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碳素钢强流脉冲电子束处理后的表面火山口状凹坑研究 被引量:11
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作者 邹慧 邹建新 +4 位作者 陈亚军 吴爱民 关庆丰 张庆瑜 董闯 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期343-346,共4页
利用强流脉冲电子束 (HCPEB)技术对碳素钢进行了表面改性处理。利用扫描电镜 (SEM)和X射线衍射 (XRD)对改性试样的表面性质进行了分析 ,结果表明 :样品表面出现了“火山坑”状的凹坑 ,淬火态T8凹坑数量比 4 5 # 钢少 ,凹坑深度比4 5 # ... 利用强流脉冲电子束 (HCPEB)技术对碳素钢进行了表面改性处理。利用扫描电镜 (SEM)和X射线衍射 (XRD)对改性试样的表面性质进行了分析 ,结果表明 :样品表面出现了“火山坑”状的凹坑 ,淬火态T8凹坑数量比 4 5 # 钢少 ,凹坑深度比4 5 # 钢深。凹坑的密度与输入的能量密度成正比关系 ;此外 ,凹坑的分布密度先随轰击次数 (n =1~ 5 )的增加而增加 ,随后 (n=6~ 10 )略有降低 ;分析表明凹坑的形成及分布与位错密度密切相关。 展开更多
关键词 强流脉冲电子束 碳素钢 凹坑 45#钢 表面 淬火 位错密度 分布密度 量比 次数
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梨枣叶片和茎段再生体系的建立(英文) 被引量:19
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作者 尹美强 王玉国 +1 位作者 温银元 赵娟 《西北植物学报》 CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1954-1959,共6页
用不同浓度配比的生长素和细胞分裂素诱导梨枣叶片和茎段愈伤组织的产生,并研究了不定芽诱导的最佳配方,建立了梨枣叶片和茎段的再生体系。结果表明,梨枣叶片愈伤组织诱导的最佳培养基为M S+2,4-D 1.5m g.L-1+6-BA 0.5 m g.L-1;茎段为M ... 用不同浓度配比的生长素和细胞分裂素诱导梨枣叶片和茎段愈伤组织的产生,并研究了不定芽诱导的最佳配方,建立了梨枣叶片和茎段的再生体系。结果表明,梨枣叶片愈伤组织诱导的最佳培养基为M S+2,4-D 1.5m g.L-1+6-BA 0.5 m g.L-1;茎段为M S+2,4-D 1.0 m g.L-1+6-BA 0.5 m g.L-1。叶片不定芽诱导的最佳培养基为M S+IBA 0.1 m g.L-1+6-BA 1.5 m g.L-1。A gNO3能阻止叶片外植体褐化并有效地促进叶片愈伤组织分化。茎段能在同一培养基上产生愈伤组织并直接分化出不定芽。 展开更多
关键词 梨枣 叶片 茎段 再生体系
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等离子喷涂法纳米结构WC-12Co涂层的微结构与形成机理的研究 被引量:16
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作者 李博宇 董星龙 +2 位作者 刘圆圆 杨明川 刘方军 《材料工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期40-45,共6页
使用独特的雾化干燥结合固定床技术合成WC-12Co纳米复合粉体,利用等离子喷涂法制备纳米结构WC-12Co涂层,通过X射线衍射、扫描电镜、透射电镜等分析手段对等离子喷涂纳米结构WC-12Co涂层进行显微结构分析。结果表明涂层中除了WC相,不仅有... 使用独特的雾化干燥结合固定床技术合成WC-12Co纳米复合粉体,利用等离子喷涂法制备纳米结构WC-12Co涂层,通过X射线衍射、扫描电镜、透射电镜等分析手段对等离子喷涂纳米结构WC-12Co涂层进行显微结构分析。结果表明涂层中除了WC相,不仅有W2C,W等非WC/Co相的产生,还出现了CoXWyCz(Co3W9C4,Co3W3C),Co3C等相及非晶和孪晶组织,在此基础上本工作将对等离子喷涂纳米结构WC-12Co涂层的形成机理作初步的研究与讨论。 展开更多
关键词 等离子喷涂 纳米复合粉体 纳米结构涂层 显微结构 形成机理
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磁控溅射与电弧离子镀制备TiN薄膜的比较 被引量:14
4
作者 李鹏 黄美东 +3 位作者 佟莉娜 张琳琳 王丽格 李晓娜 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2011年第2期32-37,共6页
