038-2045,共8页

针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波... 针对电子束蒸发离子辅助沉积的硫化锌薄膜,研究了550℃以下真空热处理对其光学与微结构特性的影响。薄膜光学和微结构特性的测试分析表明:制备后薄膜为类立方结构的ZnS,在337.5nm波长处出现临界特性转折点,随着热处理温度的增加,转折波长两侧的消光系数变化规律相反,折射率和物理厚度呈现下降趋势,薄膜的禁带宽度逐渐增加;在红外波段的薄膜折射率与热处理温度的变化并不显著,在350℃下热处理时消光系数出现转折,主要是由晶粒变小的趋势所致;通过晶相分析,硫化锌薄膜经历了类立方结构到六方结构的转换,与禁带宽度的变化趋势基本一致。分析结果表明,光学特性变化的根本原因是薄膜的微结构特性变化。 展开更多

关键词 ZNS薄膜 折射率 消光系数 真空热处理 晶相结构

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金属氧化物薄膜光学常数计算物理模型应用研究 被引量：3

4

作者 刘华松 姜承慧 +4 位作者 王利栓 刘丹丹 姜玉刚 孙鹏 季一勤 《光谱学与光谱分析》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2014年第5期1163-1167,共5页

采用离子束溅射(IBS)方法制备了HfO2和Ta2O5两种金属氧化物薄膜,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。在拟合过程中,采用L8(27)正交表设计了8组反演计算实验,在初始选定Cauchy模型后,对HfO2薄膜拟... 采用离子束溅射(IBS)方法制备了HfO2和Ta2O5两种金属氧化物薄膜,通过测量薄膜的椭偏参数,使用非线性最小二乘法反演计算获得薄膜的光学常数。在拟合过程中,采用L8(27)正交表设计了8组反演计算实验,在初始选定Cauchy模型后,对HfO2薄膜拟合影响最大的为表面层模型,对Ta2O5薄膜拟合影响最大的为折射率梯度模型。确定了不同物理模型对拟合函数MSE的影响权重和拟合过程中模型选择的次序,按照确定的模型选择次序拟合,最后加入弱吸收模型反演计算两种薄膜的光学常数,反演计算的MSE相对初始MSE可下降79%和39%,表明拟合过程模型选择物理意义明确,具有广泛的应用价值。在500nm处,Ta2O5薄膜的折射率梯度大于HfO2薄膜,而HfO2薄膜消光系数大于Ta2O5薄膜。表明Hf金属与Ta金属相比容易氧化形成稳定的氧化物,HfO2薄膜的吸收要高于Ta2O5薄膜。 展开更多

关键词 HFO2 薄膜 TA2 O5 薄膜 光学常数 物理模型

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弱吸收单面薄膜光学特性的表征方法 被引量：1

5

作者 刘华松 傅翾 +4 位作者 王利栓 姜玉刚 冷健 庄克文 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第8期2108-2114,共7页

光谱法是测量光学薄膜光学性能的重要方法之一,能够直接表征薄膜-基底系统的光学特性,如:反射率、透过率和吸收率。通过研究薄膜-基底系统的光传输特性,推导出在基底具有弱吸收的一般条件下薄膜-基底系统反射率、透射率和吸收率的表达式... 光谱法是测量光学薄膜光学性能的重要方法之一,能够直接表征薄膜-基底系统的光学特性,如:反射率、透过率和吸收率。通过研究薄膜-基底系统的光传输特性,推导出在基底具有弱吸收的一般条件下薄膜-基底系统反射率、透射率和吸收率的表达式,确定了通过测量单面和双面抛光基底及其薄膜特性间接获得薄膜单面光学特性的方法;在实验中使用Lambda-900分光光度计对熔融石英基底的HfO2薄膜进行了测试,并通过测量误差分析,薄膜的单面反射率误差为1.00%,单面透过率的误差为0.601%。研究结果表明文中方法可适用于各类薄膜单面特性的表征与评价。 展开更多

