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网络控制系统信道调度和控制器协同设计 被引量:1
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作者 王丽媛 岳伟 庄严 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第6期636-642,共7页
以网络控制系统为研究对象,讨论信道受限和丢包对系统性能的影响.假设在任意采样时刻只有部分系统可以接入信道,且系统在进行数据传输时会发生丢包现象.首先,将丢包过程描述为独立的伯努利过程,根据每个系统的信道接入状态,建立系统的... 以网络控制系统为研究对象,讨论信道受限和丢包对系统性能的影响.假设在任意采样时刻只有部分系统可以接入信道,且系统在进行数据传输时会发生丢包现象.首先,将丢包过程描述为独立的伯努利过程,根据每个系统的信道接入状态,建立系统的切换模型;然后,利用平均驻留时间技术,得到系统指数均方稳定的充分条件以及信道的可调度条件;最后,根据以上结果,给出系统信道调度策略和控制器的协同设计算法,使得系统镇定的同时具有理想的衰减率. 展开更多
关键词 网络控制系统 信道受限 丢包 指数均方稳定
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高温应力下SiO_(2)/SiC近界面碳缺陷的结构与电子特性演变 被引量:1
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作者 丁攀 尉升升 +3 位作者 张圆 白娇 苏艳 王德君 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第7期557-562,576,共7页
SiO_(2)/SiC近界面碳缺陷是引起高温应力下SiC MOSFET可靠性劣化的主要根源。采用第一性原理密度泛函理论结合分子动力学,模拟计算了高温应力(425~625 K,间隔100 K)对SiO_(2)/SiC近界面碳缺陷(如羧基类、碳二聚体、碳三聚体等缺陷)结构... SiO_(2)/SiC近界面碳缺陷是引起高温应力下SiC MOSFET可靠性劣化的主要根源。采用第一性原理密度泛函理论结合分子动力学,模拟计算了高温应力(425~625 K,间隔100 K)对SiO_(2)/SiC近界面碳缺陷(如羧基类、碳二聚体、碳三聚体等缺陷)结构和电子特性的影响。计算结果表明:施加高温应力后,羧基类碳缺陷结构稳定;碳二聚体缺陷的碳碳双键(C═C)转变为碳碳单键(C—C),且无法在SiC带隙中引入电荷态;碳三聚体缺陷在施加高温应力后转变为新的C═C和碳氧双键(C═O)复合缺陷。这种复合缺陷在SiC的价带顶和导带底附近均引入了缺陷态,有较强的电子捕获能力,是SiC MOSFET在高温应力下性能不稳定的主要因素。 展开更多
关键词 碳化硅(SiC) 界面碳缺陷 高温应力 电子结构 电子捕获
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自适应融合目标和背景的图像特征提取方法 被引量:34
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作者 于来行 冯林 +1 位作者 张晶 刘胜蓝 《计算机辅助设计与图形学学报》 EI CSCD 北大核心 2016年第8期1250-1259,共10页
针对现有基于结构元描述的图像特征提取算法缺少连续像素或结构元的相关性描述,对图像特征的区分能力不足的问题.通过定义新的结构元和自适应向量融合模型,并引入连通粒概念,提出一种加权量化方法对图像目标和背景进行自适应融合.首先... 针对现有基于结构元描述的图像特征提取算法缺少连续像素或结构元的相关性描述,对图像特征的区分能力不足的问题.通过定义新的结构元和自适应向量融合模型,并引入连通粒概念,提出一种加权量化方法对图像目标和背景进行自适应融合.首先根据视觉选择特性定义9种新的结构元,并且构建了连通粒属性及分层统计模型;然后通过颜色转换和结构元匹配生成相应的映射子图,从中提取统计结构元和连通性特征向量;最后利用自适应向量融合模型把各分量合并为一组特征向量用于图像检索.在3个Corel数据集上的实验结果表明,与其他算法相比,文中方法性能更稳定,能达到更高的检索精度;该方法既能描述图像的全局特征,又能反映图像的局部细节信息. 展开更多
