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有关干膜抗蚀剂极限的探讨
1
作者
Karl H.Dietz
李元山
《印制电路信息》
1994年第2期18-22,共5页
在精细线条印制板的制造过程中,光成像法已愈来愈受到强有力的挑战。尽管光化学本身的精度并不影响细线的制造,但目前的设备、工艺及抗蚀剂本身的的形态却是细线条制造的几大主要障碍。本文介绍了几种比干膜法具有更好的一致性和更高精...
在精细线条印制板的制造过程中,光成像法已愈来愈受到强有力的挑战。尽管光化学本身的精度并不影响细线的制造,但目前的设备、工艺及抗蚀剂本身的的形态却是细线条制造的几大主要障碍。本文介绍了几种比干膜法具有更好的一致性和更高精度的抗蚀剂成型法,并探讨了避免UV光辐射到非曝光区的各种技术,最后又针对高精度图形的特点讨论了水溶性显影的优缺点。
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关键词
抗蚀剂
UV辐射
曝光区
极限
铜表面
细线条
液体光致抗蚀剂
光辐射
高精度图形
厚度均匀性
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职称材料
题名
有关干膜抗蚀剂极限的探讨
1
作者
Karl H.Dietz
李元山
机构
国际科大计算机研究所
出处
《印制电路信息》
1994年第2期18-22,共5页
文摘
在精细线条印制板的制造过程中,光成像法已愈来愈受到强有力的挑战。尽管光化学本身的精度并不影响细线的制造,但目前的设备、工艺及抗蚀剂本身的的形态却是细线条制造的几大主要障碍。本文介绍了几种比干膜法具有更好的一致性和更高精度的抗蚀剂成型法,并探讨了避免UV光辐射到非曝光区的各种技术,最后又针对高精度图形的特点讨论了水溶性显影的优缺点。
关键词
抗蚀剂
UV辐射
曝光区
极限
铜表面
细线条
液体光致抗蚀剂
光辐射
高精度图形
厚度均匀性
分类号
TN405 [电子电信—微电子学与固体电子学]
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题名
作者
出处
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1
有关干膜抗蚀剂极限的探讨
Karl H.Dietz
李元山
《印制电路信息》
1994
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