关键词 光学特性 单面反射率 单面透过率

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离子束溅射氧化钽薄膜光学特性的热处理效应 被引量：5

6

作者 王利栓 杨霄 +6 位作者 刘丹丹 姜承慧 刘华松 季一勤 张锋 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第3期175-181,共7页

主要研究了离子束溅射制备的氧化钽薄膜在大气氛围下热处理对其光学特性的影响规律。实验中热处理温度范围的选择为150~550℃,间隔为200℃。研究中分别采用介电常数的CodyLorentz色散模型和振子模型对氧化钽薄膜的能带特性(1~4 eV)和红... 主要研究了离子束溅射制备的氧化钽薄膜在大气氛围下热处理对其光学特性的影响规律。实验中热处理温度范围的选择为150~550℃,间隔为200℃。研究中分别采用介电常数的CodyLorentz色散模型和振子模型对氧化钽薄膜的能带特性(1~4 eV)和红外波段(400~4 000 cm^(-1))的微结构振动特性进行了表征。研究结果表明,在150℃和350℃之间出现热处理温度转折点,即热处理温度高于此值时消光系数增加。Urbach能量的变化与消光系数趋势相同,而禁带宽度的变化与消光系数恰好相反。通过红外微结构振动特性分析,薄膜中仍存在亚氧化物的化学计量缺陷。 展开更多

关键词 Ta2O5薄膜 热处理 光学常数 禁带宽度 微结构振动

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退火处理对 MgAl_(2)O_(4)光学性能及残余应力影响研究

7

作者 张亚倩 姜玉刚 +3 位作者 荣景颂 张荣实 张彤 杨勇 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第2期149-156,共8页

通过无压烧结结合热等静压处理制备了 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷,同时采用应力双折射光程差和微区拉曼光谱特征峰频移两种方法表征材料的残余应力,重点研究了退火温度对于 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷全波段光学透过率、残余应力的影响,并通过基... 通过无压烧结结合热等静压处理制备了 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷,同时采用应力双折射光程差和微区拉曼光谱特征峰频移两种方法表征材料的残余应力,重点研究了退火温度对于 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷全波段光学透过率、残余应力的影响,并通过基于Mie散射理论的离散偶极子计算、微观形貌表征以及晶格常数计算等方法对其影响机理进行分析和阐释。结果表明,当退火温度低于1 300℃时,透过率降低主要出现在450 nm以下,当退火温度高于1 300℃时,全波段透过率开始迅速下降,且短波波段透过率下降幅度明显高于红外波段。这主要是由于随着退火温度的升高,气孔发生膨胀、分裂增多后对不同波段电磁波散射所致。 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷内残余应力为压应力,且呈现出不均匀分布的特点,残余应力随退火温度的升高而逐渐降低,至最低点后继续升高退火温度,残余应力反而增加。晶格畸变是 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷产生残余应力的主要原因之一,当退火温度过高时,伴随着气孔膨胀和二次结晶,此时晶粒与晶粒,晶粒与气孔等界面的相互刚性挤压作用占主导。综合来看,当退火温度为1 200~1 250℃时,残余应力消除效果最好。 展开更多

关键词 MgAl_(2)O_(4)透明陶瓷 退火处理 光学性能 残余应力

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离子束溅射氧化钽薄膜的光学带隙特性 被引量：7

8

作者 刘华松 杨霄 +3 位作者 王利栓 姜玉刚 季一勤 陈德应 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期21-27,共7页

Ta_2O_5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta_2O_5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备... Ta_2O_5薄膜是可见光到近红外波段中重要的高折射率薄膜材料之一。本文针对离子束溅射制备Ta_2O_5薄膜的光学带隙特性开展了实验研究工作,基于Cody-Lorentz模型表征了薄膜的光学带隙特性,重点针对薄膜的禁带宽度和Urbach带尾宽度与制备参数之间的相关性进行研究。研究结果表明:在置信概率95%以上时,对Ta_2O_5薄膜禁带宽度影响的制备参数,权重大小依次为氧气流量、基板温度、离子束电压;而对Ta_2O_5薄膜Urbach带尾宽度影响的制备参数,权重大小依次为基板温度和氧气流量。对于Ta_2O_5薄膜在超低损耗激光薄膜和高损伤阈值激光薄膜领域内应用,本文的研究结果给出了同步提高薄膜的禁带宽度和降低带尾宽度的重要工艺参数选择方法。 展开更多

