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原子层淀积Al_2O_3薄膜的热稳定性研究被引量：16: 1; 作者卢红亮徐敏 +2 位作者丁士进任杰张卫《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1217-1222,共6页; 以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜．采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究．结果表... 展开更多; 关键词 AL2O3薄膜原子层淀积(ALD) X射线光电子能谱(XPS); 在线阅读下载PDF 职称材料

原子层淀积制备金属氧化物薄膜研究进展被引量：2: 2; 作者卢红亮徐敏 +4 位作者张剑云陈玮任杰张卫王季陶《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期809-812,816,共5页; 原子层淀积(ALD)技术作为一种先进的薄膜制备方法近年来越来越得到重视,它能精确地控制薄膜的厚度和组分,实现原子层级的生长,生长的薄膜具有很好的均匀性和保形性,因而在微电子和光电子等领域有广泛的应用前景。本文综述了ALD技术的基... 展开更多; 关键词原子层淀积(ALD) 金属氧化物薄膜高K材料; 在线阅读下载PDF 职称材料

基于二维金属亚波长孔阵列结构的MEMS红外辐射源特性研究: 3; 作者姚翔肖功利 +3 位作者纪新明周嘉包宗明黄宜平《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1550-1554,共5页; 以MEMS红外气敏传感器为应用目标,采用MEMS技术设计和制作一种二维金属亚波长孔阵列结构红外辐射源。探讨了不同厚度SU-8膜对金属/电介质/金属(M/D/M)二维金属亚波长孔阵列结构在中远红外波段透射特性的影响。设计并制作了Au/SU-8/Au的M... 展开更多; 关键词表面等离子体共振效应二维金属亚波长孔阵列结构 SU-8膜的厚度透射增强特性; 在线阅读下载PDF 职称材料

