半导体制冷热端热管式散热器的试验研究 被引量：9

1

作者 刘小平 曹旭 李菊香 《科技通报》 北大核心 2016年第7期113-116,162,共5页

基于热管的传热特性和半导体的制冷特点,设计制造了半导体制冷片热端散热用的热管式散热器,并搭建试验装置进行了试验。试验分别对三种制冷功率的半导体制冷片在不同环境温度、不同风速的条件下进行,得出了半导体制冷片热端、冷端、和... 基于热管的传热特性和半导体的制冷特点,设计制造了半导体制冷片热端散热用的热管式散热器,并搭建试验装置进行了试验。试验分别对三种制冷功率的半导体制冷片在不同环境温度、不同风速的条件下进行,得出了半导体制冷片热端、冷端、和热管式散热器的温度随制冷功率、环境温度、风速的变化趋势。研究结果表明,改善半导体制冷片热端的散热条件,可使半导体制冷片的冷端温度大幅降低,从而使半导体的制冷性能大幅提升。 展开更多

关键词 半导体制冷 热管式散热器 试验分析

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巨厚砾岩孤岛工作面微震特征研究 被引量：3

2

作者 卫超 李学龙 +1 位作者 李国爱 苑广华 《工矿自动化》 北大核心 2015年第7期39-43,共5页

为有效防治巨厚砾岩孤岛工作面的冲击地压,运用微震监测技术,开展了针对千秋煤矿21141孤岛工作面的微震时空演化特征规律及周期来压与超前支承压力之间的相关性研究。结果表明,微震事件高发区域有3个：Ⅰ区为21141孤岛工作面前方50-300... 为有效防治巨厚砾岩孤岛工作面的冲击地压,运用微震监测技术,开展了针对千秋煤矿21141孤岛工作面的微震时空演化特征规律及周期来压与超前支承压力之间的相关性研究。结果表明,微震事件高发区域有3个：Ⅰ区为21141孤岛工作面前方50-300m范围内,Ⅱ区为21141孤岛工作面距采区胶带下山600-900m范围内,Ⅲ区为21采区下山煤柱区域,微震事件多发生在工作面前方的垮落带;顶板周期来压前,微震事件的频次、日累计能量有所增加,顶板来压期间,微震事件的频次、日累计能量都明显高于非来压期间的事件频次及能量;大部分冲击地压发生在超前支承压力峰值范围。 展开更多

关键词 巨厚砾岩 孤岛工作面 冲击地压 微震 微震监测

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TFT-LCD工艺中角落白Mura的成因机理研究与改善 被引量：8

3

作者 王绍华 吴飞 +4 位作者 宣津 陈辉 陈超 侯德智 周皇 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2018年第7期583-589,共7页

在新产品导入过程中会突发各种Mura类不良。本文为解决TV机种导入中出现的一种原因未知的角落白Mura,首先进行了大量的排查和推理,初步判定异常来源于成盒工艺(Cell)段,利用气相色谱(GC)、高效液相色谱(HPLC)设备测试并对比了角落白Mur... 在新产品导入过程中会突发各种Mura类不良。本文为解决TV机种导入中出现的一种原因未知的角落白Mura,首先进行了大量的排查和推理,初步判定异常来源于成盒工艺(Cell)段,利用气相色谱(GC)、高效液相色谱(HPLC)设备测试并对比了角落白Mura区域与正常区域的液晶纯度、液晶组份和框胶溶出的差异,最后探讨了其形成的机理。结果表明角落白Mura区域液晶组份发生较大变动,液晶组份挥发是角落白Mura产生的主因。通过优化贴合时的真空抽气时间、真空保持时间、液晶滴下点数、液晶与边框胶距离等一系列的改善措施,使产品的角落白Mura发生率从16.59%降到了0.001%以下管控范围。实验有效解决了角落白Mura异常并为今后类似Mura类不良的对策提供了思路,同时提升了公司的效益和竞争力。 展开更多

关键词 TFT-LCD 角落白Mura 液晶 边框胶

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TFT-LCD屏的Flicker和DC残留的研究及改善 被引量：2

4

作者 叶纯 王烨文 +3 位作者 林占强 贺强 邢程 高晓莉 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2018年第12期1047-1052,共6页

由于平面电场的非对称设计和挠曲电效应的存在,导致正负帧作用下透过率不同,目视有很明显的闪烁。本文在396 mm(15.6 in)FHD(1 920×1 080)竖双畴结构的基础上,通过LCD expert软件模拟平面电场显示模式正负帧作用下电压-穿透率(Volt... 由于平面电场的非对称设计和挠曲电效应的存在,导致正负帧作用下透过率不同,目视有很明显的闪烁。本文在396 mm(15.6 in)FHD(1 920×1 080)竖双畴结构的基础上,通过LCD expert软件模拟平面电场显示模式正负帧作用下电压-穿透率(Voltage-Transmittance,V-T)曲线,同时,实测了像素电极(pixel-ITO)不同线宽线距产品的残留DC(Direct Current)值/Flrcker数值等,得出较好的实验条件,对今后的像素设计有一定的指导意义。 展开更多