关键词 Ta2O5薄膜 禁带宽度 Urbach带尾宽度 制备参数 影响权重

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离子束溅射法制备碳化锗薄膜的红外光学特性和力学特性（英文） 被引量：1

9

作者 孙鹏 胡明 +6 位作者 张锋 季一勤 刘华松 刘丹丹 冷健 杨明 李钰 《红外与毫米波学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2016年第2期133-138,共6页

采用离子束溅射法通过在CH4和Ar的混合气体中溅射Ge靶材制备碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜.分别通过原子力显微镜、拉曼光谱和X射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱以及纳米压痕测试研究了薄膜的表面形貌、化学结构、光学特性和力学特性.同... 采用离子束溅射法通过在CH4和Ar的混合气体中溅射Ge靶材制备碳化锗(Ge_(1-x)C_x)薄膜.分别通过原子力显微镜、拉曼光谱和X射线光电子能谱、傅里叶变换红外光谱以及纳米压痕测试研究了薄膜的表面形貌、化学结构、光学特性和力学特性.同时分析了制备薄膜时的离子源束压和薄膜性质之间的关系.结果表明,薄膜的粗糙度随束压的增大而减小.在较高束压下制备的薄膜含有较少的C元素和较多的Ge-C键.薄膜具有非常好的红外光学特性和力学特性.薄膜在较大波长范围内具有良好的透光性能.C元素含量随着束压的升高而降低,进而导致薄膜的折射率在束压从300 V增大到800 V的过程中逐渐升高.薄膜的硬度大于8GPa.由于薄膜中的Ge-C键代替了C-C键和C-Hn键,薄膜的硬度随束压的增加逐渐增加. 展开更多

关键词 离子束溅射沉积 碳化锗 红外光学特性 机械特性

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几种紫外薄膜材料的光学及损伤特性分析 被引量：5

10

作者 张乾 焦宏飞 +2 位作者 程鑫彬 马彬 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第4期1230-1234,共5页

为进一步改善大型固体激光器3倍频用薄膜的光学及损伤特性,利用不同的测试方法系统对比研究了电子束蒸发方式制备的几种紫外薄膜的光学常数、晶体结构、表面粗糙度以及弱吸收和其激光损伤特性间的相互关系。研究表明:薄膜的弱吸收和其... 为进一步改善大型固体激光器3倍频用薄膜的光学及损伤特性,利用不同的测试方法系统对比研究了电子束蒸发方式制备的几种紫外薄膜的光学常数、晶体结构、表面粗糙度以及弱吸收和其激光损伤特性间的相互关系。研究表明:薄膜的弱吸收和其禁带宽度共同制约了其激光损伤阈值,而薄膜因晶相结构的产生而增大的表面粗糙度对其激光损伤阈值无影响。大弱吸收的薄膜其损伤表现为非常微小的吸收点向外扩张构成的较大的破坏点,而低弱吸收的薄膜其损伤则表现为瞬间吸收引起大的损伤。 展开更多

关键词 薄膜 光学性能 激光损伤

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低亚表面损伤石英光学基底的加工和检测技术 被引量：14

11

作者 马彬 沈正祥 +5 位作者 张众 贺鹏飞 季一勤 刘华松 刘丹丹 王占山 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第9期2181-2185,共5页

