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β-SiC粉体中常见金属杂质的亚临界水热去除工艺 被引量:2
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作者 王波 段晓波 +3 位作者 邓丽荣 王嘉博 陆树河 王晓刚 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2021年第8期2713-2718,共6页
高纯β-SiC粉体作为原料,广泛应用于半导体晶圆、半导体窑具、半导体芯片设备用陶瓷器件等产品。高温高压可以促进水热反应,采用亚临界水热法可去除工业合成β-SiC粉体中的金属杂质。研究不同酸体系下β-SiC粉体中常见金属杂质的去除效... 高纯β-SiC粉体作为原料,广泛应用于半导体晶圆、半导体窑具、半导体芯片设备用陶瓷器件等产品。高温高压可以促进水热反应,采用亚临界水热法可去除工业合成β-SiC粉体中的金属杂质。研究不同酸体系下β-SiC粉体中常见金属杂质的去除效果。利用电感耦合等离子原子发射光谱仪(ICP-OES)检测微量元素的含量,通过X射线衍射仪(XRD)和扫描电镜(SEM)对β-SiC粉体的物相组成和微观结构进行表征。结果表明,对于Cr和Zr去除效果较好的是HCl体系,对于Ca、Fe、Mg和Ti去除效果较好的是HCl+HF+HNO_(3)体系,对于Al和K去除效果较好的是H_(2)SO_(4)+(NH_(4))2SO_(4)体系。采用HCl体系处理的最佳反应温度为200℃,采用HCl+HF+HNO 3体系处理的最佳反应温度是220℃,采用H_(2)SO_(4)+(NH_(4))2SO_(4)体系处理的最佳反应温度是200℃。其中,H_(2)SO_(4)+(NH_(4))2SO_(4)体系可将β-SiC粉体中常见金属杂质含量降低至最少(杂质总含量为920.31 mg/L),因此该体系为β-SiC粉体除杂的最优方案。 展开更多
关键词 β-SiC粉体 水热法 金属杂质 电感耦合等离子体 提纯
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β-SiC粉体Si杂质的亚临界水热去除工艺 被引量:1
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作者 王波 段晓波 +3 位作者 邓丽荣 陆树河 王晓刚 白枭 《硅酸盐通报》 CAS 北大核心 2021年第2期591-596,共6页
选用多热源法合成的β-SiC粉体为原料,采用亚临界水热法去除β-SiC粉体中的含Si杂质。通过XRD、SEM、EDS及可见分光光度计等对β-SiC粉体的物相组成、微观结构及Si杂质含量进行表征,重点研究β-SiC粉体中含Si杂质的亚临界水热去除工艺... 选用多热源法合成的β-SiC粉体为原料,采用亚临界水热法去除β-SiC粉体中的含Si杂质。通过XRD、SEM、EDS及可见分光光度计等对β-SiC粉体的物相组成、微观结构及Si杂质含量进行表征,重点研究β-SiC粉体中含Si杂质的亚临界水热去除工艺参数优化。结果表明,β-SiC粉体中的含Si杂质主要为SiO 2和游离硅(F·Si),而F·Si主要以大颗粒的形式存在。反应浓度增大、反应时间延长和反应温度升高均有利于提高Si杂质的去除率。最佳水热法处理工艺为:液固比5∶2,NaOH浓度4 mol·L^(-1),反应温度180℃,反应时间4 h。在此工艺下,β-SiC粉体中SiO 2的去除率达到100%,F·Si的去除率为96.4%。 展开更多
关键词 β-SiC粉体 水热法 碱处理 Si杂质 提纯
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