关键词 平面电场 FLICKER 残留DC 挠曲电效应 不对称电场

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保护层对背沟道刻蚀型金属氧化物IGZO TFT性能的研究 被引量：3

5

作者 陶家顺 刘翔 《光电子技术》 CAS 北大核心 2020年第4期298-301,共4页

研究了保护层对背沟道刻蚀型IGZO TFT性能及其稳定性的影响。结果显示,在正电压应力下TFT的阈值电压正向漂移。通过数据分析得知,保护层对水汽的阻挡能力直接影响到IGZO TFT的性能和稳定性。通过优化TFT的保护层,可以有效阻挡水汽渗透... 研究了保护层对背沟道刻蚀型IGZO TFT性能及其稳定性的影响。结果显示,在正电压应力下TFT的阈值电压正向漂移。通过数据分析得知,保护层对水汽的阻挡能力直接影响到IGZO TFT的性能和稳定性。通过优化TFT的保护层,可以有效阻挡水汽渗透到背沟道表面形成缺陷态,提升IGZO TFT器件的稳定性。 展开更多

关键词 金属铟镓锌氧化物薄膜晶体管 背沟道刻蚀型 保护层 阈值电压漂移

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高分辨率UV^2A面板光学特性改善研究 被引量：4

6

作者 李淑君 李卓 +1 位作者 黄秋蓉 林佳玲 《光电子技术》 CAS 2017年第1期52-56,共5页

通过一系列实验研究了高分辨率TFT液晶显示器的对比度和透过率特性。改善了UV^2A光配向技术在提高分辨率的同时像素透过率和对比度下降的情况。提高了面板光学性能的同时也降低了生产成本。

关键词 光配向 多畴 超高透过率 超高对比度

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TFT制程曝光色差研究 被引量：1

7

作者 黄霜霜 喻玥 +7 位作者 马国永 赵辉 高文 沈建华 陈萍 阳志林 李连峰 马新星 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第3期412-419,共8页

在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP... 在TFT制程中,曝光工艺直接影响到薄膜的最终图案质量。为了分析与解决曝光色差问题,需对面板的点灯现象与制备工艺进行调查与研究。首先,通过扫描电子显微镜分析、错位曝光试验、数据分析等方法进行不良原因调查。同时,借助开源软件GIMP和Fiji进行图像处理得到面板灰度数据,对色差程度进行定量评价。然后,通过调整曝光设备照度均一性与管控最优生产路径,曝光色差发生率从10%以上降至1%以内,有效改善面板显示品质。最后,结合ExpertLCD光学模拟数据与电容耦合效应分析,进一步阐述曝光色差的形成机理。研究发现,像素电极临界尺寸应管控在一定范围并且需保证较好的均一性,像素电极临界尺寸过小、过大都会使曝光色差更易显现。同时,各导电层的临界尺寸也需保证较好的均一性,以减小耦合电容对显示的影响。 展开更多

关键词 TFT 曝光色差 图像处理 照度均一性 馈入电压

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内置型偏光片技术的研究进展 被引量：1

8

作者 陶家顺 许卫锋 陈旭镪 《液晶与显示》 CAS CSCD 北大核心 2021年第4期538-548,共11页

传统偏光片技术所制备的是外置型偏光片,由于其贴附于显示屏表面,使显示器的厚度增加,透光率下降。为了满足对偏光片薄型化、高透过率、低成本以及柔性显示等要求,开发内置型偏光片成为新型显示特别是柔性显示发展的一个重要方向,其中... 传统偏光片技术所制备的是外置型偏光片,由于其贴附于显示屏表面,使显示器的厚度增加,透光率下降。为了满足对偏光片薄型化、高透过率、低成本以及柔性显示等要求,开发内置型偏光片成为新型显示特别是柔性显示发展的一个重要方向,其中作为内置型偏光片的主流技术的光控取向和纳米压印技术,由于其无静电、无粉尘污染、更精确可控微小区多筹取向能力以及低成本、大面积制备的优点,在显示领域备受关注。本文重点综述了近几年利用光控取向和纳米压印两种制造技术在内置偏光片中的开发与应用进展,并对目前该两种技术仍存在的问题进行了讨论,为内置偏光片的工业化生产提供思路。 展开更多