制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了... 制备低亚表面损伤的超光滑光学基底,是获得高损伤阈值薄膜的前提条件。针对石英材料在不同加工工序中引入亚表面损伤层的差异,首先利用共焦显微成像结合光散射的层析扫描技术,对W10和W5牌号SiC磨料研磨后的亚表面缺陷进行了检测,讨论了缺陷尺寸与散射信号强度、磨料粒径与损伤层深度间的对应关系;同时,采用化学腐蚀处理技术对抛光后样品的亚表面形貌进行了刻蚀研究,分析了化学反应生成物和亚表面缺陷对刻蚀速率的影响、不同深度下亚表面缺陷的分布特征,以及均方根粗糙度与刻蚀深度间的联系。根据各道加工工艺的不同采用了相应的亚表面检测技术,由此来确定下一道加工工序,合理的去除深度,最终获得了极低亚表面损伤的超光滑光学基底。 展开更多

关键词 亚表面损伤层 共焦显微成像 光散射 化学腐蚀 刻蚀速率

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热处理对离子束溅射SiO_2薄膜结构特性的影响分析 被引量：12

12

作者 季一勤 姜玉刚 +6 位作者 刘华松 王利栓 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 樊荣伟 陈德应 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第2期418-422,共5页

采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表... 采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,研究了热处理对离子束溅射SiO2薄膜结构特性的影响。热处理温度对表面粗糙度影响较大,低温热处理可降低表面粗糙度,高温热处理则增大表面粗糙度,选择合适的热处理温度,可以使表面粗糙度几乎不变。采用X射线衍射仪(XRD)物相分析方法,分析了热处理对离子束溅射SiO2薄膜的无定形结构特性的影响,当退火温度为550℃,离子束溅射SiO2薄膜的短程有序范围最大、最近邻原子平均距离最小,与熔融石英基底很接近,结构稳定。实验结果表明,采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的结构特性。 展开更多

关键词 SIO2薄膜 热处理 表面粗糙度 XRD 无定形结构

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卫星激光防护薄膜窗口的设计与制备技术研究 被引量：8

13

作者 姜玉刚 刘华松 +3 位作者 王利栓 陈丹 李士达 季一勤 《中国光学》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第4期804-809,共6页

当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm... 当前反卫星激光武器发展迅猛,迫切需要研究和发展卫星的激光防护技术,以增强卫星在空间的生存与防护能力。本文采用可见光-近红外透明和中波吸收的玻璃基底与线性激光防护薄膜相结合的设计方法,在玻璃基板一面设计分光膜,实现1.315μm波长的反射和0.5~0.8μm、1.55μm波段的增透,在玻璃基板另一面设计双波段减反射膜,实现0.5~0.8μm和1.55μm波段的增透。采用离子束溅射沉积技术,实现了激光防护窗口薄膜的制备,在0.5~0.8μm的平均透过率大于96%,1.55μm的透过率大于98%,1.315μm的透过率小于0.1%,在2.7μm的透过率为30%,在3.8μm的透过率为1.1%。实验结果表明,该方法实现了可见光-近红外-中红外波段激光防护窗口的制备,对于卫星平台防护激光武器具有重要作用。 展开更多

关键词 激光武器 离子束溅射技术 防护薄膜 透过率 反射率

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离子束溅射制备SiO_2薄膜的折射率与应力调整 被引量：9

14

作者 刘华松 王利栓 +1 位作者 姜玉刚 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第9期2238-2243,共6页

基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获... 基于正交试验方法,系统研究了用离子束溅射法制备SiO2薄膜其折射率、应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。使用分光光度计和椭圆偏振仪测量SiO2薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,利用全光谱反演计算法获得薄膜的折射率,通过测量基底镀膜前后的表面变形量得到SiO2薄膜的应力。实验结果表明,工艺参数对薄膜折射率影响权重从大到小依次为氧气流量、基板温度、离子束流和离子束压,前三者对折射率影响的可信概率分别为87.03%、71.98%和69.53%;对SiO2薄膜应力影响权重从大到小依次为基板温度、离子束压、氧气流量和离子束流,前三者对应力影响的可信概率分别为95.62%、48.49%和37.88%。得到的结果表明,制备低折射率SiO2薄膜应选择高氧气流量、低基板温度和低离子束流;制备低应力SiO2薄膜应选择低基板温度和高氧气流量。 展开更多