分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉... 分别采用磁控溅射和电弧离子镀在抛光后的W18Cr4V高速钢基体表面沉积TiN膜层,利用纳米力学系统、扫描电子显微镜(SEM)和X射线衍射仪(XRD)对薄膜进行测试,比较了两种方法所制备的薄膜的异同.结果表明:磁控溅射所制备的薄膜表面平整,但沉积速率和硬度均低于电弧离子镀制备的薄膜. 展开更多
关键词 TIN 磁控溅射 电弧离子镀
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非晶碳氢薄膜结构及光学间隙 被引量:6
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作者 刘东平 李芳 +1 位作者 俞世吉 马腾才 《材料科学与工艺》 EI CAS CSCD 2000年第2期58-61,共4页
利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢... 利用完全抑制网络结构 (FCN)对氢化非晶碳 (α -C :H)膜组成进行模拟计算 ,得出形成质密α -C :H膜条件是H、SP2 C和SP3 C在其三元相图中应在一个三角形区域内 .大量实验数据表明 ,模拟结果与实验结果相当吻合 .在α -C :H中主要存在氢、四面体碳、乙烯、苯环和双苯等结构 ,它们相对含量在三角形区域内变化 .该理论模拟对薄膜光学间隙的实验分析给予了很好的解释 . 展开更多
关键词 氢化非晶碳膜 光学间隙 FCN 结构 DLC
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镱铒共掺Al_2O_3薄膜光致发光特性优化 被引量:5
6
作者 李建勇 王丽阁 +2 位作者 李成仁 刘中凡 宋昌烈 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第11期1746-1751,共6页
用中频磁控溅射方法在SiO2/Si基底上制备了五组固定掺铒浓度不同镱铒浓度比率的镱铒共掺Al2O3薄膜样品.室温下测量了薄膜在1.430μm^1.630μm波段范围内光致发光光谱.研究发现,镱的掺入有效地提高了三价铒离子的光致发光强度,最优的镱... 用中频磁控溅射方法在SiO2/Si基底上制备了五组固定掺铒浓度不同镱铒浓度比率的镱铒共掺Al2O3薄膜样品.室温下测量了薄膜在1.430μm^1.630μm波段范围内光致发光光谱.研究发现,镱的掺入有效地提高了三价铒离子的光致发光强度,最优的镱铒掺杂为:掺铒0.33 mol%,Yb3+∶Er3+=10∶1,比相同掺铒浓度单掺铒样品光致发光峰值强度增强40倍;确定的掺铒浓度,有着固定的最佳镱铒浓度比率,主要是镱铒离子间的正向和反向能量传递相互作用的结果,但最佳镱铒浓度比率随着掺铒浓度的增加呈现下降趋势;单掺铒薄膜的光致发光峰值强度随掺铒浓度呈现近Gauss形状变化,而最佳镱铒共掺样品的光致发光峰值强度随掺铒浓度呈现了倒Gauss形状变化. 展开更多
关键词 光波导放大器 Yb^3+/Er^3+共掺Al2O3薄膜 中频磁控溅射 光致发光光谱
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微波-ECR等离子体辅助沉积Zr-N薄膜结构和性能研究 被引量:3
7
作者 刘天伟 邓新禄 +2 位作者 王小英 王英敏 董闯 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第5期334-338,342,共6页
在不同氮流量下 ,利用微波 ECR等离子体溅射沉积技术在 4 5 # 钢基体上制备了ZrN薄膜。XRD、TEM分析结果表明 :随着充入N2 流量的改变 ,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx 复合结构转变 ,然后出现非晶态结构。当N2 流量在 (2~ 8)scc... 在不同氮流量下 ,利用微波 ECR等离子体溅射沉积技术在 4 5 # 钢基体上制备了ZrN薄膜。XRD、TEM分析结果表明 :随着充入N2 流量的改变 ,薄膜结构由单一的ZrN结构向ZrN和ZrNx 复合结构转变 ,然后出现非晶态结构。当N2 流量在 (2~ 8)sccm之间 ,薄膜为ZrN结构 ;在 (10~ 12 )sccm时 ,为ZrN和正交的ZrNx(a =0 35 85nm ,b =0 4 4 4 3nm ,c =0 5 798nm)混合型结构 ;14sccm时出现非晶化趋势。俄歇电子谱仪 (AES)和探针分析表明 :薄膜中氮含量为 7 73%~ 6 6 96 %。同时对薄膜的硬度进行了测试 ,薄膜硬度在 19 82GPa~ 2 6 32GPa之间 ,随氮值的变化 ,先增加后降低。对硬度最高的 4 # 样品进行了摩擦性能测试 ,磨损率约 4 5× 10 -8mg/min。薄膜这些性能的变化是由于不同氮流量下薄膜结构发生变化造成的。 展开更多