关键词 图像检索 图像特征提取 结构元 连通粒
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一种新的模糊稀疏表示人脸识别算法 被引量:8
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作者 李懿 刘晓东 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第2期189-194,共6页
稀疏表示人脸识别算法的主要思想是:一个未知的测试图像可以近似表示为所有与其隶属同类的训练样本的一个线性组合.然而,人脸之间存在着极大的相似性,同时易受到外部环境的影响,人脸分类的本身存在着一定的不确定性.针对这种不确定性,... 稀疏表示人脸识别算法的主要思想是:一个未知的测试图像可以近似表示为所有与其隶属同类的训练样本的一个线性组合.然而,人脸之间存在着极大的相似性,同时易受到外部环境的影响,人脸分类的本身存在着一定的不确定性.针对这种不确定性,结合模糊集合理论,提出了一种新的模糊稀疏表示人脸识别算法.首先,引入一个非线性函数描述人脸的相似性程度.然后,基于该相似性度量以及最近邻分类器思想,定义一个自适应的模糊隶属度函数来分配人脸对类的隶属程度.而这一过程恰使得这些隶属度是稀疏化的.最后,将稀疏化的模糊隶属度作为训练样本表示测试样本的权值系数,进而重构测试图像.采用MATLAB在ORL和Yale人脸数据库上进行仿真实验,验证了该算法的有效性和稳定性. 展开更多
关键词 人脸识别 模式识别 相似度 模糊隶属度 稀疏表示 最近邻分类器
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基于基元相关性描述子的图像检索 被引量:3
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作者 吴俊 刘胜蓝 +1 位作者 冯林 于来行 《计算机研究与发展》 EI CSCD 北大核心 2016年第12期2824-2835,共12页
图像检索系统性能很大程度上取决于提取的图像描述子,其中颜色差分直方图(color difference histogram,CDH)已经在图像检索中显示出了较好的性能.但是这种描述子仍然有一定的局限性:1)只考虑到了像素间颜色差分的整体分布;2)忽略像素间... 图像检索系统性能很大程度上取决于提取的图像描述子,其中颜色差分直方图(color difference histogram,CDH)已经在图像检索中显示出了较好的性能.但是这种描述子仍然有一定的局限性:1)只考虑到了像素间颜色差分的整体分布;2)忽略像素间的空间位置分布.因此提出了1种新的基元相关性描述子(texton correlation descriptor,TCD)提取图像特征,并将其应用于图像检索系统中.具体提取过程分为3个步骤:1)利用图像底层特征(颜色和局部二值模式)检测一致性区域,选择图像中包含区分性信息的局部区域;2)提出颜色差分特征和基元频率特征分别描述图像像素间的对比度和空间位置信息,其中颜色差分特征融合了描述局部邻域的颜色差分相关性统计和全局颜色差分直方图,基元频率特征也融合了描述局部邻域的基元频率相关性和基元频率直方图;3)联合一致性区域中的这2种特征得到最后的TCD描述子.这种特征描述了图像中2种互相独立并互相补充的特性:对比度和空间位置关系,并同时考虑到了这2种特性在局部和全局区域中的描述,因此在图像检索实验中会有更好的性能.在图像数据集中的实验结果显示了TCD描述子的检索效果明显优于其他几种特征描述子,证实了TCD描述子在图像检索中的有效性和稳定性. 展开更多
关键词 基元相关性描述子 一致性区域 颜色差分特征 基元频率特征 图像检索
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基于半圆形局部二值模式结构相关性描述子的图像检索 被引量:1
6
作者 李莉 冯林 +1 位作者 吴俊 刘胜蓝 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2016年第5期532-538,共7页
