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光学元件高效超精密磨抛加工装备研究进展
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作者 彭云峰 贺湘波 +7 位作者 吴东旭 黄林斌 黄沛知 石坚 李保震 庄朝锋 李俊杰 余亚滨 《机床与液压》 北大核心 2025年第13期11-22,共12页
在大型光学工程的牵引和驱动下,国内外在光学元件超精密加工领域取得了重大进展,现已能加工出高精度、低损伤的光学元件。而高精度和高稳定性的超精密机床是获得高性能光学元件的关键装备保障。与国外相比,我国的超精密机床装备水平仍... 在大型光学工程的牵引和驱动下,国内外在光学元件超精密加工领域取得了重大进展,现已能加工出高精度、低损伤的光学元件。而高精度和高稳定性的超精密机床是获得高性能光学元件的关键装备保障。与国外相比,我国的超精密机床装备水平仍存在较大差距,并且西方国家对我国实施严格封锁和禁运,这已成为制约我国高性能光学元件大批量制造的重要因素。聚焦“高效磨削+确定性抛光”这一主流技术路线,系统总结国内外在光学磨床和气囊抛光两大核心装备的研究进展、技术突破及其产业化应用情况。重点分析实现高精度、高稳定性加工所依赖的关键单元技术。结果表明:我国在高端超精密光学磨床的产业化应用方面仍缺乏配套的关键单元部件。因此,加速国产关键单元技术的突破及整机集成,是实现我国光学元件超精密加工装备自主化与高端化的必由之路。未来,光学元件超精密加工装备将朝着多工序复合化和智能化等方向发展。 展开更多
关键词 光学元件 超精密加工 磨削装备 气囊进动抛光装备
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