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在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸光度法测定痕量硅的研究
被引量:
10
1
作者
王镇棣
郑用熙
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
1986年第9期775-779,共5页
本文研究了在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸离于缔合物的分光光度性质,建立了灵敏度较高的水相测定痕量硅的分光光度法。硅量在0—3.0μg/25ml范围符合比耳定律,表观摩尔吸光系数为1.45×10^(5)。还讨论了离子缔合物的...
本文研究了在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸离于缔合物的分光光度性质,建立了灵敏度较高的水相测定痕量硅的分光光度法。硅量在0—3.0μg/25ml范围符合比耳定律,表观摩尔吸光系数为1.45×10^(5)。还讨论了离子缔合物的结构特点。测定实际样品的结果令人满意。
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关键词
硅钼杂多酸
分光光度法
离子缔合物
结晶紫
非离子表面活性剂
表观摩尔吸光系数
痕量硅
比耳定律
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职称材料
题名
在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸光度法测定痕量硅的研究
被引量:
10
1
作者
王镇棣
郑用熙
机构
南京林学院理化分析中心
清华大学化学化工系
出处
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
1986年第9期775-779,共5页
文摘
本文研究了在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸离于缔合物的分光光度性质,建立了灵敏度较高的水相测定痕量硅的分光光度法。硅量在0—3.0μg/25ml范围符合比耳定律,表观摩尔吸光系数为1.45×10^(5)。还讨论了离子缔合物的结构特点。测定实际样品的结果令人满意。
关键词
硅钼杂多酸
分光光度法
离子缔合物
结晶紫
非离子表面活性剂
表观摩尔吸光系数
痕量硅
比耳定律
分类号
O65 [理学—分析化学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
在非离子表面活性剂存在下结晶紫-硅钼杂多酸光度法测定痕量硅的研究
王镇棣
郑用熙
《高等学校化学学报》
SCIE
EI
CAS
1986
10
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参考文献
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