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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
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作者 曾红军 郭履容 +1 位作者 陈波 庞霖 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期100-100,共1页
湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖(四川大学信息光学研究中心成都610064)浮雕型全息光学元件(HOE)在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后,其潜像要经过显影... 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖(四川大学信息光学研究中心成都610064)浮雕型全息光学元件(HOE)在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后,其潜像要经过显影等后处理(湿法刻蚀)才能获得浮雕。... 展开更多
关键词 微光学元件 表面性质 湿法刻蚀 作用位点 “九五”国家科技攻关 显影液 微细加工 信息光学 国家重点实验室 自适应光学
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菲涅尔型阵列光纤准直器的研究 被引量:1
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作者 向金山 陈波 黄河振 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期20-23,31,共5页
菲涅尔透镜列阵,具有易阵列化的优点。设计中心波长相同的透镜列阵和中心波长不 同的透镜列阵,并对由此列阵构成的准直器的光束耦合特征进行分析和计算,与通用的准直器的相关参数进行比较,表明菲涅尔透镜列阵在光束准直耦合中具有较高... 菲涅尔透镜列阵,具有易阵列化的优点。设计中心波长相同的透镜列阵和中心波长不 同的透镜列阵,并对由此列阵构成的准直器的光束耦合特征进行分析和计算,与通用的准直器的相关参数进行比较,表明菲涅尔透镜列阵在光束准直耦合中具有较高的耦合效率,可以用于制作阵列光纤准直器。 展开更多
关键词 菲涅尔透镜阵列 光纤准直器 损耗分析
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三维面形全场共焦检测的新方法
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作者 田维坚 陈波 +2 位作者 庞霖 曾红军 郭履容 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期113-113,共1页
三维面形全场共焦检测的新方法田维坚陈波庞霖曾红军郭履容(四川大学信息光学研究中心成都610064)在三维光学检测中,基于共焦原理的飞点扫描层析术,由于其高对比度、高分辨率,特别是它的三维检测原理简单、易于实行三维成像... 三维面形全场共焦检测的新方法田维坚陈波庞霖曾红军郭履容(四川大学信息光学研究中心成都610064)在三维光学检测中,基于共焦原理的飞点扫描层析术,由于其高对比度、高分辨率,特别是它的三维检测原理简单、易于实行三维成像数字化处理等优点,已越来越引起人们... 展开更多
关键词 三维面形 共焦 新方法 微光学阵列合成器件 信息光学 检测方法 光学系统 三维检测 光学并行处理 微透镜列阵
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