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X射线荧光痕量分析中的背景问题
被引量：
6
1
作者
梁国立
王毅民
《岩矿测试》
CAS
1984年第3期262-265,共4页
X射线荧光分析中最基本的测量是X荧光辐射的强度。在元素分析线角度处测得的强度并不都是样品中该元素的贡献,除元素分析线的强度(净强度)之外的计数统称为背景。在痕量分析中,背景在分析线强度中占有很大比例。尤其是在检出限附近,背...
X射线荧光分析中最基本的测量是X荧光辐射的强度。在元素分析线角度处测得的强度并不都是样品中该元素的贡献,除元素分析线的强度(净强度)之外的计数统称为背景。在痕量分析中,背景在分析线强度中占有很大比例。尤其是在检出限附近,背景强度接近于分析线强度。
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关键词
X射线荧光分析
X荧光
元素分析
痕量分析
线强度
计数
检出限
背景
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职称材料
题名
X射线荧光痕量分析中的背景问题
被引量：
6
1
作者
梁国立
王毅民
机构
地质矿产部岩矿部测试技术研究所
出处
《岩矿测试》
CAS
1984年第3期262-265,共4页
文摘
X射线荧光分析中最基本的测量是X荧光辐射的强度。在元素分析线角度处测得的强度并不都是样品中该元素的贡献,除元素分析线的强度(净强度)之外的计数统称为背景。在痕量分析中,背景在分析线强度中占有很大比例。尤其是在检出限附近,背景强度接近于分析线强度。
关键词
X射线荧光分析
X荧光
元素分析
痕量分析
线强度
计数
检出限
背景
分类号
O65 [理学—分析化学]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
X射线荧光痕量分析中的背景问题
梁国立
王毅民
《岩矿测试》
CAS
1984
6
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