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基于多成核机制的银纳米线制备研究 被引量:3
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作者 李志航 宁洪龙 +7 位作者 李晓庆 陶瑞强 刘贤哲 蔡炜 陈建秋 王磊 姚日晖 彭俊彪 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第A01期303-306,共4页
银纳米线具有合成工艺简单及光电、力学性能优异等优点,是ITO(氧化铟锡)的理想替代材料之一。提高银纳米线的长径比是提升其光电性能的关键。本实验采用多元醇法制备了银纳米线,重点探索了多种成核控制剂对产物银纳米线形貌的影响。结... 银纳米线具有合成工艺简单及光电、力学性能优异等优点,是ITO(氧化铟锡)的理想替代材料之一。提高银纳米线的长径比是提升其光电性能的关键。本实验采用多元醇法制备了银纳米线,重点探索了多种成核控制剂对产物银纳米线形貌的影响。结果表明,在同时使用NaCl与FeCl3时,能制备出平均直径为87nm、平均长度为59μm、长径比为678的银纳米线。使用提纯后产物在玻璃上制备透过率为90.88%、方阻为27.4Ω/sq的透明电极,具有较高的应用价值。 展开更多
关键词 银纳米线 多元醇法 透明电极 成核控制剂
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基于双目视觉的球形物体运动轨迹重建
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作者 施博凯 张昕 +2 位作者 张志鹏 宁洪龙 邱天 《现代信息科技》 2024年第5期94-101,共8页
文章介绍了一种改进的球形目标运动轨迹拟合算法,并以高尔夫球为实例进行算法验证。针对三次样条插值曲线平滑性较弱问题,提出一种基于滤波降噪的改进插值算法,实验结果表明该算法对插值结果影响细微的情况下平滑了拟合曲线。实验首先... 文章介绍了一种改进的球形目标运动轨迹拟合算法,并以高尔夫球为实例进行算法验证。针对三次样条插值曲线平滑性较弱问题,提出一种基于滤波降噪的改进插值算法,实验结果表明该算法对插值结果影响细微的情况下平滑了拟合曲线。实验首先检测出球心坐标,在双目序列图像之间根据坐标差异进行空间点的三维重建;再用一种基于Savitzky-Golay滤波的三次样条插值算法将高尔夫球在空间中的三维散点进行非线性拟合处理,最终完成运动轨迹的三维重建。通过模拟实验,与传统算法相比,文章提出的改进算法恢复运动物体三维信息的效果更加显著,且平均误差率在5%以内。 展开更多
关键词 三维重建 目标检测 Savitzky-Golay滤波 三次样条插值
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喷墨打印中的界面润湿问题 被引量:8
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作者 宁洪龙 朱镇南 +7 位作者 蔡炜 魏靖林 周尚雄 陶瑞强 陈建秋 刘贤哲 姚日晖 彭俊彪 《材料导报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第19期3236-3241,共6页
近年来,印刷电子因成本低、能耗低、工艺简便等优势,在微电子制造领域展现出巨大的应用潜力,引起了人们的广泛重视。喷墨打印作为一种重要的印刷电子工艺,能够通过电脑编程直接实现图形化,相比真空光刻工艺,具有快速、灵活等优势,因此... 近年来,印刷电子因成本低、能耗低、工艺简便等优势,在微电子制造领域展现出巨大的应用潜力,引起了人们的广泛重视。喷墨打印作为一种重要的印刷电子工艺,能够通过电脑编程直接实现图形化,相比真空光刻工艺,具有快速、灵活等优势,因此一直以来都是学术研究的热点。喷墨打印中涉及到墨水材料的喷射及其在打印基底上的沉积过程,在这个过程中墨水将接触到喷头及基板材料并发生润湿行为,因此材料界面的润湿问题关系到打印的图形化以及功能化效果,对最终打印结果有着重要影响。从界面的角度来看,喷墨打印中的润湿问题主要是墨水-打印基底的界面润湿问题;单纯从表面的角度来看,喷墨打印中的润湿问题可以分为墨水(液相)的润湿性问题以及基板(固相)的润湿性问题。研究中通常对液相或固相的润湿性进行控制来实现预期的打印效果。研究表明,墨水的润湿性主要在喷墨过程中影响其喷墨状态,以及在铺展过程中影响打印精度和表面形貌等,而基板的润湿性则主要在墨水铺展成形的过程中决定打印图形化的效果。墨水成分、基板材料很大程度上决定了其表面张力以及表面自由能,通过调整墨水溶剂的配方或加入添加剂以及改变基板材料成分能够显著改变其润湿性。此外,对固体基板来说,还可以对其进行各种表面修饰和处理,通过改变其表面物理化学结构来调整表面自由能,从而改善液相与固相的润湿效果,或使基板不同区域产生润湿性差异,约束液相在特定固相区域上的润湿行为,从而实现特殊的打印需求。本文归纳了近年来喷墨打印中界面润湿问题的相关研究进展,从墨水材料润湿性研究以及基板材料润湿性研究两个方面分析了界面润湿对喷墨打印效果的影响,总结了喷墨打印制备电子器件中的一些重要问题(如打印精度、表面形貌控制等)以及不同处理工艺的特点和优势。随着新时代微电子制造业提出更高集成度的要求,喷墨打印作为新兴制造技术,势必进一步提高其打印分辨率。在此背景下,润湿性研究作为关系到图形化的重要问题,仍旧是挑战与机遇并存。 展开更多
