极紫外光刻给光学技术带来的挑战 被引量：2

1

作者 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2006年第z2期151-,共1页

概述了极紫外光刻技术的发展,阐明了极紫外光刻技术的特点,说明了极紫外光刻的关键光学技术。极紫外光刻中光学元件的评价需要采用随空间波长变化的表面功率谱密度进行评价,分析了不同区域内表面误差对极紫外光刻系统性能的影响,给出了... 概述了极紫外光刻技术的发展,阐明了极紫外光刻技术的特点,说明了极紫外光刻的关键光学技术。极紫外光刻中光学元件的评价需要采用随空间波长变化的表面功率谱密度进行评价,分析了不同区域内表面误差对极紫外光刻系统性能的影响,给出了极紫外光刻对相应空间波长区域的技术要求和现在技术能够达到的水平。根据这些问题,重点说明了极紫外光刻如何将光学加工、检测和镀膜技术带到了原子尺度。最后建议我国能够抓紧时间,尽快启动相关研究,推动我国相关领域的发展。 展开更多

关键词 极紫外光刻 掩模 投影物镜

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亚波长介质光栅导模共振研究 被引量：22

2

作者 桑田 王占山 +3 位作者 吴永刚 林小燕 田国勋 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第5期641-645,共5页

从平板波导的本征值方程出发,导出弱调制介质光栅共振位置的表达式,其预测结果与利用严格的耦合波理论所得值一致·对正入射时导模共振产生双反射峰现象进行解释,并就导模共振对入射角和光栅周期敏感性的成因进行了探讨·从薄... 从平板波导的本征值方程出发,导出弱调制介质光栅共振位置的表达式,其预测结果与利用严格的耦合波理论所得值一致·对正入射时导模共振产生双反射峰现象进行解释,并就导模共振对入射角和光栅周期敏感性的成因进行了探讨·从薄膜的特征矩阵方程出发,在理论上分析了利用导模共振获得性能良好的反射滤光片的途径· 展开更多

关键词 导模共振 介质光栅 共振位置 反射滤光片

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基于非周期多层膜的X射线成像研究 被引量：10

3

作者 顾春时 王占山 +4 位作者 穆宝忠 王风丽 张众 秦树基 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第6期881-885,共5页

本文设计了惯性约束聚变(ICF)诊断实验用X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜,给出了系统的结构参量·使用ZEMAX光学软件对KB型显微镜进行了性能模拟,结果表明:在8keV能点,放大率为8倍时,轴上点的最佳空间分辨率小于2μm,200微米视场... 本文设计了惯性约束聚变(ICF)诊断实验用X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜,给出了系统的结构参量·使用ZEMAX光学软件对KB型显微镜进行了性能模拟,结果表明:在8keV能点,放大率为8倍时,轴上点的最佳空间分辨率小于2μm,200微米视场的空间分辨率优于10μm·采用磁控溅射方法制备了W/B4C非周期多层膜,经X射线衍射仪(XRD,工作能量8keV)测量,其反射率为20%,带宽为0.3°,达到了KB型显微镜成像系统的要求·使用Cu靶X射线管进行了成像实验,得到了放大倍数分别为1倍和2倍的一维X射线像· 展开更多

关键词 KB型显微镜 X射线非周期多层膜 X射线成像 空间分辨率

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刀口技术在激光冷却中的应用 被引量：4

4

作者 王占山 马珊珊 +2 位作者 马艳 赵敏 刘恒彪 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第1期63-69,共7页

研究了原子束的传输特性、激光冷却的效果及应用刀口技术实现μK量级冷却温度的测量,得出如下结论:原子从原子炉的出射口发射出以后,不论是否经过激光冷却,原子运动的距离越长,分布的均匀性越差。激光冷却可使原子炉出射原子的横向速度... 研究了原子束的传输特性、激光冷却的效果及应用刀口技术实现μK量级冷却温度的测量,得出如下结论:原子从原子炉的出射口发射出以后,不论是否经过激光冷却,原子运动的距离越长,分布的均匀性越差。激光冷却可使原子炉出射原子的横向速度降低几个数量级,使原子束经传输后的横向分布均匀度大大提高。刀口技术可用来测量激光冷却后的温度,测量精度主要由测量荧光的CCD的像元尺寸决定。这些结论对深入开展激光冷却实验具有重要的意义。 展开更多

