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氮化铝薄膜的光学性能 被引量:11
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作者 颜国君 陈光德 +1 位作者 邱复生 Zhaoyan Fan 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第2期221-223,共3页
分别使用X衍射仪和紫外(190nm^800nm)分光光度仪,测量了用分子束外延法生长在SiC(001)基底面上的AIN薄膜的X衍射、透射谱和不同温度下的吸收谱.X衍射表明实验所用的AIN薄膜在c-轴存在应变和应力,该应变和应力主要是由于AIN的晶格常量与... 分别使用X衍射仪和紫外(190nm^800nm)分光光度仪,测量了用分子束外延法生长在SiC(001)基底面上的AIN薄膜的X衍射、透射谱和不同温度下的吸收谱.X衍射表明实验所用的AIN薄膜在c-轴存在应变和应力,该应变和应力主要是由于AIN的晶格常量与基底SiC的晶格常量不匹配所致.透射谱表明AIN薄膜的禁带宽度大约为6.2eV;而其对应的吸收谱在6.2eV处存在一个明显的台阶,此台阶被认为是AIN薄膜中的带边自由激子吸收所产生,忽略激子的结合能(与禁带宽度相比),则该值就对应为AIN的禁带宽度.而其对应的不同温度下(10k^293k)的吸收谱的谱线的形状和位置无明显的变化表明温度对AIN薄膜的禁带宽度亦无明显的影响,这主要是由于在AIN薄膜中存在着应力所致. 展开更多
关键词 AIN薄膜 透射谱 吸收谱 禁带带宽 自由激子
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AlGaN肖特基势垒二极管的研制 被引量:1
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作者 邵庆辉 叶志镇 +3 位作者 黄靖云 赵炳辉 江红星 林景瑜 《浙江大学学报(工学版)》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第10期1244-1247,共4页
为研制适合高温高压下工作的整流器件,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术生长的AlGaN/GaN/蓝宝石材料,采用电子束蒸发的方法,用Au和Ti/Al分别作为肖特基接触和欧姆接触的电极,制备了AlGaN肖特基二极管,并对其工艺过程和器件特性进行... 为研制适合高温高压下工作的整流器件,利用金属有机化学气相淀积(MOCVD)技术生长的AlGaN/GaN/蓝宝石材料,采用电子束蒸发的方法,用Au和Ti/Al分别作为肖特基接触和欧姆接触的电极,制备了AlGaN肖特基二极管,并对其工艺过程和器件特性进行了研究.IV测试表明该AlGaN肖特基二极管具有明显的整流特性和较高的反向击穿电压(95V),理想因子为1.93.经300℃1min退火,该器件正、反向IV特性都得到明显改善.采用变温IV法对Au/AlGaN接触的肖特基势垒高度进行了标定,其势垒高度高达1.08eV,更适合在高压、大电流条件下工作. 展开更多
关键词 ALGAN 肖特基势垒二极管 势垒高度
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类铍Ar^(14+)和类镁Ar^(6+)离子双激发态能级的计算
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作者 陈信义 苟秉聪 陈政 《原子与分子物理学报》 CAS CSCD 北大核心 1994年第1期14-18,共5页
用组态相互作用方法计算了类铍Ar14+离子双激发态1s23l3l'和类镁Ar6+离子双激发态1s22s22p64l4l'的能级。两个外层电子与内层原子实1s2或1s22s22s6电子的作用用模型势表示。Ar14+的双... 用组态相互作用方法计算了类铍Ar14+离子双激发态1s23l3l'和类镁Ar6+离子双激发态1s22s22p64l4l'的能级。两个外层电子与内层原子实1s2或1s22s22s6电子的作用用模型势表示。Ar14+的双激发态可用量子数K,T和A标记,而Ar6+的某些组态却不能用上述量子数表示。 展开更多
关键词 双激发态 类铍离子 类镁离子 能级
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