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射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜
被引量：
1
1
作者
姜恩永
陈逸飞
+1 位作者
李志青
白海力
《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第7期573-576,共4页
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气...
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.
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关键词
FE-N薄膜
饱和磁化强度
射频磁控溅射
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职称材料
题名
射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜
被引量：
1
1
作者
姜恩永
陈逸飞
李志青
白海力
机构
天津大学现代材料物理研究所
出处
《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第7期573-576,共4页
基金
国家自然科学基金资助项目(50072015)
教育部专项研究博士点基金资助项目(20020056018).
文摘
用射频磁控溅射法分别在具有20nmFe衬底的Si(100)和NaCl单晶基片上成功地制备出具有高饱和磁化强度的Fe-N薄膜.用X射线衍射仪、透射电子显微镜和振动样品磁强计研究了氮气分压和基片温度对Fe-N薄膜相结构和磁性的影响.结果表明,当氮气分压为2.66×10-2Pa,基片温度为100~150℃时,最有利于α-″Fe16N2相的形成.在此条件下制备的Fe-N薄膜的饱和磁化强度高达2.735T,超过纯Fe的饱和磁化强度值.
关键词
FE-N薄膜
饱和磁化强度
射频磁控溅射
Keywords
Fe-N thin films
saturation magnetization
radio frequeney magnetron sputtering
分类号
O482.54 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
射频磁控溅射高饱和磁化强度Fe-N薄膜
姜恩永
陈逸飞
李志青
白海力
《天津大学学报（自然科学与工程技术版）》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
1
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