关键词 激光冷却 速度分布 原子束分布 刀口技术

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薄膜波导光栅滤光片反射特性研究 被引量：7

5

作者 桑田 王占山 +1 位作者 吴永刚 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2005年第10期1461-1465,共5页

根据将减反射薄膜结构引入波导光栅滤光片中可以较好地抑制反射旁通带的理论,设计了单层、三层薄膜结构的波导光栅滤光片,旨在运用尽可能少的膜层数,在宽光谱范围内得到窄的反射带和高反射峰.运用严格的耦合波理论,对所设计的薄膜波导... 根据将减反射薄膜结构引入波导光栅滤光片中可以较好地抑制反射旁通带的理论,设计了单层、三层薄膜结构的波导光栅滤光片,旨在运用尽可能少的膜层数,在宽光谱范围内得到窄的反射带和高反射峰.运用严格的耦合波理论,对所设计的薄膜波导光栅滤光片的各种可能光栅结构进行了精确计算,得到反射率分布良好的特性曲线,并对计算结果进行分析,同时,还得到一种操作上较易于实现、在宽光谱范围内具有良好反射特性的三层膜光栅结构. 展开更多

关键词 波导光栅 共振 减反射

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13.5nm Schwarzschild显微镜系统及成像实验 被引量：3

6

作者 王新 穆宝忠 +3 位作者 黄怡 朱京涛 王占山 贺鹏飞 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第8期1709-1715,共7页

研制了工作波长为13.5 nm的Schwarzschild成像显微镜。从共轴两镜系统的基本理论出发,通过消除三级球差、彗差和像散设计了Schwarzschild物镜的光学初始结构,计算了物镜的光学传递函数。结果表明,物镜在±0.3 mm视场内像方空间分辨... 研制了工作波长为13.5 nm的Schwarzschild成像显微镜。从共轴两镜系统的基本理论出发,通过消除三级球差、彗差和像散设计了Schwarzschild物镜的光学初始结构,计算了物镜的光学传递函数。结果表明,物镜在±0.3 mm视场内像方空间分辨率可达550 lp/mm。根据工作波长和镜面的入射角度设计了Mo/Si周期多层膜反射镜,制作了Schwarzschild显微镜光学元件,多层膜元件对13.5 nm波长的反射率为61%。为了消除可见光和紫外光对系统成像的影响,设计并制备了材料为Zr,Si和Si3N4的滤波片,该滤波片在13.5 nm处的透过率为21.1%。利用激光等离子体光源对60 lp/mm网格进行了成像实验,结果表明,系统在0.5 mm视场内的分辨率优于3μm,结论认为CCD探测器分辨率极限是影响成像实验分辨率的主要因素。 展开更多

关键词 成像系统 Schwarzschild成像显微镜 MO/SI多层膜 滤波片 空间分辨率

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单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应研究(英文)

7

作者 桑田 蔡托 +2 位作者 马彬 焦宏飞 王占山 《光电工程》 CAS CSCD 北大核心 2011年第3期70-75,共6页

本文研究了单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应。单层膜导模共振滤光片同时兼具波导和相位匹配功能的物理机制得到了论证。当光栅厚度不断增加将出现多模共振效应,导致高阶泄漏模电场增强效应的产生。电场增强振幅的最大值反映导... 本文研究了单层膜多模导模共振滤光片的电场增强效应。单层膜导模共振滤光片同时兼具波导和相位匹配功能的物理机制得到了论证。当光栅厚度不断增加将出现多模共振效应,导致高阶泄漏模电场增强效应的产生。电场增强振幅的最大值反映导模共振滤光片的泄漏程度。通常在同一共振位置处电场增强振幅的最大值越大,其带宽就越小。 展开更多

