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抛光铜箔衬底上石墨烯可控生长的研究 被引量:9
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作者 孙雷 沈鸿烈 +2 位作者 吴天如 刘斌 蒋烨 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第2期407-413,共7页
本文报导以固态聚苯乙烯为碳源,经机械抛光和电化学抛光双重处理的铜箔为衬底,用CVD法进行石墨烯可控生长的研究结果。用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、光透射谱、扫描隧道显微镜和场发射扫描电镜对生长的石墨烯进行了表征。研... 本文报导以固态聚苯乙烯为碳源,经机械抛光和电化学抛光双重处理的铜箔为衬底,用CVD法进行石墨烯可控生长的研究结果。用光学显微镜、原子力显微镜、拉曼光谱、光透射谱、扫描隧道显微镜和场发射扫描电镜对生长的石墨烯进行了表征。研究发现经过抛光处理的铜箔由于其平整的表面和很低的表面粗糙度,在其上生长的石墨烯缺陷少,结晶质量高。而未经抛光处理的铜箔在石墨烯生长过程中,铜箔不平整的表面台阶会破坏其上生长的石墨烯的微观结构,在生长的石墨烯二维结构中产生高密度晶界和缺陷。还在双重抛光处理的铜箔上实现了石墨烯的层数可控生长,结果表明固态碳源聚苯乙烯的量为15 mg时可生长出单层石墨烯,通过控制固态源重量得到了1~5层大面积石墨烯。 展开更多
关键词 固态碳源 机械抛光 电化学抛光 石墨烯 可控生长
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银铜双原子MACE法制备多晶硅陷光结构及其性能的研究 被引量:6
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作者 郑超凡 沈鸿烈 +6 位作者 蒲天 蒋晔 李玉芳 唐群涛 吴斯泰 陈洁仪 金磊 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2017年第1期1230-1235,共6页
采用一步银铜双原子金属辅助化学腐蚀(MACE)法,于室温下在多晶硅表面制备纳米陷光结构,研究了腐蚀时间及银铜摩尔比对多晶硅表面反射率和形貌的影响。用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率,用扫描电镜观察了表面形貌。发现银铜双原子M... 采用一步银铜双原子金属辅助化学腐蚀(MACE)法,于室温下在多晶硅表面制备纳米陷光结构,研究了腐蚀时间及银铜摩尔比对多晶硅表面反射率和形貌的影响。用分光光度计测量了多晶硅表面的反射率,用扫描电镜观察了表面形貌。发现银铜双原子MACE法所形成的结构比银单原子或铜单原子MACE法所形成的结构更加平整且具有更低的表面反射率室温下经过银铜两种金属原子协同催化腐蚀后,在银铜原子摩尔比低于1/10时多晶硅表面形成了纳米多孔状与槽状结构共存的复合结构,在银铜原子摩尔比高于1/5时多晶硅表面形成密集的纳米线结构。研究结果表明,孔状与槽状的复合结构具有良好的陷光效果,当银铜原子摩尔比为1/10,腐蚀时间为180s时,多晶硅的反射率达到最低,仅为6.23%。 展开更多
关键词 黑硅 减反射 纳米结构 金属辅助化学法 银铜双原子
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黑硅与黑硅太阳电池的研究进展 被引量:7
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作者 蒋晔 沈鸿烈 +2 位作者 岳之浩 王威 吕红杰 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第S1期254-259,269,共7页
黑硅材料的特殊结构能够极大地降低硅表面的光反射,有效地提高硅基太阳能电池转换效率。本文介绍了国内外黑硅制备技术的进展,黑硅的制备方法主要包括飞秒激光法、化学腐蚀法、反应离子刻蚀法和电化学腐蚀法。还概述了黑硅太阳电池的研... 黑硅材料的特殊结构能够极大地降低硅表面的光反射,有效地提高硅基太阳能电池转换效率。本文介绍了国内外黑硅制备技术的进展,黑硅的制备方法主要包括飞秒激光法、化学腐蚀法、反应离子刻蚀法和电化学腐蚀法。还概述了黑硅太阳电池的研究进展,并展望了黑硅及其应用的发展趋势。 展开更多
关键词 黑硅 减反射 黑硅太阳电池
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单晶黑硅微结构对其反射率影响的研究 被引量:6
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作者 岳之浩 沈鸿烈 +3 位作者 蒋晔 陈伟龙 唐群涛 商威 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第16期16056-16060,共5页
采用Ag辅助化学腐蚀法在不同H2O2 浓度、腐蚀温度和腐蚀时间条件下制备了单晶黑硅微结构,并系统地研究了这种微结构对表面反射率的影响规律.采用场发射扫描电子显微镜对样品形貌进行了观察,并利用分光光度计对样品的表面反射率进行了测... 采用Ag辅助化学腐蚀法在不同H2O2 浓度、腐蚀温度和腐蚀时间条件下制备了单晶黑硅微结构,并系统地研究了这种微结构对表面反射率的影响规律.采用场发射扫描电子显微镜对样品形貌进行了观察,并利用分光光度计对样品的表面反射率进行了测试,最终采用陷光模型对黑硅微结构与其反射率的关系进行了深入分析.发现当腐蚀液为7.8 mol/LHF和0.6mol/LH2O2 混合液、腐蚀温度为20 ℃以及腐蚀时间为90s时,所制备黑硅的腐蚀深度为900nm,其表面平均反射率为0.98% (400-900nm). 展开更多
关键词 Ag辅助化学腐蚀法 单晶硅 微结构 反射率
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多孔复合微结构的制备与减反射性能
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作者 王威 沈鸿烈 +1 位作者 吕红杰 岳之浩 《南京航空航天大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第1期147-151,共5页
主要研究了多孔-金字塔和多层多孔-金字塔两种多孔复合微结构的减反射性能。多孔-金字塔是将带有金字塔结构的单晶硅片置于HF/Fe(NO3)3溶液中二次化学腐蚀得到的,而多层多孔-金字塔复合微结构是将带有金字塔结构的单晶硅片置于HF/C... 主要研究了多孔-金字塔和多层多孔-金字塔两种多孔复合微结构的减反射性能。多孔-金字塔是将带有金字塔结构的单晶硅片置于HF/Fe(NO3)3溶液中二次化学腐蚀得到的,而多层多孔-金字塔复合微结构是将带有金字塔结构的单晶硅片置于HF/CH3CH2OH溶液中二次电化学腐蚀得到的。用扫面电镜和UV—vis—NIR分光光度计分别分析了这两种复合结构的表面形貌和反射率。结果表明,在400-800nm波长范围内,多孔-金字塔和多层多孔-金字塔复合微结构的平均反射率分别为5%和2.1%。多孔-金字塔微结构表面的孔洞较大,表面的金字塔有少量的塌陷,但多层多孔-金字塔微结构表面的孔洞细小且覆盖均匀,表面的金字塔基本上保持完好。通过比较,电化学方法制备的多层多孔-金字塔复合微结构的减反射效果要优于采用化学腐蚀制备的多孔-金字塔复合微结构的减反射效果。 展开更多
关键词 多孔-金字塔 多层多孔-金字塔 复合微结构 反射率
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