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LCD面板C/FOG工艺制造虚拟计量方法研究 被引量:2
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作者 刘暾东 黄智斌 +2 位作者 高凤强 郑鹏 谢玉练 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第1期16-25,共10页
针对液晶显示器(LCD)面板的“Chip/FPC on Glass”(C/FOG)工艺生产制造过程中存在的计量延迟大、生产异常无法提前预测的问题,本文提出一种基于神经网络的C/FOG工艺生产制造虚拟计量方法。该方法利用生产机台上的传感器采集生产过程中... 针对液晶显示器(LCD)面板的“Chip/FPC on Glass”(C/FOG)工艺生产制造过程中存在的计量延迟大、生产异常无法提前预测的问题,本文提出一种基于神经网络的C/FOG工艺生产制造虚拟计量方法。该方法利用生产机台上的传感器采集生产过程中的过程状态数据,构建基于多尺度一维卷积及通道注意力模型(MS1DC-CA)的虚拟计量模型。通过多个尺度的卷积核提取不同尺度范围内的状态数据特征。在对含有缺失值的原始数据预处理中,提出了基于粒子群算法改进的K近邻填补方法(PSO-KNN Imputation)进行缺失值填充,保留特征的同时,减少因填充值引入的干扰。最后在实际生产采集的数据上进行实验对比分析,实际不良率主要集中在0.1%~0.5%,该虚拟计量模型的拟合均方误差为0.397 7‱,低于其他现有拟合模型,在平均绝对误差、对称平均绝对百分比误差和拟合优度3种评价指标下也均优于其他现有的拟合模型,具有良好的预测性能。 展开更多
关键词 C/FOG工艺 虚拟计量 缺失值填充 多尺度一维卷积 通道注意力
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LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化 被引量:2
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作者 陈丽雯 叶芸 +3 位作者 郭太良 彭涛 周秀峰 文亮 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2016年第4期363-369,共7页
为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻... 为了适应LTPS TFT LCD显示屏超高分辨率极细布线的趋势,降低LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀带来的良率损失,提高产品品质,本文研究了LTPS TFT层间绝缘层过孔刻蚀的工艺优化。实验以干法刻蚀为主刻蚀,湿法刻蚀为辅刻蚀的方式,既结合干法刻蚀对侧壁剖面角及刻蚀线宽的精确控制能力,又利用了湿法刻蚀高刻蚀选择比的优良特性,改善了层间绝缘层刻蚀形貌,减少干法刻蚀对器件有源层的损伤,避免有源层被氧化,防止刻蚀副产物污染开孔表面。实验结果表明,干法辅助湿法刻蚀能基本解决刻蚀过程中过刻、残留的问题,使得层间绝缘层过孔不良良率损失减少73%以上,且TFT源漏电极接触电阻减小约90%,器件开态电流提升约15%。干法辅助湿法刻蚀是一种优化刻蚀工艺,提升产品性能的新方法。 展开更多
关键词 LTPS TFT LCD 干法刻蚀 湿法刻蚀 层间绝缘层过孔 接触电阻 器件性能
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基于杂质离子含量评价的LTPS-LCD面板测量体系 被引量:2
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作者 邓文广 许叶潞 +2 位作者 温建辉 黄碧钦 金昌连 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第10期1388-1394,共7页
残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研... 残像是影响液晶显示器(LCD)面板品质的重要因素,残像的不良改善已成为面板工厂持续性研究课题。残像程度与杂质离子的含量正相关,为了实现对低温多晶硅(LTPS)LCD盒内杂质离子含量的监控,本文系统地对LTPS-LCD面板测试盒测量体系进行了研究,并对该测量体系的稳定性、分辨能力进行了探讨。首先针对LTPS技术的面板设计了一种新的测试盒,然后采用液晶电压保持率(Voltage Holding Residual,VHR)评价盒内杂质离子含量,运用测量系统分析方法对其可靠性进行评估,最后通过对比不同紫外线(UV)照射时间与光配向烘烤时间下VHR的变化分析其分辨力。实验结果表明该测量体系的量具重复性、再现性(Gage R&R%)为10.77%,变异与流程公差(P/T)为26.93%<30%,可区分数为13>5,不同批次VHR均值维持在93%~95%,测量结果可靠、稳定,并能有效识别出VHR差异。本文设计的测试盒符合LTPS-LCD面板产业对杂质离子含量监测需求,可为工厂实际生产中杂质离子的监控提供参考。 展开更多