关键词 导模共振滤光片 电场增强 多模

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基于遗传算法的30.4nm多层膜设计 被引量：10

8

作者 陈锐 王风丽 +2 位作者 朱京涛 王洪昌 王占山 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第9期1819-1824,共6页

阐述了用遗传算法设计周期和非周期多层膜的原理和实现过程,完成了30.4nmMg/SiC周期和非周期多层膜设计,研究了遗传算法中不同种群数和多层膜膜厚取值范围对优化结果的影响.计算发现,种群数的恰当选取是使算法快速达到或逼近最优解的前... 阐述了用遗传算法设计周期和非周期多层膜的原理和实现过程,完成了30.4nmMg/SiC周期和非周期多层膜设计,研究了遗传算法中不同种群数和多层膜膜厚取值范围对优化结果的影响.计算发现,种群数的恰当选取是使算法快速达到或逼近最优解的前提,膜厚取值范围的合理选择是提高算法效率的关键.设计得到入射角10°的周期多层膜和15°～22°范围内的宽角多层膜在波长30.4nm处的反射率依次为56.57%与39.96±0.29%,5°入射的双功能多层膜在波长30.4nm和58.4nm处的反射率分别为54.1%和0.1%.结果表明遗传算法也是一种很好的多层膜设计方法. 展开更多

关键词 薄膜光学 多层膜 遗传算法 反射率

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50～110nm波段高反射率多层膜的设计与制备 被引量：8

9

作者 李存霞 王占山 +5 位作者 王风丽 朱京涛 吴永荣 王洪昌 程鑫彬 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2007年第10期1862-1866,共5页

阐述了50～110nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法．这种膜系是由强吸收材料叠加而成，每层膜光学厚度小于四分之一个波长．与常规周期多层膜相比，这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率．利用该方法设计了50nm处高反射多... 阐述了50～110nm强吸收波段亚四分之一波长多层膜的设计方法．这种膜系是由强吸收材料叠加而成，每层膜光学厚度小于四分之一个波长．与常规周期多层膜相比，这种膜系更适用于提高强吸收波段的反射率．利用该方法设计了50nm处高反射多层膜，并以此为初始条件通过Levenberg-Marquart优化方法完成了50～110nm强吸收波段宽带高反射率Si／W／Co多层膜的设计，其平均反射率达到45％．采用直流磁控溅射方法制备了Si／W／Co多层膜，用X射线衍射仪（XRD）对膜层结构进行了测试，测试结果表明制作出的多层膜结构与设计结构基本相符． 展开更多

关键词 亚四分之一波长 多层膜 极紫外 高反射率 磁控溅射

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X射线Kirkpatrick-Baez显微镜用超反射镜的研制 被引量：5

10

作者 顾春时 王占山 +4 位作者 王风丽 张众 穆宝忠 秦树基 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第7期1095-1098,共4页

介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采... 介绍了一种可应用于X射线Kirkpatrick-Baez(KB)显微镜的光学元件X射线超反射镜。选用的W和B4C作为镀膜材料,膜对数为20,采用单纯型调优的方法实现了X射线超反射镜设计,用磁控溅射的方法在Si基片上完成了W/B4C X射线超反射镜的制备。采用高分辨率X射线衍射仪(8 keV)测量了X射线超反射镜的反射特性。制备的X射线超反射镜在掠入射角分别为1.052°和1.143°处,反射角度带宽为0.3°,反射率达到20%,可满足KB型显微镜的要求。 展开更多

关键词 多层膜 X射线超反射镜 KB型显微镜 磁控溅射 反射

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宽角度X射线超反射镜的设计 被引量：10

11

作者 张众 王占山 +2 位作者 秦树基 王凤丽 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2003年第2期253-256,共4页

阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 .该方法将Frensnel反射系数公式和单纯形调优法相结合 ,可以设计出满足不同要求的X射线超反射镜 .依据周期多层膜确定膜层数 ,给出了一种确定超反射镜膜层数的方法 .设计了在铜 (Cu)的Kα线下 ,... 阐述了一种新的X射线超反射镜的设计方法 .该方法将Frensnel反射系数公式和单纯形调优法相结合 ,可以设计出满足不同要求的X射线超反射镜 .依据周期多层膜确定膜层数 ,给出了一种确定超反射镜膜层数的方法 .设计了在铜 (Cu)的Kα线下 ,具有不同掠入射角宽度的多种钨(W ) /碳 (C)超反射镜 .设计中考虑了多层膜结构的界面粗糙度和相互扩散对多层膜反射性能的影响 ,并做了模拟计算 .实验结果表明 :用这种方法设计X射线超反射镜优于现有的其他方法 . 展开更多

关键词 X射线超反射镜 多层膜 单纯形调优

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具有禁带展宽特性的一维光子晶体 被引量：9

12

作者 王利 王占山 +2 位作者 吴永刚 王少伟 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2004年第2期229-232,共4页

提出了介质的光学厚度系数成圆形分布的一维光子晶体结构 ,与周期结构的光子晶体相比 ,该结构具有禁带展宽特性 同时讨论了起止膜层及膜层的光学厚度对该结构禁带特性的影响 ,优化出了在所选材料的介电常数所允许的频率范围内 。

关键词 光子晶体 宽禁带 光学厚度系数 圆形分布

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窄光谱带宽X射线刻蚀多层膜光栅 被引量：3

13

作者 吴文娟 王占山 +6 位作者 秦树基 王风丽 王洪昌 张众 陈玲燕 徐向东 付绍军 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2004年第2期226-230,共5页

结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究。用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高。用磁控溅射方法制备了W/C多... 结合X射线荧光分析和同步辐射单色器对窄光谱带宽多层膜的需求,开展了窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的理论和实验研究。用平均密度法从理论上阐明将多层膜刻蚀成不同刻蚀比的多层膜光栅后,光谱分辨率将得到提高。用磁控溅射方法制备了W/C多层膜,并用常规的光刻工艺对其进行刻蚀,得到了刻蚀后的多层膜光栅。掠入射X射线衍射测量表明,刻蚀后多层膜的衍射峰位置向小角方向移动,多层膜光栅没有改变剩余多层膜的结构,而且带宽减小,光谱分辨率得到提高,说明实验采用的工艺方法和工艺路线可以满足制作窄光谱带宽刻蚀多层膜光栅的要求,为今后进一步研究实用化元件打下了基础。 展开更多

关键词 多层膜 光栅 带宽 刻蚀 光谱分辨率 刻蚀比 X射线荧光分析 同步辐射 单色器

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多层膜优化设计方法 被引量：7

14

作者 王洪昌 王占山 《应用光学》 CAS CSCD 2005年第5期50-53,共4页

传统多层膜设计所用的全局寻优法的速度非常慢,有时还很难得到理想的膜系。根据Frensnel反射系数公式计算多层膜的反射率,利用单纯形法对软X射线和X射线波段多层膜进行调优,可在短时间内优化出最接近目标光学性能的多层膜膜系结构。计... 传统多层膜设计所用的全局寻优法的速度非常慢,有时还很难得到理想的膜系。根据Frensnel反射系数公式计算多层膜的反射率,利用单纯形法对软X射线和X射线波段多层膜进行调优,可在短时间内优化出最接近目标光学性能的多层膜膜系结构。计算了不同波长软X射线周期性多层膜的最高理论反射率。单纯形调优算法在保证优化结果与随机搜索法优化结果近似相同的基础上,使优化计算速度提高了十倍以上。同时还用单纯形调优法优化设计了X射线超反射镜,得到了非常理想的非周期膜系。 展开更多