关键词 薄膜结构 等离子体 俄歇电子谱 溅射沉积 正交 非晶态结构 XRD 薄膜硬度 钢基体 45^#钢
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铝基复合材料表面多层复合厚膜的研究 被引量:5
8
作者 彭丽平 王兆松 +5 位作者 李剑锋 吕世功 王春 武洪臣 巩水利 李国卿 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2010年第5期505-509,共5页
对含50%AlN颗粒的铝基复合材料进行预处理后,在其表面依次采用浸锌化学镀镍工艺制备Ni-P过渡层,采用脉冲偏压磁过滤多弧离子镀工艺沉积硬质Ti/TiN调制周期膜,采用脉冲等离子体化学气相沉积工艺制备含氢类金刚石(DLC)膜等工艺最后形成了... 对含50%AlN颗粒的铝基复合材料进行预处理后,在其表面依次采用浸锌化学镀镍工艺制备Ni-P过渡层,采用脉冲偏压磁过滤多弧离子镀工艺沉积硬质Ti/TiN调制周期膜,采用脉冲等离子体化学气相沉积工艺制备含氢类金刚石(DLC)膜等工艺最后形成了多层复合薄膜体系。利用X射线衍射仪、扫描电子显微镜、光谱仪、原子力显微镜、微载荷显微硬度仪、摩擦磨损试验机等设备分析了复合薄膜的组织结构、膜层形貌、截面形貌、显微硬度和摩擦系数等性能特点。测试表明:铝基复合材料/Ni-P层/Ti/TiN调制周期膜/含氢DLC膜这一梯度膜系具有结构交替变化,相邻界面形成混合层,性能梯度分布,硬度逐渐增加,摩擦系数小的特点。该复合工艺能够有效地解决铝基复合材料上制备硬质厚膜的热适配和晶格错配度大的难题,制备薄膜具有良好的膜基结合性能。 展开更多
关键词 多层复合膜 Ti/TiN调制周期膜 类金刚石膜 摩擦系数 结合力
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n型InP(100)衬底上电沉积氧化锌薄膜的制备及光致发光(英文) 被引量:3
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作者 翁占坤 刘爱民 +1 位作者 刘艳红 胡增权 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第2期283-288,共6页
采用电化学沉积方法在n型InP(100)(1016)衬底上制备了氧化锌薄膜。探索线性扫描伏安法确定InP与0.1mol/LZn(NO3)2电解液的体系中沉积氧化锌的极化电势,在20℃溶液中,相对于甘汞电极(SCE)的极化电势为-1.1877V。扫描电镜照片显示:随着应... 采用电化学沉积方法在n型InP(100)(1016)衬底上制备了氧化锌薄膜。探索线性扫描伏安法确定InP与0.1mol/LZn(NO3)2电解液的体系中沉积氧化锌的极化电势,在20℃溶液中,相对于甘汞电极(SCE)的极化电势为-1.1877V。扫描电镜照片显示:随着应用电势的降低,氧化锌薄膜变得紧密平滑;狭窄的X射线衍射峰也说明低电势下薄膜的结晶质量较好。光荧光表征发现低电势下制备的氧化锌薄膜具有良好的发光特性。 展开更多
关键词 氧化锌薄膜 电沉积 X射线衍射 光致发光
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切削刀具测温传感器SiO_2多层复合绝缘薄膜的制备及其性能表征 被引量:3
10
作者 崔云先 杨德顺 +2 位作者 孙宝元 贾颖 徐军 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第11期1850-1852,1856,共4页
利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术成功制备了切削刀具测温传感器的SiO2多层复合绝缘薄膜,研究了SiO2多层复合绝缘薄膜的制备工艺。通过扫描电镜、原子力显微镜、台阶仪和XPS对SiO2功能薄膜的表面形貌、膜厚及成分进... 利用双放电腔微波ECR等离子体增强非平衡磁控溅射技术成功制备了切削刀具测温传感器的SiO2多层复合绝缘薄膜,研究了SiO2多层复合绝缘薄膜的制备工艺。通过扫描电镜、原子力显微镜、台阶仪和XPS对SiO2功能薄膜的表面形貌、膜厚及成分进行了观测,结果表明,制备的多层复合SiO2薄膜厚度小、绝缘性好,绝缘电阻达到9.5×1012Ω。其与金属基体结合力可达16.7N,满足制作切削刀具测温传感器的要求。 展开更多
关键词 切削刀具 测温传感器 SiO2绝缘薄膜 多层复合 磁控溅射
