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预制方便食品保鲜包装技术及货架期预测的研究进展 被引量:7
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作者 肖玮 巩雪 +2 位作者 董静 刘佳 智慧 《包装工程》 CAS 北大核心 2023年第9期37-44,共8页
目的分析预制方便食品的发展前景,并研究预制方便食品变质的影响因素以及保鲜包装技术和货架期预测方法在预制方便食品中的应用,为相关科研人员及餐企解决预制食品营养风味不足和货架期较短等问题提供参考。方法综述近些年食品保鲜包装... 目的分析预制方便食品的发展前景,并研究预制方便食品变质的影响因素以及保鲜包装技术和货架期预测方法在预制方便食品中的应用,为相关科研人员及餐企解决预制食品营养风味不足和货架期较短等问题提供参考。方法综述近些年食品保鲜包装技术在预制方便食品领域的研究与应用,以及不同食品特性所采用的几种食品货架期预测方法。结果利用合适的保鲜包装技术对预制方便食品进行处理,能够保证其品质,减少食物资源浪费,并能有效延长食品货架期。结论预制方便食品具有良好的发展前景,先进食品保鲜包装技术的研发和可靠的货架期预测方法的应用,对提高产品质量与安全具有重要意义,也是相关餐饮企业提高竞争力的有效手段。 展开更多
关键词 预制食品 保鲜包装 货架期 预测模型
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新型食品包装材料γ-聚谷氨酸的酯化改性及降解性能研究进展 被引量:4
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作者 肖玮 孙智慧 +2 位作者 王风青 张莉 巩雪 《食品工业科技》 CAS CSCD 北大核心 2016年第23期383-386,共4页
一次性非降解食品包装是包装工业的重要组成部分,它所带来的环境污染问题及食品安全问题已引起人们高度重视,研究与开发新的可生物降解食品包装材料已成为未来的发展趋势。本文综述了一种氨基酸类聚合物γ-聚谷氨酸的酯化改性技术及其... 一次性非降解食品包装是包装工业的重要组成部分,它所带来的环境污染问题及食品安全问题已引起人们高度重视,研究与开发新的可生物降解食品包装材料已成为未来的发展趋势。本文综述了一种氨基酸类聚合物γ-聚谷氨酸的酯化改性技术及其研究的现状,提出了γ-聚谷氨酸酯生物降解性的评价方法,可供相关科研人员参考。 展开更多
关键词 生物降解 Γ-聚谷氨酸 酯化改性 食品包装材料
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超高压加工技术在食品工业中应用的研究进展 被引量:11
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作者 李立 孙智慧 +2 位作者 苗卿华 巩雪 赵宜范 《食品工业科技》 CAS 北大核心 2021年第6期337-342,共6页
食品超高压处理是一种非热加工技术,通过对整个食品的快速、均匀加压达到对食品杀菌、保藏、改性等目的。与其他处理方式相比,超高压处理具有加工过程污染低、营养物质损失少、风味保持度好等优点。本文通过研究国内外相关文献,主要从... 食品超高压处理是一种非热加工技术,通过对整个食品的快速、均匀加压达到对食品杀菌、保藏、改性等目的。与其他处理方式相比,超高压处理具有加工过程污染低、营养物质损失少、风味保持度好等优点。本文通过研究国内外相关文献,主要从超高压加工技术的机理及在食品工业中的应用,包括杀菌、蛋白质改性、贝类脱壳、物质提取等方面综述了食品超高压处理近年来的研究进展。对超高压加工技术在食品工业中的应用进行了归纳分析,总结了该技术在食品工业中存在的问题,并指出了该领域今后的发展方向。 展开更多
关键词 超高压加工技术 杀菌 脱壳 提取
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卷绕式磁控溅射镀膜机张力控制系统分析与优化 被引量:4
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作者 孙智慧 肖玮 +4 位作者 林晶 智慧 张莉 董文丽 朱琳 《包装工程》 CAS CSCD 北大核心 2013年第23期72-76,共5页
为避免卷绕式磁控溅射镀膜过程中张力引起的薄膜缺陷,以及原有张力系统响应速度慢、稳定性差等不足,对张力系统进行了分析与优化。通过分析确定了影响张力的关键因素是收(放)卷的速度和卷径变化,建立了张力系统动力学模型,采用simulink... 为避免卷绕式磁控溅射镀膜过程中张力引起的薄膜缺陷,以及原有张力系统响应速度慢、稳定性差等不足,对张力系统进行了分析与优化。通过分析确定了影响张力的关键因素是收(放)卷的速度和卷径变化,建立了张力系统动力学模型,采用simulink对张力控制系统进行仿真分析,利用实验验证的方法,分别在原设备和改造后的设备上制备Al2O3薄膜,并对比其SEM图像。改造后的系统可在0.65 s内实现薄膜张力实时调整,而原系统需要8 s。改造后的系统能够保证镀制过程中的张力恒定,膜层致密均匀、卷材层间无空隙和皱纹。 展开更多
