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基于用MCNP程序模拟的HPGeγ谱仪的屏蔽被引量：9: 1; 作者梁勇飞吴丽萍 +2 位作者白立新张一云邓勇军《核电子学与探测技术》 CAS CSCD 北大核心 2003年第2期182-184,186,共4页; 采用蒙特卡罗程序MCNP模拟了实验室HPGeγ谱仪外层屏蔽物对本底γ射线的屏蔽计算,了解物质对γ射线的屏蔽效果,并在实验的基础上给出了模拟的基本数据。然后通过HPGeγ谱仪的实测谱与模拟结果相比较,以验证模拟计算的正确性。; 关键词蒙特卡罗 MCNP程序屏蔽 HPGEΓ谱仪; 在线阅读下载PDF 职称材料

电子回旋共振微波等离子体刻蚀α：CH薄膜的工艺被引量：3: 2; 作者陆晓曼张继成 +4 位作者吴卫东朱永红郭强唐永建孙卫国《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第4期683-686,共4页; 为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小的α:CH薄膜微器件,研究了有铝和无铝掩膜、气体流量比、工作气压对刻蚀速率的影响,并对纯氧等离子体刻蚀稳定性进行了研究。研究结果表明:在相同条件下,刻蚀速率随刻蚀时间变化不大;α:CH薄膜... 展开更多; 关键词离子刻蚀电子回旋共振微波等离子体 α:CH薄膜微齿轮; 在线阅读下载PDF 职称材料

类金刚石薄膜的反应离子刻蚀被引量：1: 3; 作者吴卫东陆晓曼 +4 位作者张继成朱永红郭强唐永建孙卫国《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第6期570-574,共5页; 为了刻蚀出图形完整、侧壁陡直、失真度小、独立的类金刚石薄膜微器件,反应离子刻蚀是一种有效地刻蚀方法。研究了氧气与氩气的混合气体进行类金刚石薄膜刻蚀的主要工艺参数(刻蚀时间、有无掩膜、氩氧体积混合比、负偏压)。研究结果表明... 展开更多; 关键词反应离子刻蚀电子回旋共振微波反应等离子体类金刚石薄膜微齿轮; 在线阅读下载PDF 职称材料