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极紫外光刻给光学技术带来的挑战被引量：2: 1; 作者王占山《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z2期151-,共1页; 概述了极紫外光刻技术的发展,阐明了极紫外光刻技术的特点,说明了极紫外光刻的关键光学技术。极紫外光刻中光学元件的评价需要采用随空间波长变化的表面功率谱密度进行评价,分析了不同区域内表面误差对极紫外光刻系统性能的影响,给出了... 展开更多; 关键词极紫外光刻掩模投影物镜; 在线阅读下载PDF 职称材料

单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应研究(英文): 2; 作者桑田蔡托 +2 位作者马彬焦宏飞王占山《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期70-75,共6页; 本文研究了单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应。单层膜导模共振滤光片同时兼具波导和相位匹配功能的物理机制得到了论证。当光栅厚度不断增加将出现多模共振效应,导致高阶泄漏模电场增强效应的产生。电场增强振幅的最大值反映导... 展开更多; 关键词导模共振滤光片电场增强多模; 在线阅读下载PDF 职称材料

X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制被引量：5: 3; 作者顾春时王占山 +4 位作者王风丽张众穆宝忠秦树基陈玲燕《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1095-1098,共4页; 介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采... 展开更多; 关键词多层膜 X射线超反射镜 KB型显微镜磁控溅射反射; 在线阅读下载PDF 职称材料

双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性(英文) 被引量：1: 4; 作者吉世印桑田 +3 位作者蔡托刘华松季一勤王占山《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第3期452-459,共8页; 通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片。深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响。研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模... 展开更多; 关键词泄漏模特性共振布儒斯特滤光片多模共振; 在线阅读下载PDF 职称材料

高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备被引量：6: 5; 作者张慧晶张众 +8 位作者朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽王占山陈玲燕《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期67-70,共4页; 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在... 展开更多; 关键词软X射线 Mo/B4C多层膜遗传算法直流磁控溅射应力反射率; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名极紫外光刻给光学技术带来的挑战被引量：2: 1; 作者王占山; 机构同济大学精密光学工程技术研究所物理系; 出处《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z2期151-,共1页; 文摘概述了极紫外光刻技术的发展,阐明了极紫外光刻技术的特点,说明了极紫外光刻的关键光学技术。极紫外光刻中光学元件的评价需要采用随空间波长变化的表面功率谱密度进行评价,分析了不同区域内表面误差对极紫外光刻系统性能的影响,给出了极紫外光刻对相应空间波长区域的技术要求和现在技术能够达到的水平。根据这些问题,重点说明了极紫外光刻如何将光学加工、检测和镀膜技术带到了原子尺度。最后建议我国能够抓紧时间,尽快启动相关研究,推动我国相关领域的发展。; 关键词极紫外光刻掩模投影物镜; 分类号 TN21 [电子电信—物理电子学] TN24 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应研究(英文): 2; 作者桑田蔡托马彬焦宏飞王占山; 机构黔南民族师范学院物理与电子科学系同济大学精密光学工程技术研究所物理系; 出处《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期70-75,共6页; 基金国家自然科学基金项目(11064010) 贵州省科学技术基金项目(J20102259); 文摘本文研究了单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应。单层膜导模共振滤光片同时兼具波导和相位匹配功能的物理机制得到了论证。当光栅厚度不断增加将出现多模共振效应,导致高阶泄漏模电场增强效应的产生。电场增强振幅的最大值反映导模共振滤光片的泄漏程度。通常在同一共振位置处电场增强振幅的最大值越大,其带宽就越小。; 关键词导模共振滤光片电场增强多模; Keywords guided-mode resonance electric field enhancement multimode; 分类号 O437.4 [机械工程—光学工程] TN253 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制被引量：5: 3; 作者顾春时王占山王风丽张众穆宝忠秦树基陈玲燕; 机构同济大学精密光学工程技术研究所物理系; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1095-1098,共4页; 基金国家863计划项目资助课题上海市博士后研究基金资助课题(05R214140) +1 种基金同济大学理科发展基金教育部新世纪优秀人才支持计划资助课题(NCET-04-0376); 文摘介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采用高分辨率X射线衍射仪(8 keV)测量了X射线超反射镜的反射特性。制备的X射线超反射镜在掠入射角分别为1.052°和1.143°处,反射角度带宽为0.3°,反射率达到20%,可满足KB型显微镜的要求。; 关键词多层膜 X射线超反射镜 KB型显微镜磁控溅射反射; Keywords Multilayer X-ray supermirror KB microscope Magnetron-sputtering Reflectivity; 分类号 O434 [机械工程—光学工程] O484.41 [理学—固体物理]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性(英文) 被引量：1: 4; 作者吉世印桑田蔡托刘华松季一勤王占山; 机构黔南民族师范学院物理系同济大学精密光学工程技术研究所物理系天津津航技术物理研究所天津市光学薄膜重点实验室; 出处《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第3期452-459,共8页; 基金上海市科委科技基金资助项目(07DZ22302) 贵州省省长基金资助项目(200847); 文摘通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片。深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响。研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模特性的影响不明显,但填充系数、均质层厚度以及基底折射率的改变对滤光片泄漏模特性影响很大。当填充系数f→1和f<0.6时,以及当基底折射率接近波导层折射率(ns→1.63)时,导模共振效应趋于消失。此外,随着均质层厚度的不断增大,多模共振效应将被激发,从而在一定的波长或入射角范围内导致多个泄漏模共振效应的产生。; 关键词泄漏模特性共振布儒斯特滤光片多模共振; Keywords Leaky-mode characteristics Resonant Brewster filters Multimode resonance; 分类号 TN25 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

题名高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备被引量：6: 5; 作者张慧晶张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽王占山陈玲燕; 机构同济大学精密光学工程技术研究所物理系; 出处《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期67-70,共4页; 基金国家高技术发展计划项目国家自然科学基金资助课题(1043505010675091); 文摘运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力。另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm,Mo膜厚1.97 nm,B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%。制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%。最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm。; 关键词软X射线 Mo/B4C多层膜遗传算法直流磁控溅射应力反射率; Keywords Soft X-ray, Mo/B4C multilayer General algorithm DC magnetron sputtering Stress Reflectivity; 分类号 TN246 [电子电信—物理电子学]; 在线阅读下载PDF 职称材料

	题名	作者	出处	发文年	被引量	操作
1	极紫外光刻给光学技术带来的挑战	王占山	《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心	2006	2	在线阅读下载PDF 职称材料
2	单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应研究(英文)	桑田蔡托马彬焦宏飞王占山	《光电工程》 CAS CSCD 北大核心	2011	0	在线阅读下载PDF 职称材料
3	X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制	顾春时王占山王风丽张众穆宝忠秦树基陈玲燕	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2006	5	在线阅读下载PDF 职称材料
4	双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性(英文)	吉世印桑田蔡托刘华松季一勤王占山	《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心	2010	1	在线阅读下载PDF 职称材料
5	高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备	张慧晶张众朱京涛白亮陈锐黄秋实刘丽琴谭默言王风丽王占山陈玲燕	《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心	2008	6	在线阅读下载PDF 职称材料