关键词 张力 磁控溅射 镀膜 卷绕 SIMULINK
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等离子体增强原子层沉积增透阻隔膜的研究 被引量:4
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作者 林晶 于贵文 +3 位作者 孙智慧 张莉 巩雪 钱锋 《真空科学与技术学报》 CAS CSCD 北大核心 2021年第6期566-570,共5页
高阻隔高透光率的柔性复合材料在包装和电子封装领域具有很高的应用价值。本文采用等离子增强原子层沉积技术在PET基体上制备了多层结构的增透阻隔膜,研究了等离子增强原子层沉积制备氧化硅和氮化硅的工艺参数,利用光学模拟软件设计出... 高阻隔高透光率的柔性复合材料在包装和电子封装领域具有很高的应用价值。本文采用等离子增强原子层沉积技术在PET基体上制备了多层结构的增透阻隔膜,研究了等离子增强原子层沉积制备氧化硅和氮化硅的工艺参数,利用光学模拟软件设计出所需透过率的膜层结构。结果表明:等离子体增强原子层沉积制备的薄膜原子力显微镜表面形貌晶粒分布均匀,薄膜致密,红外光谱显示制备的薄膜为高纯度的SiO_(2)和Si_(3)N_(4),薄膜的透水率降低了2个数量级,可见光范围透过率可达到94%。 展开更多
关键词 等离子体增强原子层沉积 PET 阻隔性 增透性
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基于响应面法的原子层沉积高阻隔膜研究 被引量:2
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作者 赵丽丽 林晶 +1 位作者 于贵文 董静 《包装工程》 CAS 北大核心 2022年第23期167-173,共7页
目的研究分析等离子辅助原子层沉积技术(ALD)技术在PET表面上沉积超薄Al_(2)O_(3)阻隔层的工艺优化。方法采用单因素结合响应面设计试验法,对Al_(2)O_(3)/PET薄膜的沉积速率(GPC)进行优化,通过AFM分析得到薄膜的生长模式和表面粗糙度,... 目的研究分析等离子辅助原子层沉积技术(ALD)技术在PET表面上沉积超薄Al_(2)O_(3)阻隔层的工艺优化。方法采用单因素结合响应面设计试验法,对Al_(2)O_(3)/PET薄膜的沉积速率(GPC)进行优化,通过AFM分析得到薄膜的生长模式和表面粗糙度,最后用水蒸气透过率表征薄膜的阻隔性能。结果最大GPC的沉积参数:TMA脉冲时间为0.17 s、吹扫时间为11 s、O_(2)的脉冲时间为0.35 s、吹扫时间为10 s、沉积速率为0.215 nm/cycle;薄膜以层状生长模式生长,表面粗糙度均方根(RMS)为0.58 nm;沉积500个循环后薄膜的水透过率从7.456 g∙d/m2降低到0.319 g∙d/m2。结论通过响应面法优化了ALD制备工艺参数,Al_(2)O_(3)在PET表面沉积100 nm左右时,水蒸气阻隔性提高了25倍。 展开更多
关键词 原子层沉积 Box-Behnken响应面法 Al_(2)O_(3)/PET高阻隔膜
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基于AFM的不导电金属铟薄膜的表面微观特征分析
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作者 林晶 董静 +2 位作者 钱锋 王新华 周珂 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2018年第1期33-37,共5页
利用电子束蒸发镀膜方法在PAMM上制备了金属铟薄膜,通过方块电阻测量和原子力显微镜(AFM)表面形貌的分析,结果表明:铟薄膜的电阻值随着薄膜生长厚度增加而减小;薄膜生长初始阶段基体表面形成了岛状不连续膜,表面粗糙度随膜厚增加而增加... 利用电子束蒸发镀膜方法在PAMM上制备了金属铟薄膜,通过方块电阻测量和原子力显微镜(AFM)表面形貌的分析,结果表明:铟薄膜的电阻值随着薄膜生长厚度增加而减小;薄膜生长初始阶段基体表面形成了岛状不连续膜,表面粗糙度随膜厚增加而增加,此时薄膜不导电;当膜层厚度生长到120 nm时,薄膜形成了下层连续上层为小孔洞的结构,表面粗糙度在此厚度附近降低较明显;随着薄膜继续生长,薄膜表面无论是水平方向还是垂直方向,岛与岛相连形成十分光滑的膜层,此时薄膜电阻迅速降低到3Ω,薄膜导通。 展开更多
关键词 铟薄膜 不导电薄膜 电阻 原子力显微镜 表面形貌
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