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氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）
被引量：
5
1
作者
张泽芳
张文娟
+1 位作者
张善端
李富友
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第1期109-117,共9页
化学机械抛光(CMP)已成为金属合金最具潜力的平坦化技术.为了优化铝合金CMP工艺,研究了磨料粒度、分散剂浓度以及pH调节剂对铝合金CMP性能的影响.结果表明:随着磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光泽度(...
化学机械抛光(CMP)已成为金属合金最具潜力的平坦化技术.为了优化铝合金CMP工艺,研究了磨料粒度、分散剂浓度以及pH调节剂对铝合金CMP性能的影响.结果表明:随着磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光泽度(Gs)降低.分散剂(聚乙二醇,PEG-600)的质量分数达到0.5%时,可以获得最优的表面质量和最佳的光泽度.浆料中添加适量的柠檬酸作为pH调节剂可同时获得较优的表面质量和较高的抛光效率,柠檬酸对铝合金CMP性能的影响是腐蚀作用和螯合作用的综合效应.此外,简要讨论了氧化铝抛光液对铝合金的静态刻蚀机理和CMP机理.氧化铝抛光液的最优配方为Al2O3 3.3μm、H2O2 4%、PEG-600 0.5%和H3Cit 1.5%.
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关键词
铝合金
氧化铝抛光液
化学机械抛光
光泽度
材料去除率
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职称材料
题名
氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）
被引量：
5
1
作者
张泽芳
张文娟
张善端
李富友
机构
复旦大学先进照明技术教育部工程研究中心
复旦大学电光源研究所
南京映智新材料有限公司
临汾博利士纳米
材料
有限公司
复旦大学化学系高分子
材料
分子工程国家重点实验室
出处
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019年第1期109-117,共9页
基金
supported by the National Natural Science Foundation of China(51205387)~~
文摘
化学机械抛光(CMP)已成为金属合金最具潜力的平坦化技术.为了优化铝合金CMP工艺,研究了磨料粒度、分散剂浓度以及pH调节剂对铝合金CMP性能的影响.结果表明:随着磨料粒度的增加,材料去除率(MRR)和平均表面粗糙度(Ra)均增加,而表面光泽度(Gs)降低.分散剂(聚乙二醇,PEG-600)的质量分数达到0.5%时,可以获得最优的表面质量和最佳的光泽度.浆料中添加适量的柠檬酸作为pH调节剂可同时获得较优的表面质量和较高的抛光效率,柠檬酸对铝合金CMP性能的影响是腐蚀作用和螯合作用的综合效应.此外,简要讨论了氧化铝抛光液对铝合金的静态刻蚀机理和CMP机理.氧化铝抛光液的最优配方为Al2O3 3.3μm、H2O2 4%、PEG-600 0.5%和H3Cit 1.5%.
关键词
铝合金
氧化铝抛光液
化学机械抛光
光泽度
材料去除率
Keywords
aluminum alloy
alumina-based slurry
chemical mechanical polishing
glossiness
materials removal rate
分类号
TG175 [金属学及工艺—金属表面处理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
氧化铝抛光液对铝合金化学机械抛光性能的研究（英文）
张泽芳
张文娟
张善端
李富友
《摩擦学学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2019
5
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