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用于有机发光器件和有机激光的纳米压印结构 被引量:1
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作者 高秀敏 刘岳峰 +4 位作者 张海静 张天润 毕宴钢 银达 冯晶 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第1期8-20,共13页
在过去30年中,有机电致发光器件(Organic light-emitting devices,OLEDs)在显示和照明面板领域得到了快速的发展和应用。然而,固有的低光取出效率使OLEDs常需要集成光取出微纳结构。另一方面,有机半导体激光器(Organic semiconductor la... 在过去30年中,有机电致发光器件(Organic light-emitting devices,OLEDs)在显示和照明面板领域得到了快速的发展和应用。然而,固有的低光取出效率使OLEDs常需要集成光取出微纳结构。另一方面,有机半导体激光器(Organic semiconductor lasers,OSLs)由于具有发射光谱宽、制备简单、成本低和易于集成的优点也引起了广泛关注。同OLEDs需要集成微纳结构一样,在OSLs中也需要制备微纳结构用作谐振腔从而产生光增益来实现激射。在不同的微纳结构制备工艺中,纳米压印技术(Nanoimprint lithography,NIL)作为一种高分辨率、高产率和低成本的图案化技术,被认为是最有前景的技术之一。NIL不仅可以打破衍射极限和光散射的限制,而且可以保证有机光电材料的光学和电学性能不受损害。本文回顾了利用NIL在OLEDs制备结构化电极、结构化功能层和结构化封装层以及在OSLs中制备结构化染料掺杂聚合物以及结构化发光材料的方案。 展开更多
关键词 纳米压印技术 有机电致发光器件 有机半导体激光器
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