关键词 软X射线 X射线 多层膜 单纯形调优 反射率 优化设计方法 X射线超反射镜 膜系结构 公式计算 单纯形法

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高斯激光驻波场沉积Na原子的量子理论分析 被引量：2

15

作者 赵敏 王占山 +2 位作者 马彬 马艳 李同保 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第3期481-484,共4页

利用量子理论,通过CRANK-NICOLSON数值方法对23Na原子受激光驻波场作用的物理过程进行模拟.模拟结果表明:正失谐时,原子以λ/2为周期会聚在驻波光场中波节处.随着光势阱加深或原子纵向速度改变,原子会聚结果分别符合薄透镜、厚透镜及沟... 利用量子理论,通过CRANK-NICOLSON数值方法对23Na原子受激光驻波场作用的物理过程进行模拟.模拟结果表明:正失谐时,原子以λ/2为周期会聚在驻波光场中波节处.随着光势阱加深或原子纵向速度改变,原子会聚结果分别符合薄透镜、厚透镜及沟道化模型.厚透镜模型中,当原子纵向速度增加,原子密度峰位置沿z方向向后漂移,峰在z方向半高宽增加.当激光功率增加或激光束腰减小,会聚面上峰半高宽减小,对比度增加,峰值增加. 展开更多

关键词 量子理论 原子光刻 薄透镜模型 厚透镜模型 沟道化模型 半高宽 对比度

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小波变换表征多层膜氧化层、界面层和膜厚漂移 被引量：1

16

作者 蒋晖 徐敬 +5 位作者 朱京涛 潘磊 代敏 谭默言 王占山 陈玲燕 《光子学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2009年第9期2288-2293,共6页

用小波变换的方法分析了纳米多层膜的X射线掠入射反射率测试曲线.从小波变换的自相关函数峰位和峰强度信息中得到了常规曲线拟合方法难以表征的含有氧化层、界面层或厚度漂移的多层膜结构,利用其作为多层膜的初始结构再进行常规的曲线拟... 用小波变换的方法分析了纳米多层膜的X射线掠入射反射率测试曲线.从小波变换的自相关函数峰位和峰强度信息中得到了常规曲线拟合方法难以表征的含有氧化层、界面层或厚度漂移的多层膜结构,利用其作为多层膜的初始结构再进行常规的曲线拟合,可实现多层膜结构精确表征的目的.研究成功地鉴别出钒单层膜的表面存在约3 nm厚的氧化层,分析得到Mo/Si多层膜的界面纯粗糙度约0.42 nm,表明在Ni/C多层膜中接近表面和基底的膜层存在大于5%的厚度漂移. 展开更多

关键词 薄膜光学 纳米多层膜 小波变换 自相关函数 氧化层 界面粗糙度 厚度漂移

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14nm低原子序数材料多层膜的设计和制备 被引量：1

17

作者 吴文娟 张众 +4 位作者 朱京涛 王风丽 陈玲燕 周洪军 霍同林 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2011年第6期1192-1198,共7页

为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多... 为了减小常规多层膜的带宽,提高其光谱分辨率,对采用低原子序数材料组成的适用于极紫外和软X射线波段的多层膜进行了研究。首先,在14nm波长处选取3种低原子序数材料对Si/B4C,Si/C和Si/SiC组成多层膜,用随机搜索的方法优化设计了这3种多层膜以及在此波段常用的Mo/Si多层膜。然后,用直流磁控溅射的方法制备Si/B4C,Si/C,Si/SiC和Mo/Si多层膜,并用X射线衍射仪测量拟合多层膜的周期厚度。最后,用同步辐射测试多层膜的反射率。同步辐射测试结果显示,Mo/Si多层膜的带宽最大,为0.57nm;Si/SiC多层膜的带宽最小,为0.18nm,结果与理论基本一致。实验结果表明,低原子序数材料多层膜的带宽要比常规Mo/Si多层膜窄,使用低原子序数材料组成多层膜可以提高多层膜的光谱分辨率。 展开更多

