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水松纸激光打孔技术研究 被引量:14
1
作者 韩要轩 陈培锋 +3 位作者 周卓尤 陈泽民 张向明 邓国华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2002年第5期330-333,共4页
讨论了用连续CO2 激光器对水松纸打孔的原理和实现方案 ,就其中一种方案的打孔结果进行分析 ,指出激光打孔时影响打孔水松纸透气度的一些因素。
关键词 打孔 水松纸 透气度 CO2激光器
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单片机控制的激光标刻机 被引量:5
2
作者 雷建设 黄肇明 +2 位作者 郭振华 李又生 刘斌波 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2001年第2期140-143,共4页
给出了用于工业领域的单片机控制的激光标刻机的原理和实现方法 ,以及单片机控制系统的硬件与接口程序。
关键词 激光标刻机 单片机 控制系统 计算机控制
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射频CO_2激光陶瓷基板划片机
3
作者 侯廉平 陈陪峰 陈清明 《激光杂志》 CAS CSCD 北大核心 2002年第6期54-56,共3页
介绍了RFCO2 激光器及陶瓷基板划片的特点。分析了RFCO2 激光陶瓷基板划片的机理 ;给出了整机总体设计方案。对导光系统的激光束进行了模拟 ,给出了导光系统的光路图及聚焦镜焦平面处的光斑尺寸及能量分布图。
关键词 射频 CO2激光 陶瓷基板 划片机 激光划片 二氧化碳
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激光化学气相沉积技术在掩模版修复中的应用 被引量:3
4
作者 黄河 朱晓 +4 位作者 朱长虹 朱广志 李跃松 张沛 万承华 《激光技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第3期330-332,共3页
为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密... 为了对光掩模版亮场缺陷进行修补,采用激光化学气相沉积的方法,利用功率密度为1.3×108W/cm2的355nm紫外激光诱导Cr(CO)6分解,在1.5 s内获得了光掩模亮场区域附着力强、消光比高的金属Cr膜。结果表明,在开放的环境下,采用高功率密度、短作用时间的方法能够得到高质量的沉积薄膜,满足了微电子行业中对掩模版修复的要求。 展开更多
关键词 激光技术 光化学 光掩模修复 激光化学气相沉积 开放式
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