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化学气相沉积SiC材料超光滑表面纳米加工 被引量:2
11
作者 公发全 肖鹏 +3 位作者 黄润兰 李刚 刘万发 董闯 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第2期327-329,共3页
利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱... 利用传统光学加工方法,采用陶瓷磨盘和金刚石微粉对国产化学气相沉积(CVD)SiC进行了粗磨、细磨加工;然后,利用颗粒直径从4μm到1μm的金刚石研磨膏逐级进行抛光,发现SiC表面存在纳米级划痕;最后,改用颗粒直径为20 nm氧化铝纳米颗粒的碱性水溶液进行抛光,表面粗糙度达到0.6 nm(RMS),表面纳米级划痕得到很好改善,获得了较高表面质量的超光滑表面。 展开更多
关键词 化学气相沉积 SIC材料 光学加工 超光滑表面 纳米加工 表面粗糙度
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钼和硫同步注入9Cr18不锈钢的摩擦磨损性能
12
作者 朱民 张涛 +2 位作者 宋教花 车俊铁 李国卿 《北京师范大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2005年第1期50-53,共4页
钼和硫2种离子同步注入9Cr18不锈钢样品.用针盘摩擦磨损实验机测定了注入样品的耐磨性能,用俄歇电 子能谱仪(AES)测量注入样品成分深度分布,并检测了样品硬度.与钼或硫单独注入9Cr18样品相比,钼和硫的同步注 入使样品的摩擦因数和... 钼和硫2种离子同步注入9Cr18不锈钢样品.用针盘摩擦磨损实验机测定了注入样品的耐磨性能,用俄歇电 子能谱仪(AES)测量注入样品成分深度分布,并检测了样品硬度.与钼或硫单独注入9Cr18样品相比,钼和硫的同步注 入使样品的摩擦因数和磨损寿命显著改善,此改性效果与注入层中注入的元素分布的叠加有关.采用计算机模拟了注入 过程,模拟的结果有助于揭示改性层的特点和注入增强效果的机制. 展开更多
关键词 材料表面 离子束 摩擦磨损
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中等尺寸Si_N团簇结构和相对稳定性的研究(21≤N≤50,N=60)(英文) 被引量:1
13
作者 马丽 赵纪军 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 2007年第4期653-661,共9页
在过去二十年里,对中等尺寸硅团簇的研究一直十分活跃.为阐明低能团簇从中等到大尺寸的生长行为,我们对SiN团簇在21≤N≤50,和N=60的结构和相对稳定性进行论述.对Si21-Si29,除Si27外最低能量结构是扁长形.对N≥30,SiN团簇倾向于形成填... 在过去二十年里,对中等尺寸硅团簇的研究一直十分活跃.为阐明低能团簇从中等到大尺寸的生长行为,我们对SiN团簇在21≤N≤50,和N=60的结构和相对稳定性进行论述.对Si21-Si29,除Si27外最低能量结构是扁长形.对N≥30,SiN团簇倾向于形成填充富勒烯结构.随着团簇尺寸的增大(N≥41),内部开始出现四面体结构,可视为金刚石晶格结构形成的初始阶段.当团簇尺寸达到N=60时,其已偏离小团簇的类分子行为,但向块体结构的转变还没完成.中等尺寸硅团簇的填充富勒烯结构可以被看作是从类分子向块体过渡的中间阶段. 展开更多
关键词 硅团簇 结构 相对稳定性 生长行为
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射频磁控溅射参数对AlN薄膜光学性能的影响
14
作者 徐清 侯兴刚 +4 位作者 孙刚峰 吉亚萍 黄美东 林国强 董闯 《天津师范大学学报(自然科学版)》 CAS 北大核心 2009年第2期31-34,共4页
采用高真空射频磁控溅射技术,在玻璃基片上,分别于不同沉积条件下制备了AlN系列薄膜,测量了从紫外到近红外波段AlN系列薄膜的透射率谱线,利用一种较简单的透射谱包络线法,对薄膜的光学常数进行拟合分析.研究表明,气体流量和工作气压是... 采用高真空射频磁控溅射技术,在玻璃基片上,分别于不同沉积条件下制备了AlN系列薄膜,测量了从紫外到近红外波段AlN系列薄膜的透射率谱线,利用一种较简单的透射谱包络线法,对薄膜的光学常数进行拟合分析.研究表明,气体流量和工作气压是影响薄膜光学性能的重要参数;在镀膜过程中,增加氮气流量能使铝充分地与氮气结合,有利于薄膜折射率的提高,而在较低的工作气压下获得的薄膜的折射率较大. 展开更多
关键词 ALN薄膜 透射谱 折射率 沉积速率
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