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无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制
被引量：
4
1
作者
丁明清
陈长青
+3 位作者
白国栋
李含雁
冯进军
胡银富
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期661-665,共5页
利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑...
利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑金刚石膜。拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低;透过率测试结果说明了优良的光学性能：截止波长225 nm,光学透过率（λ≥2.5μm）≥70%。
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关键词
微波等离子体
化学气相沉积
无支撑金刚石膜
光学透过率
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职称材料
题名
无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制
被引量：
4
1
作者
丁明清
陈长青
白国栋
李含雁
冯进军
胡银富
机构
大功率微波电真空器件技术国防科技重点实验室北京真空电子技术研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011年第6期661-665,共5页
基金
国防科技重点实验室基金项目
文摘
利用引进的6 kW微波等离子体化学气相沉积设备,进行了无支撑金刚石膜工艺的初步研究。在800~1050℃的基片温度范围内,金刚石膜都呈（111）择优取向;基片相对位置对沉积较大面积、光学级金刚石膜至关重要。制出0.25 mm厚Φ50 mm的无支撑金刚石膜。拉曼光谱和X射线衍射分析表明,合成的金刚石膜晶体结构完整,sp2含量极低;透过率测试结果说明了优良的光学性能：截止波长225 nm,光学透过率（λ≥2.5μm）≥70%。
关键词
微波等离子体
化学气相沉积
无支撑金刚石膜
光学透过率
Keywords
Microwave plasma
Chemical vapor deposition
Free standing diamond films
Optical transmission
分类号
TB75 [一般工业技术—真空技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
无支撑、光学级MPCVD金刚石膜的研制
丁明清
陈长青
白国栋
李含雁
冯进军
胡银富
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2011
4
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