关键词 SIO2薄膜 正交实验 折射率 应力 离子束溅射

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基于离子束溅射Ta_2O_5薄膜的紫外吸收膜技术 被引量：5

15

作者 姜玉刚 刘华松 +5 位作者 陈丹 王利栓 李士达 刘丹丹 姜承慧 季一勤 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第3期527-532,共6页

为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量。本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta_2O_5薄膜的制备。以Ta_2O_5薄膜作为高折射率材料,设计了355nm的紫外高反射吸收... 为获得高性能紫外激光薄膜元件,急需研制紫外高反射吸收薄膜,实现吸收损耗的精确测量。本文采用离子束溅射技术,通过调控氧气流量实现了具有不同吸收的Ta_2O_5薄膜的制备。以Ta_2O_5薄膜作为高折射率材料,设计了355nm的紫外高反射吸收薄膜。采用离子束溅射沉积技术,在熔融石英基底上制备了355nm的吸收薄膜,对于A=5%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,95.0%和4.9%;对于A=12%的紫外吸收光谱,在355nm的透射率、反射率和吸收率分别为0.1%,87.4%和12.5%。实验结果表明,采用离子束溅射沉积技术,可以实现不同吸收率的355nm高反射吸收薄膜的制备,对于基于光热偏转测量技术的紫外光学薄膜弱吸收测量仪的定标具有重要的意义。 展开更多

关键词 离子束溅射技术 紫外吸收薄膜 吸收率 透射率 反射率

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热处理对双离子束溅射SiO_2薄膜力学及热力学特性的影响（英文） 被引量：5

16

作者 冷健 季一勤 +2 位作者 刘华松 庄克文 刘丹丹 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2018年第6期186-191,共6页

光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750... 光学薄膜的力学及热力学特性决定了光学系统性能的优劣。采用双离子束溅射的方法在硅<110>和肖特石英Q1基底上制备了SiO_2薄膜,并对制备的膜层进行退火处理。系统研究了热处理前后SiO_2薄膜的力学及热力学特性。研究结果表明,750℃退火条件下SiO_2薄膜的弹性模量(Er)增加到72 GPa,膜层硬度增加到10 GPa。镀完后未经退火处理的SiO_2薄膜表现为压应力,但是应力值在退火温度达到450℃以上时急剧降低,说明热处理有助于改善SiO_2薄膜内应力。经退火处理的SiO_2薄膜泊松比(vf)为0.18左右。退火前后SiO_2薄膜的杨氏模量(Ef)都要比石英块体材料大,并且750℃退火膜层杨氏模量增加了50 GPa以上。550℃退火的SiO_2薄膜热膨胀系数(αf)从6.78×10^(-7)℃^(-1)降到最小值5.22×10^(-7)℃^(-1)。 展开更多

关键词 双离子束溅射 SIO2薄膜 退火 力学及热力学特性

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热处理对SiO_2薄膜折射率和吸收特性的影响分析 被引量：3

17

作者 姜玉刚 王利栓 +4 位作者 刘华松 刘丹丹 姜承慧 羊亚平 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第10期3334-3337,共4页

采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为55... 采用离子束溅射技术,在熔融石英基底上制备了SiO2薄膜,并通过椭偏光谱法和表面热透镜技术研究了热处理对其光学特性的影响。热处理对离子束溅射SiO2薄膜折射率影响较大,随着热处理温度增加,SiO2薄膜折射率先减小后增大,当热处理温度为550℃时,折射率达到最小。经过热处理后,SiO2薄膜的弱吸收均得到了降低,在2ppm(1ppm=10-6)左右,当热处理温度为550℃时,获得的SiO2薄膜弱吸收最小仅为1.1ppm。实验结果表明:采用合适的热处理温度,能大大改善离子束溅射SiO2薄膜的折射率和吸收特性。 展开更多

关键词 SIO2薄膜 光学特性 热处理 折射率 弱吸收

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离子束溅射制备氧化物薄膜沉积速率调整方法 被引量：3

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作者 刘华松 傅翾 +7 位作者 季一勤 张锋 陈德应 姜玉刚 刘丹丹 王利栓 冷健 庄克文 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2014年第7期2192-2197,共6页