关键词 残像 电压保持率 LTPS-LCD 测试盒 杂质离子
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液晶面板封框胶断裂强度的预测模型和性能增强
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作者 程再军 张旭 +3 位作者 颜华生 李愿愿 王建明 伞海生 《厦门大学学报(自然科学版)》 CAS CSCD 北大核心 2022年第6期1109-1115,共7页
封框胶是液晶面板中连接薄膜晶体管和彩色滤光片的重要结构,验证其断裂强度是液晶面板可靠性评价工程中需要解决的重要问题.为此开展了封框胶及应用于液晶面板的封框胶的拉伸实验,得到其断裂性能.基于临界应力强度因子的界面端应力模型... 封框胶是液晶面板中连接薄膜晶体管和彩色滤光片的重要结构,验证其断裂强度是液晶面板可靠性评价工程中需要解决的重要问题.为此开展了封框胶及应用于液晶面板的封框胶的拉伸实验,得到其断裂性能.基于临界应力强度因子的界面端应力模型和回归分析,计算了封框胶胶接结构的临界应力强度因子,建立了含影响因素的液晶面板封框胶断裂强度的预测模型.对比预测结果与实验结果表明,预测模型的误差仅在±20%以内.根据预测模型,得出选择较大泊松比和较小弹性模量的封框胶材料、适当减小界面端结合角、处理胶接界面可提升断裂强度的性能.该预测模型为断裂强度的预测及改善提供了理论依据,在工程应用中具有实际意义. 展开更多
关键词 胶接结构 封框胶 断裂性能 有限元分析方法 临界应力强度因子 性能增强
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光催化自清洁PVDF涂层剂的制备及性能研究 被引量:1
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作者 刘阳龙 贺倩雯 尚鹏博 《化工新型材料》 CAS CSCD 北大核心 2016年第9期255-257,共3页
以比表面积大,催化活性高的Eu^(3+)掺杂的二氧化钛空心微球为光催化剂,将催化剂掺入聚偏氟乙烯(PVDF)中,制成光催化自清洁PVDF涂层剂,然后将涂层剂涂覆在聚氯乙烯(PVC)膜材表面。研究了光催化剂含量对自清洁性能的影响和接触角随光照时... 以比表面积大,催化活性高的Eu^(3+)掺杂的二氧化钛空心微球为光催化剂,将催化剂掺入聚偏氟乙烯(PVDF)中,制成光催化自清洁PVDF涂层剂,然后将涂层剂涂覆在聚氯乙烯(PVC)膜材表面。研究了光催化剂含量对自清洁性能的影响和接触角随光照时间的变化过程。SEM结果表明,光催化剂可以分散在PVDF涂层剂内,并且光催化剂没有被PVDF完全覆盖,可以暴露出活性点并起到催化作用。接触角测量结果表明,光照72h后接触角不再变化,当掺入的光催化剂的质量为PVDF质量的3%时,PVC膜的最小接触角为38.8°,光催化自清洁能力最强。 展开更多
关键词 光催化剂 自清洁 PVDF涂层剂 接触角
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基于TFT-LCD下的Flicker研究与优化
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作者 李东华 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2020年第6期513-517,共5页
针对面板闪烁性能进行因子排查优化,着重关注材料相关因素的研究,使面板闪烁性能得以提升,总体跨阶得到增大。通过对TFT-LCD面板闪烁性能进行评估优化,包括评估手法建立、性能仿真模拟以及样品性能量测等,收敛性能优化方向,最终结合实... 针对面板闪烁性能进行因子排查优化,着重关注材料相关因素的研究,使面板闪烁性能得以提升,总体跨阶得到增大。通过对TFT-LCD面板闪烁性能进行评估优化,包括评估手法建立、性能仿真模拟以及样品性能量测等,收敛性能优化方向,最终结合实验产品测试验证,提出了面板闪烁性能提升的优化方向。而相较于常规电性,包括器件漏流、器件电容(Cst)的优化方向,本文的研究内容更关注材料的研究优化,具体为液晶响应时间参数等的研究优化,而其主要研究手法为对不同响应时间液晶下面板的闪烁性能仿真、实际性能测量以及亮度探测等。研究发现,随着液晶响应时间参数从8 ms增大至10 ms,其面板有效闪烁跨阶可从8阶提升至10阶。实验结果表明,面板可通过液晶材料响应时间的参数优化提升面板闪烁性能。 展开更多
关键词 闪烁 液晶响应时间 跨阶
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