期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
1
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式：
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
不同工艺制备的ta-C和ta-C:N薄膜表面粗糙度研究(英文)
被引量：
4
1
作者
张化宇
刘良学
+3 位作者
马洪涛
刘凡新
刘会良
王东
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期673-675,共3页
采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜。对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究。通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜...
采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜。对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究。通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜的元素含量进行了分析。试验结果显示,沉积条件对薄膜厚度和元素含量具有明显的影响。对ta-C薄膜进行氮等离子体处理后,其表面粗糙度有一个明显的起伏变化。研究结果表明,氮能改变DLC薄膜表面的粗糙度。元素含量也随着薄膜的厚度变化而变化。
展开更多
关键词
ta—C:N
AFM
XPS
粗糙度
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
不同工艺制备的ta-C和ta-C:N薄膜表面粗糙度研究(英文)
被引量：
4
1
作者
张化宇
刘良学
马洪涛
刘凡新
刘会良
王东
机构
哈尔滨工业大学深圳研究生院材料学科部
东莞新科技术
研究
开发有限公司
出处
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006年第5期673-675,共3页
文摘
采用FCVA工艺成功制备了ta-C薄膜,采用ECR-CVD工艺对部分ta-C薄膜试样进行氮等离子体处理,制备了ta-C:N薄膜。对两种薄膜的表面粗糙度与元素含量、沉积工艺参数之间的关系进行了研究。通过AFM对薄膜表面粗糙度进行了分析,通过XPS对薄膜的元素含量进行了分析。试验结果显示,沉积条件对薄膜厚度和元素含量具有明显的影响。对ta-C薄膜进行氮等离子体处理后,其表面粗糙度有一个明显的起伏变化。研究结果表明,氮能改变DLC薄膜表面的粗糙度。元素含量也随着薄膜的厚度变化而变化。
关键词
ta—C:N
AFM
XPS
粗糙度
Keywords
ta-C：N
AFM
XPS
roughness
分类号
TB43 [一般工业技术]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
不同工艺制备的ta-C和ta-C:N薄膜表面粗糙度研究(英文)
张化宇
刘良学
马洪涛
刘凡新
刘会良
王东
《材料科学与工程学报》
CAS
CSCD
北大核心
2006
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部