采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O... 采用正交试验设计方法,系统研究了离子束溅射HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜的沉积速率与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。采用正交表L9(34)设计了9组实验,采用时间监控的离子束溅射沉积方法,分别制备HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜,并对三种薄膜的27个样品采用椭圆偏振法测量并计算物理厚度,继而获得沉积速率。实验结果表明:对Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率影响的工艺参数相同,影响权重从大到小依次为离子束流、离子束压、氧气流量和基板温度;对HfO2薄膜沉积速率影响的工艺参数按权重从大到小依次为离子束流、离子束压、基板温度和氧气流量。研究结果为调整HfO2、Ta2O5和SiO2薄膜沉积速率提供了依据。 展开更多

关键词 离子束溅射 HFO2薄膜 Ta2O5薄膜 SIO2薄膜 沉积速率

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离子束溅射参数与Ta_2O_5薄膜特性的关联性 被引量：2

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作者 刘华松 傅翾 +4 位作者 王利栓 姜玉刚 冷健 庄克文 季一勤 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2013年第7期1770-1775,共6页

离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度... 离子束溅射技术是制备Ta2O5薄膜的重要技术之一。采用正交试验设计方法,系统研究了Ta2O5薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数、沉积速率和应力与工艺参数(基板温度、离子束压、离子束流和氧气流量)之间的关联性。通过使用分光光度计和椭圆偏振仪测量Ta2O5薄膜透过率光谱和反射椭偏特性,再利用全光谱反演计算的方法获得薄膜的折射率、折射率非均匀性、消光系数和物理厚度。Ta2O5薄膜的应力通过测量基底镀膜前后的表面变形量计算得到。实验结果表明:基板温度是影响Ta2O5薄膜特性的共性关键要素,其他工艺参数的选择与需求的薄膜特性相关。研究结果对于制备不同应用的Ta2O5薄膜制备工艺参数选择具有指导意义。 展开更多

关键词 离子束溅射 Ta2O5薄膜 正交实验 光学常数 沉积速率 应力

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ZnS窗口激光防护/中红外增透膜光热仿真

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作者 曹袁睿 王利栓 +3 位作者 刘华松 杨仕琪 孙鹏 钮信尚 《红外与激光工程》 北大核心 2025年第5期304-313,共10页

激光技术的发展给飞行器红外光学系统带来极大挑战,而光学窗口是红外光学系统抗激光损伤的最薄弱环节。文中针对ZnS光学窗口设计了多层薄膜结构,使其在提高3~5μm波段光学透过率的同时,具备对1.06μm激光的防护能力。首先,构建了激光作... 激光技术的发展给飞行器红外光学系统带来极大挑战,而光学窗口是红外光学系统抗激光损伤的最薄弱环节。文中针对ZnS光学窗口设计了多层薄膜结构,使其在提高3~5μm波段光学透过率的同时,具备对1.06μm激光的防护能力。首先,构建了激光作用多层膜的光热响应模型,并通过仿真计算获得了膜层厚度、折射率和消光系数等参数对光学窗口薄膜的光学性能和热效应的影响关系。研究结果表明,以HfO2/SiO2作为多层膜基本膜堆,当最外三层薄膜物理厚度误差在-3.3%~3.3%范围时,膜基界面温度变化最大为27℃,1.06μm波长处反射率和3~5μm波段内平均透过率变化均小于1‰,对多层膜光热性能影响较小;当两种膜层材料的折射率差值增大时,膜层内部电场的变化影响了薄膜的吸收率,使膜基界面温度呈现出先降低后升高的现象;多层膜的膜基界面温度随膜层材料消光系数提高而升高,且低折射率材料对激光热效应的影响权重更大。研究结果可以为激光防护/中红外增透多层膜的抗激光损伤设计和制备提供参考。 展开更多

关键词 激光热效应 有限元分析 多层膜 折射率 厚度误差

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