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ANSYS在VLSI互连模拟中的应用 被引量:2
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作者 阮刚 梁庆龙 +3 位作者 ReinhardStreiter 宋任儒 ThomasOtto ThomasGessner 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2000年第1期53-56,共4页
介绍了ANSYS程序在VLSI互连几何最佳化设计中的初步应用。应用表明:ANSYS的模拟精度高,图形显示功能强。应用ANSYS自动寻优功能使RC延迟最佳化几何参数的寻找较为迅速和直观。
关键词 集成电路 互连模拟 ANSYS模拟程序 VLSI
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铁电薄膜的特性、制备及应用 被引量:1
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作者 汤庭鳌 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 1996年第6期1-7,共7页
铁电薄膜材料具有自发极化,且其方向随外电场反转.它还具有压电效应、热释电效应等,因此在不挥发存贮器、压力传感器、红外传感器等方面有广泛的应用。铁电薄膜制备工艺与标准CMOS工艺、双极型集成电路工艺以及GaAs集成电路... 铁电薄膜材料具有自发极化,且其方向随外电场反转.它还具有压电效应、热释电效应等,因此在不挥发存贮器、压力传感器、红外传感器等方面有广泛的应用。铁电薄膜制备工艺与标准CMOS工艺、双极型集成电路工艺以及GaAs集成电路工艺相容,使集成铁电技术取得长足的发展。一门崭新的集半导体、电介质等学科于一体的集成铁电学正在崛起。 展开更多
关键词 铁电薄膜 不挥发 存贮器 压力传感器 红外传感器
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