Ge_2Sb_2Te_5材料与非挥发相转变存储器单元器件特性被引量：2: 4; 作者凌云林殷茵 +6 位作者赖连章乔保卫赖云锋冯洁汤庭鳌蔡炳初 Bomy.Chen 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1196-1199,共4页; 对Ge2Sb2Te5材料的结构、形貌和电学特性进行了表征,将材料应用于不挥发存储单元器件中并研究了器件性能。研究了退火温度对薄膜电阻率的影响,发现在从高阻向低阻状态转变的过程中,电阻率下降的趋势发生变化,形成拐点,分析表明这是由于... 展开更多; 关键词非晶半导体阈值电压相变存储器; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名原子层淀积Al_2O_3薄膜的热稳定性研究被引量：16: 1; 作者卢红亮徐敏丁士进任杰张卫; 机构复旦大学微电子学系asic与系统国家重点实验室; 出处《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期1217-1222,共6页; 基金国家自然科学基金(60176013) 上海市科委重点项目(04JC04013); 文摘以Al(CH3)3和H2O为反应源,在270℃下用原子层淀积(ALD)技术在Si衬底上生长了Al2O3薄膜．采用X射线衍射(XRD)、X射线光电子能谱(XPS)、原子力显微镜(AFM)和傅立叶变换红外光谱(FTIR)等分析手段对Al2O3薄膜的热稳定性进行了研究．结果表明刚淀积的薄膜中含有少量Al-OH基团,高温退火后,Al-OH基团几乎消失,这归因于Al-OH基团之间发生反应而脱水．退火后的薄膜中O和Al元素的相对比例(1．52)比退火前的(1．57)更接近化学计量比的Al2O3．FTIR分析表明,在刚淀积的Al2O3中有少量的-CH3存在,-CH3含量会随热处理温度的升高而减少．此外,在高温快速热退火后,Al2O3薄膜的表面平均粗糙度(RMS)明显改善,900℃热退火后其RMS达到1．15nm．; 关键词 AL2O3薄膜原子层淀积(ALD) X射线光电子能谱(XPS); Keywords s Al2O3 thin film atomic layer deposition X-ray photoemission SDeCtroscoDv （XPS）; 分类号 O484 [理学—固体物理] TN305 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名原子层淀积制备金属氧化物薄膜研究进展被引量：2: 2; 作者卢红亮徐敏张剑云陈玮任杰张卫王季陶; 机构复旦大学微电子学系asic与系统国家重点实验室; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第6期809-812,816,共5页; 基金国家自然科学基金资助项目(60176013) 上海市科委重点资助项目(04JC14013); 文摘原子层淀积(ALD)技术作为一种先进的薄膜制备方法近年来越来越得到重视,它能精确地控制薄膜的厚度和组分,实现原子层级的生长,生长的薄膜具有很好的均匀性和保形性,因而在微电子和光电子等领域有广泛的应用前景。本文综述了ALD技术的基本原理,及其在金属氧化物薄膜制备上的研究进展。; 关键词原子层淀积(ALD) 金属氧化物薄膜高K材料; Keywords atomic layer deposition metal oxide films high-k dielectrics; 分类号 TB43 [一般工业技术] TN305.5 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名基于二维金属亚波长孔阵列结构的MEMS红外辐射源特性研究: 3; 作者姚翔肖功利纪新明周嘉包宗明黄宜平; 机构复旦大学微电子学系asic与系统国家重点实验室桂林电子科技大学信息与通信学院; 出处《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2010年第11期1550-1554,共5页; 基金国家自然科学基金资助项目(60906054) 教育部博士研究生基金(20070246099); 文摘以MEMS红外气敏传感器为应用目标,采用MEMS技术设计和制作一种二维金属亚波长孔阵列结构红外辐射源。探讨了不同厚度SU-8膜对金属/电介质/金属(M/D/M)二维金属亚波长孔阵列结构在中远红外波段透射特性的影响。设计并制作了Au/SU-8/Au的M/D/M结构,测试采用傅里叶变换红外光谱仪器。同时对M/D/M结构不同电介质层情况下的中远红外波段透射特性进行了模拟。实验结果表明,SU-8厚度在小于1μm时,透射强度远大于厚度1μm以上的结构,且有透射强度最大值出现(SU-8厚度为360nm),同时,随着SU-8厚度的增加,透射谱峰值呈现规律性红移。; 关键词表面等离子体共振效应二维金属亚波长孔阵列结构 SU-8膜的厚度透射增强特性; Keywords two-dimensional metallic sub-wavelength hole arrays SU-8 layer thickness transmission; 分类号 TP212.1 [自动化与计算机技术—检测技术与自动化装置]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名Ge_2Sb_2Te_5材料与非挥发相转变存储器单元器件特性被引量：2: 4; 作者凌云林殷茵赖连章乔保卫赖云锋冯洁汤庭鳌蔡炳初 Bomy.Chen; 机构复旦大学微电子学系asic与系统国家重点实验室上海交通大学微纳米研究院 SST Inc.; 出处《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第8期1196-1199,共4页; 基金国家自然科学基金资助项目(60376017) 上海市纳米专项基金资助项目(0352nm011); 文摘对Ge2Sb2Te5材料的结构、形貌和电学特性进行了表征,将材料应用于不挥发存储单元器件中并研究了器件性能。研究了退火温度对薄膜电阻率的影响,发现在从高阻向低阻状态转变的过程中,电阻率下降的趋势发生变化,形成拐点,分析表明这是由于在拐点处结构由面心立方向密排六方结构转变所致;对不同厚度Ge2Sb2Te5薄膜的电阻率进行了分析,结果表明当厚度薄于70nm时,电阻率随厚度显著上升而迁移率下降,材料晶态电学性能的测量显示,材料有正电阻温度系数并以空穴导电;测量了Ge2Sb2Te5非挥发相转变存储器单元的I-V曲线,发现有阈值特性,在晶态时电学特性呈欧姆特性,非晶态时I-V低场为线性关系,电场较高时呈指数关系。; 关键词非晶半导体阈值电压相变存储器; Keywords amorphous semiconductor the threshold voltage phase-change-memory; 分类号 TN40 [电子电信—微电子学与固体电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	原子层淀积Al_2O_3薄膜的热稳定性研究	卢红亮徐敏丁士进任杰张卫	《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心	2006	16	在线阅读下载PDF 职称材料
2	原子层淀积制备金属氧化物薄膜研究进展	卢红亮徐敏张剑云陈玮任杰张卫王季陶	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	2	在线阅读下载PDF 职称材料
3	基于二维金属亚波长孔阵列结构的MEMS红外辐射源特性研究	姚翔肖功利纪新明周嘉包宗明黄宜平	《传感技术学报》 CAS CSCD 北大核心	2010	0	在线阅读下载PDF 职称材料
4	Ge_2Sb_2Te_5材料与非挥发相转变存储器单元器件特性	凌云林殷茵赖连章乔保卫赖云锋冯洁汤庭鳌蔡炳初 Bomy.Chen	《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心	2005	2	在线阅读下载PDF 职称材料