针对传统的结构基元方法缺少对不同量化颜色层中的中心像素点与其潜在邻居的相似性信息描述问题,提出了一种半圆形局部二值模式结构相关性描述子,并将其应用在图像检索中.首先,定义了一种新的半圆形局部二值模式结构基元;其次,检测不同... 针对传统的结构基元方法缺少对不同量化颜色层中的中心像素点与其潜在邻居的相似性信息描述问题,提出了一种半圆形局部二值模式结构相关性描述子,并将其应用在图像检索中.首先,定义了一种新的半圆形局部二值模式结构基元;其次,检测不同量化颜色层中的结构基元;最后,提取新结构基元的空间分布和对比度特征.相比传统的结构基元方法,提出的描述子检测的结构基元更加丰富,包含更多可能的结构区分性.在不同图像库上的实验结果表明了所提方法的有效性. 展开更多
关键词 局部二值模式 基元频率特征 颜色差分特征 图像检索
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栅氧化层及界面电荷对SiC MOSFET阈值电压稳定性的影响 被引量:3
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作者 刘兆慧 尉升升 +2 位作者 于洪权 尹志鹏 王德君 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第6期463-469,共7页
阈值电压不稳定是SiC MOSFET的一个主要问题,而栅氧化层及界面电荷是引起器件阈值电压不稳定的关键因素。结合三角波电压扫描法和中带电压法提取了SiC MOSFET中的栅氧化层陷阱电荷面密度、界面陷阱电荷面密度和可动电荷面密度随应力时... 阈值电压不稳定是SiC MOSFET的一个主要问题,而栅氧化层及界面电荷是引起器件阈值电压不稳定的关键因素。结合三角波电压扫描法和中带电压法提取了SiC MOSFET中的栅氧化层陷阱电荷面密度、界面陷阱电荷面密度和可动电荷面密度随应力时间的变化量,总结了三种电荷面密度变化量在不同应力时间下的变化规律,分析了其对器件阈值电压不稳定性的影响,同时推测了长时间偏压作用下SiC MOSFET阈值电压稳定性的劣化机制。测试结果表明,栅氧化层陷阱电荷面密度、界面陷阱电荷面密度和可动电荷面密度在不同偏压温度下随应力时间的变化规律不同,常温应力下器件阈值电压稳定性劣化主要与栅氧化层陷阱电荷有关,而高温下,则主要与界面陷阱电荷有关。 展开更多
关键词 SiC MOSFET 阈值电压不稳定性 栅氧化层陷阱电荷 界面陷阱电荷 可动电荷
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SiC掺氯热氧化技术与SiC MOS电容偏压温度不稳定性
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作者 于洪权 尉升升 +4 位作者 刘兆慧 尹志鹏 白娇 谢威威 王德君 《半导体技术》 CAS 北大核心 2023年第5期380-388,共9页
偏压温度不稳定性(BTI)是影响SiC MOS器件性能的关键因素。提出了一种制备SiC MOS电容的新工艺,即在SiC干氧氧化气氛中掺入氯化氢(HCl),并对比了不同HCl与O_(2)体积流量比对SiC MOS电容电学性能的影响。结果表明,该工艺有效地改善了SiC ... 偏压温度不稳定性(BTI)是影响SiC MOS器件性能的关键因素。提出了一种制备SiC MOS电容的新工艺,即在SiC干氧氧化气氛中掺入氯化氢(HCl),并对比了不同HCl与O_(2)体积流量比对SiC MOS电容电学性能的影响。结果表明,该工艺有效地改善了SiC MOS电容的栅氧击穿特性,降低了界面态密度,提升了平带电压稳定性。二次离子质谱(SIMS)和X射线光电子能谱(XPS)测试分析表明,掺氯热氧化技术能够有效消除界面缺陷。进一步分析表明,SiC掺氯热氧化技术能够降低可动离子面密度和氧化层陷阱电荷密度,能够有效改善器件的BTI特性。 展开更多
关键词 碳化硅 MOS电容 热氧化 偏压温度不稳定性(BTI) 阈值电压漂移
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