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共振隧穿二极管的材料结构设计——共振隧穿器件讲座(5) 被引量:3
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作者 郭维廉 《微纳电子技术》 CAS 2006年第8期361-365,392,共6页
在系统细致分析RTD材料结构参数与器件特性参数关系的基础上,确立了RTD材料结构的设计原则和设计方法,并对以SI-GaAs为衬底的RTD分子束外延(MBE)材料生长结构进行了设计。所研制出的RTD参数实测结果证实了此设计方法是正确的。
关键词 共振隧穿二极管 材料结构设计 分子束外延
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RTD的器件结构及制造工艺——共振隧穿器件讲座(6) 被引量:1
2
作者 郭维廉 《微纳电子技术》 CAS 2006年第8期366-371,392,共7页
介绍RTD器件几种主要器件结构及每种器件结构的优、缺点和应用前景,并介绍了RTD通用制造工艺和工艺中的关键问题。
关键词 器件结构 制造工艺 台面和平面结构 混合集成 空气桥 共振隧穿器件
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