关键词 光控取向 纳米压印 内置型偏光片 信息显示

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IGZO TFT详解 被引量：3

9

作者 陶家顺 《光电子技术》 CAS 2016年第4期217-220,226,共5页

论述了IGZO TFT技术的背景、技术优势和应用。详细介绍了IGZO TFT的结构,性能和生产工艺,并对IGZO TFT生产线存在的问题和发展趋势做出了展望。

关键词 铟镓锌氧化物薄膜晶体管 迁移率 制造工艺

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ODF工艺中液晶滴下与边框胶穿刺关系研究 被引量：2

10

作者 王绍华 吴飞 +4 位作者 宣津 陈辉 陈超 侯德智 周皇 《科技创新与应用》 2018年第4期74-74,77,共2页

研究了不同粘度系数的液晶扩散速率,测试了小尺寸液晶显示器件ODF(One Drop Filling)工艺中液晶与边框胶的距离对边框胶穿刺的影响。实验确定了液晶与边框胶的安全距离,有效地解决了ODF工艺中常见的边框胶穿刺问题。

关键词 液晶滴下 框胶 边框胶穿刺

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液晶角落Bubble原因分析与改善 被引量：2

11

作者 李澎轩 侯德智 王文宇 《新型工业化》 2021年第3期84-86,89,共4页

在TFT-LCD制造工艺内,角落Bubble(气泡)不良普遍存在,具体体现为成盒后Panel内部四角位置出现微小的液晶扩散气泡。笔者在生产过程中遇到一款23.8 Inch产品的角落Bubble异常,并成立了改善小组进行不良改善。最终将角落Bubble Inline发... 在TFT-LCD制造工艺内,角落Bubble(气泡)不良普遍存在,具体体现为成盒后Panel内部四角位置出现微小的液晶扩散气泡。笔者在生产过程中遇到一款23.8 Inch产品的角落Bubble异常,并成立了改善小组进行不良改善。最终将角落Bubble Inline发生率由50%降低至0%。影响角落Bubble产生的因素共有以下几类:(1)面板成盒后到点灯的时间。时间越长,角落Bubble发生率越低,超过24h的发生率已经接近0%,故推荐在面板成盒后管控一定时间再进行点灯;(2)真空贴合设备真空保持时间,保持时间越长,角落Bubble发生率越低,超过120S的真空保持时间,角落Bubble发生率已达到0.5%,但由于真空贴合设备的排气位置对液晶有影响,测试中发生周边Mura不良;是否产生周边Mura不良与真空贴合设备结构相关,如果腔室内排气口位置距离液晶较远,影响会较为轻微。可以根据真空贴合设备的构造进行测试。并选取合适的真空保持时间。 展开更多

关键词 液晶 气泡 成盒

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精益生产管理——数字化点检系统在制造工厂中的应用 被引量：2

12

作者 张世超 《科学技术创新》 2017年第35期162-163,共2页

生产设备作为公司重点投资的固定资产,如何保证设备稳定运行及延长折旧寿命,成为公司重点研究课题。为了实现设备管理的精细化、标准化、可视化,提高点检和维修人员的工作质量,减少设备的故障率,增强设备点检和维护人员的技术水平,我们... 生产设备作为公司重点投资的固定资产,如何保证设备稳定运行及延长折旧寿命,成为公司重点研究课题。为了实现设备管理的精细化、标准化、可视化,提高点检和维修人员的工作质量,减少设备的故障率,增强设备点检和维护人员的技术水平,我们搭建了数字化设备点检与维护平台,开发了一套设备点检可视化控制系统,实施可视化的设备点检。这也是作为精益生产管理数字化、信息化的探索,也符合中国制造2025的新时代发展要求。 展开更多

关键词 设备预防保养系统 数字化点检 知识管理

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基于JAS膜技术下TFT-LCD像素电压串扰的影响因素研究

13

作者 姚家俊 盛何君 宋见龙 《光电子技术》 CAS 北大核心 2019年第1期63-67,共5页

基于JAS膜技术的像素结构,通过分析实验,研究对比了JAS和non-JAS两个机种下,不同的面板反转方式分别对这两个机种像素电压的串扰影响。结果发现,non-JAS机种的像素电压在不同反转方式下受到串扰的影响最小,JAS机种由于数据线与TFT漏极... 基于JAS膜技术的像素结构,通过分析实验,研究对比了JAS和non-JAS两个机种下,不同的面板反转方式分别对这两个机种像素电压的串扰影响。结果发现,non-JAS机种的像素电压在不同反转方式下受到串扰的影响最小,JAS机种由于数据线与TFT漏极之间的寄生电容(C_(sd))的影响而产生颜色串扰的问题,并提出了问题的解决方法。本文的研究结果对大尺寸、高分辨率TFT-LCD产品的像素电压串扰问题及像素结构设计上有一定的指导作用和参考意义。 展开更多