关键词 喷墨打印 界面 润湿 图形化 表面处理
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旋涂法制备WO_3薄膜电致变色性能 被引量:8
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作者 张观广 倪浩智 +5 位作者 张啸尘 黄致维 陶瑞强 姚日晖 宁洪龙 彭俊彪 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期183-188,共6页
"智能窗"大规模推广顺应可持续发展潮流,三氧化钨(WO_3)是生产"智能窗"的一种重要电致变色材料,但调控WO_3薄膜电致变色性能机制仍待进一步研究。采用旋涂法制备WO_3薄膜,重点研究了溶液浓度和旋涂次数对调控WO_3... "智能窗"大规模推广顺应可持续发展潮流,三氧化钨(WO_3)是生产"智能窗"的一种重要电致变色材料,但调控WO_3薄膜电致变色性能机制仍待进一步研究。采用旋涂法制备WO_3薄膜,重点研究了溶液浓度和旋涂次数对调控WO_3薄膜电致变色性能的影响。通过表面轮廓仪测量薄膜厚度,X射线衍射(XRD)测量薄膜结晶情况,原子力显微镜(AFM)和扫描电子显微镜(SEM)分析薄膜表面形貌,光谱仪测量薄膜初始态、着色态和褪色态的透射率。实验结果表明,随着溶液浓度增加(0. 2~1. 0 mol/L),薄膜厚度从9. 7 nm增加到33. 3 nm,透射率调制能力从0%提升到37. 0%;多次旋涂薄膜厚度线性增长,线性拟合优度(R^2)达0. 98,5次旋涂后透射率调制能力达51. 3%。改变溶液浓度和旋涂次数都是调控薄膜透射率调制能力的有效手段,精准调控薄膜透射率调制能力对设计不同应用场景的电致变色器件具有重大意义。 展开更多
关键词 薄膜 三氧化钨 旋涂法 表面形貌 厚度 电致变色
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退火温度对旋涂法制备SnO_2薄膜性能的影响 被引量:3
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作者 张旭 刘贤哲 +7 位作者 袁炜健 邓宇熹 张啸尘 王爽 王佳良 宁洪龙 姚日晖 彭俊彪 《发光学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2019年第2期164-170,共7页
采用旋涂法在玻璃基底上制备SnO_2薄膜,通过原子力显微镜(AFM)、X射线反射(XRR)、傅氏转换红外线光谱仪(FT-IR)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针、开尔文探针系统对薄膜的表面形貌、结构及光学特性、电学特性进行分析,探... 采用旋涂法在玻璃基底上制备SnO_2薄膜,通过原子力显微镜(AFM)、X射线反射(XRR)、傅氏转换红外线光谱仪(FT-IR)、X射线衍射(XRD)、紫外-可见分光光度计、四探针、开尔文探针系统对薄膜的表面形貌、结构及光学特性、电学特性进行分析,探讨了退火温度对薄膜质量的影响及作用机制。研究发现:随着退火温度升高,薄膜厚度和有机成分杂质减小,薄膜密度递增,但薄膜表面粗糙度有所上升;当退火温度升高至500℃时,薄膜结构由非晶转变为结晶,其主要晶面为氧化锡的(110)、(101)和(211)晶面。旋涂法制备的氧化锡薄膜在可见光区域的平均透光率在90%以上,随着退火温度上升,薄膜在400~800 nm波段的透光率先减小后增大,薄膜的带隙宽度分别为3. 840 eV(沉积态薄膜)、3. 792 eV(100℃)、3. 690 eV(300℃)和3. 768eV(500℃);薄膜的电导率也随着退火温度升高而增加,在500℃时电导率高达916 S/m;薄膜的功函数先增大后减小,分别为(4. 61±0. 005) eV(沉积态薄膜)、(4. 64±0. 005) eV(100℃)、(4. 82±0. 025) eV(300℃)、(4. 78±0. 065) eV(500℃)。 展开更多
关键词 二氧化锡薄膜 旋涂法 退火 光学特性 电学特性
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