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深浮雕连续微光学元件制作方法(英文) 被引量:6
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作者 曾红军 陈波 +4 位作者 郭履容 杜春雷 邱传凯 王永茹 潘丽 《光电工程》 EI CAS CSCD 2000年第4期1-6,共6页
提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考... 提出一种连续深浮雕微光学元件的制作方法。在移动掩模的基础上经湿法显影获得光刻胶元件良好的面形 ,然后结合干法刻蚀将图形通过蚀速比放大的办法精密传递到石英片基上 ,从而使最终的元件达到设计的浮雕深度。作者对整个过程进行了考察和讨论 ,并以微棱镜为例进行了实验验证 ,为进一步制作大数值孔径连续表面微光学元件打下了技术基础。 展开更多
关键词 微光学元件 蚀刻 连续深浮雕
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湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响
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作者 曾红军 郭履容 +1 位作者 陈波 庞霖 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期100-100,共1页
湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖(四川大学信息光学研究中心成都610064)浮雕型全息光学元件(HOE)在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后,其潜像要经过显影... 湿法刻蚀对全息微光学元件表面性质的影响曾红军郭履容陈波庞霖(四川大学信息光学研究中心成都610064)浮雕型全息光学元件(HOE)在红外光学、自适应光学、光互联等领域有着广泛应用。全息记录材料曝光后,其潜像要经过显影等后处理(湿法刻蚀)才能获得浮雕。... 展开更多
关键词 微光学元件 表面性质 湿法刻蚀 作用位点 “九五”国家科技攻关 显影液 微细加工 信息光学 国家重点实验室 自适应光学
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菲涅尔型阵列光纤准直器的研究 被引量:1
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作者 向金山 陈波 黄河振 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2002年第3期20-23,31,共5页
菲涅尔透镜列阵,具有易阵列化的优点。设计中心波长相同的透镜列阵和中心波长不 同的透镜列阵,并对由此列阵构成的准直器的光束耦合特征进行分析和计算,与通用的准直器的相关参数进行比较,表明菲涅尔透镜列阵在光束准直耦合中具有较高... 菲涅尔透镜列阵,具有易阵列化的优点。设计中心波长相同的透镜列阵和中心波长不 同的透镜列阵,并对由此列阵构成的准直器的光束耦合特征进行分析和计算,与通用的准直器的相关参数进行比较,表明菲涅尔透镜列阵在光束准直耦合中具有较高的耦合效率,可以用于制作阵列光纤准直器。 展开更多
关键词 菲涅尔透镜阵列 光纤准直器 损耗分析
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三维面形全场共焦检测的新方法
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作者 田维坚 陈波 +2 位作者 庞霖 曾红军 郭履容 《大连理工大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 1997年第S2期113-113,共1页
三维面形全场共焦检测的新方法田维坚陈波庞霖曾红军郭履容(四川大学信息光学研究中心成都610064)在三维光学检测中,基于共焦原理的飞点扫描层析术,由于其高对比度、高分辨率,特别是它的三维检测原理简单、易于实行三维成像... 三维面形全场共焦检测的新方法田维坚陈波庞霖曾红军郭履容(四川大学信息光学研究中心成都610064)在三维光学检测中,基于共焦原理的飞点扫描层析术,由于其高对比度、高分辨率,特别是它的三维检测原理简单、易于实行三维成像数字化处理等优点,已越来越引起人们... 展开更多
关键词 三维面形 共焦 新方法 微光学阵列合成器件 信息光学 检测方法 光学系统 三维检测 光学并行处理 微透镜列阵
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