关键词 有机绝缘膜技术 薄膜晶体管液晶显示器像素结构 寄生电容 像素电压串扰

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液晶电视机黑屏故障的分析与维修

14

作者 陈蕴哲 顾斌 王雨 《科技创新与应用》 2020年第12期122-123,共2页

随着经济的发展和社会的进步,人们的物质生活水平有了很大程度的提高。再者,科学技术水平的进步给我们的生活带来了很多的便利。根据调查研究发现,就目前的图像显示器领域而言,一些CRT显示设备或者是等离子显示设备已经在逐步退出人们... 随着经济的发展和社会的进步,人们的物质生活水平有了很大程度的提高。再者,科学技术水平的进步给我们的生活带来了很多的便利。根据调查研究发现,就目前的图像显示器领域而言,一些CRT显示设备或者是等离子显示设备已经在逐步退出人们的生活,液晶显示设备正在逐渐取代它们,但是与之而来的是,使用了CCFL背光设备的第一代液晶彩电目前出现了许多的故障问题。因此文章针对液晶电视黑屏故障与维修进行分析,通过比较CRT和LCD彩电在工作原理上的异同点,以期能够提出CCFL背光型液晶彩电的故障分析方法和有效的维修思路。 展开更多

关键词 LCD CCFL 黑屏 过压保护 检修思路

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TFT-LCD线类缺陷的检测及修正方法研究

15

作者 林宁 《新型工业化》 2020年第8期133-134,共2页

受生产环境、设备环境、生产原材料及生产工艺影响,TFT-LCD在生产流程中会出现各种类型的线不良,比如纵线、横线、按压产生的线、闪烁线、出现一次后未再出现的隐藏线等等。本文通过研究分析人、机、料、法、环各个环节,找出线缺陷产生... 受生产环境、设备环境、生产原材料及生产工艺影响,TFT-LCD在生产流程中会出现各种类型的线不良,比如纵线、横线、按压产生的线、闪烁线、出现一次后未再出现的隐藏线等等。本文通过研究分析人、机、料、法、环各个环节,找出线缺陷产生的原因,并重点介绍了线缺陷的检测方式和修复方法。 展开更多

关键词 TFT-LCD 线缺陷检测 线缺陷修复

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彩色滤光片光阻残不良改善的研究

16

作者 张正林 孙超 张丽娜 《集成电路应用》 2018年第5期67-70,共4页

在TFT-LCD行业彩色滤光片制造中,大颗色阻残留缺陷对产品的良率影响较大,直接导致制造企业的经济效益下降。因此,如何有效降低光阻残影响是业内一个极具挑战性的工作。分析光阻残缺陷的现象和成因,技术人员通过设备清洁与保养、工艺参... 在TFT-LCD行业彩色滤光片制造中,大颗色阻残留缺陷对产品的良率影响较大,直接导致制造企业的经济效益下降。因此,如何有效降低光阻残影响是业内一个极具挑战性的工作。分析光阻残缺陷的现象和成因,技术人员通过设备清洁与保养、工艺参数优化改善CF制造过程中大颗光阻残留缺陷。研究表明,提升曝光量、增加显影时间和技术人员作业手法优化、涂布设备清洁优化的联合运用,可以有效改善光阻残的发生状况,使CF量产品光阻残缺陷NG Loss率降低0.69%。 展开更多

关键词 TFT-LCD CF 光阻残 设备 工艺参数 NG Loss率

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液晶滴下制程IJP、MPP工艺差异及工艺难点分析

17

作者 叶宁 戴明鑫 李广圣 《现代盐化工》 2017年第6期53-56,共4页

文章分析了ODF液晶滴下制程中IJP及MPP两种常用工艺的差异,阐述了IJP工艺液晶挥发性问题以及MPP工艺液晶扩散问题,并提出相应应对措施。

关键词 LCD ODF IJP MPP 液晶挥发 液晶扩散

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Oxide TFT-LCD工艺中金属钝化层Via Hole存在SiO_2残留问题研究

18

作者 何方 姚奇 +1 位作者 李燕龙 赵辉 《现代盐化工》 2017年第4期35-37,共3页

文章以硅烷(SiH_4)和笑气(N_2O)为反应源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积SiO_2薄膜。文章阐述了TFT-LCD生产中由于SiO_2膜质问题所造成的沟道钝化层孔内刻蚀残留,并根据产线的情况对这些问题进行了分析,对实际生产... 文章以硅烷(SiH_4)和笑气(N_2O)为反应源气体,采用射频等离子体增强化学气相沉积(PECVD)法沉积SiO_2薄膜。文章阐述了TFT-LCD生产中由于SiO_2膜质问题所造成的沟道钝化层孔内刻蚀残留,并根据产线的情况对这些问题进行了分析,对实际生产过程中出现的问题提出了相应的解决方案。 展开更多

关键词 TFT-LCD SIO2 PECVD 沟道钝化层 SiO2残留

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