关键词 极紫外与软X射线 多层膜 低原子序数材料 磁控溅射 光谱分辨率

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膜厚控制误差对软X射线多层膜性能影响的分析 被引量：11

18

作者 王占山 《光学精密工程》 EI CAS CSCD 2003年第2期136-138,共3页

针对影响多层膜性能的关键因素———膜厚控制误差进行了全面的分析计算,指出影响多层膜性能的主要误差是仪器本身的系统偏差,它使多层膜的峰值反射波长偏离设计值,使得制作出的多层膜无法满足要求;镀膜过程中的随机误差使多层膜的反射... 针对影响多层膜性能的关键因素———膜厚控制误差进行了全面的分析计算,指出影响多层膜性能的主要误差是仪器本身的系统偏差,它使多层膜的峰值反射波长偏离设计值,使得制作出的多层膜无法满足要求;镀膜过程中的随机误差使多层膜的反射率降低,但不影响多层膜峰值反射率波长的位置,因此,在制作多层膜过程中,不但要严格控制镀膜时的系统误差,而且要控制随机误差。 展开更多

关键词 软X射线 多层膜 膜厚控制误差 反射率 反射镜

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双层等折射率浮雕结构共振布儒斯特滤光片的泄漏模特性(英文) 被引量：1

19

作者 吉世印 桑田 +3 位作者 蔡托 刘华松 季一勤 王占山 《红外与激光工程》 EI CSCD 北大核心 2010年第3期452-459,共8页

通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片。深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响。研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模... 通过调整光栅的填充系数,获得具有均质层和光栅层等效折射率相等的表面浮雕结构共振布儒斯特滤光片。深入研究了这类滤光片的泄漏模特性,并讨论光栅参数和入射条件的变化对滤光片共振特性的影响。研究表明:入射角的改变对滤光片泄漏模特性的影响不明显,但填充系数、均质层厚度以及基底折射率的改变对滤光片泄漏模特性影响很大。当填充系数f→1和f<0.6时,以及当基底折射率接近波导层折射率(ns→1.63)时,导模共振效应趋于消失。此外,随着均质层厚度的不断增大,多模共振效应将被激发,从而在一定的波长或入射角范围内导致多个泄漏模共振效应的产生。 展开更多

关键词 泄漏模特性 共振布儒斯特滤光片 多模共振

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高反射率Mo/B_4C多层膜设计及制备 被引量：6

20

作者 张慧晶 张众 +8 位作者 朱京涛 白亮 陈锐 黄秋实 刘丽琴 谭默言 王风丽 王占山 陈玲燕 《强激光与粒子束》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第1期67-70,共4页

运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在... 运用遗传算法优化设计了Mo/B4C多层膜结构。入射光入射角度取10°时,设计的理想多层膜膜对数为150,周期为3.59 nm,Gamma值(Mo膜厚与周期的比值)为0.41,峰值反射率为33.29%。采用恒功率模式直流磁控溅射方法制作Mo/B4C多层膜。通过在Mo/B4C多层膜与基底之间增加15 nm厚的Cr粘附层,提高多层膜与基底的粘附力。另外,还采用调整多层膜Gamma值的方法减小其内应力,调整后多层膜结构周期为3.59 nm,Mo膜厚1.97 nm,B4C膜厚1.62 nm,峰值反射率26.34%。制备了膜对数为150的Mo/B4C膜并测量了其反射率,在波长7.03 nm处,Mo/B4C多层膜的近正入射反射率为21.0%。最后对测量结果进行了拟合,拟合得到Mo/B4C多层膜的周期为3.60 nm,Gamma值0.60,界面粗糙度为0.30 nm。 展开更多

关键词 软X射线 Mo/B4C多层膜 遗传算法 直流磁控溅射 应力 反射率

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