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题名二元统计编码图像处理在干扰弹遮蔽目标中的应用
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作者
王雪
潘功配
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机构
南京理工大学应用化学系
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出处
《量子电子学报》
CAS
CSCD
2000年第1期71-74,共4页
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文摘
用二元统计编码图像处理方法，对不同平均辐射强度下干扰弹遮蔽目标效果进行了计算机模拟。发现在较低强度下人眼无法直接观察到被遮蔽的目标，但经图像处理后仍可发现其存在，而要达到目标完全隐身，则干扰弹红外辐射强度应具有较高水平．
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关键词
红外干扰弹
二元统计编码
图像处理
导弹导引头
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Keywords
infrared decoy, image processing, binary statistic coding
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分类号
TJ765.333
[兵器科学与技术—武器系统与运用工程]
TN976
[电子电信—信号与信息处理]
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题名激光点火技术的发展
被引量：23
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作者
胡艳
沈瑞琪
叶迎华
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机构
南京理工大学应用化学系
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出处
《含能材料》
EI
CAS
CSCD
2000年第3期141-144,共4页
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文摘
介绍了激光点火系统的主要构成及研究进展 ,对激光点火过程及药剂点火特性的各种数值模拟方法进行了评述 ,对激光点火装置的应用进行了展望。
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关键词
激光器
激光点火系统
光纤接头
点火元件
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Keywords
laser
laser ignition system
laser ignition model
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分类号
TQ56
[化学工程—炸药化工]
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题名微喷口阵列的TMAH“两步法”制备工艺
被引量：2
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作者
余协正
叶迎华
沈瑞琪
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机构
南京理工大学应用化学系
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出处
《传感技术学报》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期184-187,共4页
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基金
航天科技创新基金项目(CASC201105)
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文摘
为了高效经济地实现单晶硅喷口阵列的批量加工,通过大量实验,研究了TMAH溶液在不同浓度、温度、刻蚀时间以及添加剂过硫酸铵的添加量和添加方式等对单晶硅刻蚀结果的影响规律,得到了"两步法"的优化刻蚀工艺:第1步在低浓度、高温度下进行高速刻蚀;第2步降低刻蚀温度,同时添加过硫酸铵,进行表面修饰,降低粗糙度。该工艺具有操作简便、经济高效的特点,结合该工艺已成功制备出高质量的固体化学微推进器喷口阵列。
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关键词
MEMS
微喷口阵列
各向异性刻蚀
TMAH
过硫酸铵
粗糙度
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Keywords
MEMS
micro nozzle array
anisotropic etching
TMAH
AP
roughness
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分类号
TN304.052
[电子电信—物理电子学]
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