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题名激光对羟基磷酸铜的还原机理研究
被引量：2
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作者
靳明明
刘若钰
项徽清
刘建国
曾晓雁
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机构
华中科技大学武汉光电国家研究中心激光与太赫兹技术功能实验室
武汉市洪山高级中学
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出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2020年第2期148-155,共8页
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基金
国家自然科学基金面上资助项目(51775209)。
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文摘
为了研究激光选区金属化技术中,激光与尖晶石型化合物的相互作用机理,选用质优价廉、具有尖晶石结构的可见光和近红外光敏催化物质羟基磷酸铜(Cu 2(OH)PO 4)作为研究对象,利用X射线光电子能谱技术,探讨了波长为1064nm纳秒脉冲光纤激光、连续光纤激光和波长为355nm的纳秒脉冲紫外激光与羟基磷酸铜的相互作用机理。结果表明,3种激光都能将羟基磷酸铜中的+2价铜元素(Cu 2+)还原为+1价铜元素(Cu+),但还原过程随激光功率(0.13W^3.89W)或激光能量密度(2.76J/cm 2~25.48J/cm 2)的变化呈现不同的规律;结合羟基磷酸铜的热性能分析和紫外可见光吸收光谱分析,初步判断,在上述还原过程中,可能同时存在光热反应和光化学反应。该研究为羟基磷酸铜作为一种新型的激光活性物质提供了理论基础。
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关键词
激光技术
激光与物质相互作用
纳秒脉冲光纤激光
纳秒脉冲紫外激光
连续光纤激光
羟基磷酸铜
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Keywords
laser technique
laser-matter interaction
nanosecond pulse fiber laser
nanosecond pulse ultraviolet laser
continuous fiber laser
copper hydroxyphosphate
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分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
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题名激光表面改性有机高分子材料的研究进展
被引量：2
- 2
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作者
项徽清
秦中立
张奇
刘建国
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机构
华中科技大学武汉光电国家研究中心激光与太赫兹技术功能实验室
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出处
《表面技术》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2020年第5期103-111,共9页
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基金
国家自然科学基金面上项目(51775209)。
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文摘
有机高分子材料具有质轻、易成型、成本低等优点,在汽车、电子等领域有广泛的应用,但有机高分子材料的原始表面多数呈现化学惰性、表面能低,导致其应用受限。激光表面改性技术具有柔性化程度高、区域选择性好、可三维加工等诸多优势。简要综述了激光表面改性有机高分子材料的性能变化、机理和应用的国内外研究进展,表明通过激光改性可以在有机高分子材料表面形成诸如凸起、凹坑、沟槽、多孔和周期性结构等微观形貌,并使表面化学成分发生显著变化,进而影响其表面润湿性、表面能、吸附性、颜色和/或减阻等性能,这主要与有机高分子材料的自身特性、激光改性参数以及改性环境等因素密切相关,而且通过控制激光改性参数,还有可能实现对上述表面性能变化的精密调控。激光表面改性有机高分子材料在理论研究和实际应用中都具有巨大的价值,但目前对于激光表面改性有机高分子材料的理论研究落后于应用研究,还应进一步加强对改性技术和机理的探索与研究。
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关键词
有机高分子材料
激光表面改性
表面性能
改性机理
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Keywords
organic polymers
laser surface modification
surface properties
modification mechanism
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分类号
V261.8
[航空宇航科学与技术—航空宇航制造工程]
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题名纳秒光纤激光诱导等离子体沉积铜的研究
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作者
杨凯
秦中立
艾骏
刘建国
曾晓雁
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机构
华中科技大学武汉光电国家研究中心激光与太赫兹技术功能实验室
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出处
《激光技术》
CAS
CSCD
北大核心
2019年第2期246-250,共5页
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基金
国家自然科学基金面上资助项目(51775209)
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文摘
为了实现玻璃表面的金属化,运用激光诱导等离子体沉积技术,选用廉价易维护且波长为1064nm的红外纳秒光纤激光和T2铜靶材,在透明材料普通硅酸盐玻璃表面直接沉积出了金属铜,并对其进行了光学显微镜和扫描电镜表征。结果表明,在一定的激光能量密度范围内(沉积阈值能量密度12.50J/cm^2～激光器所能达到的最大能量密度27.13J/cm^2),随着激光能量密度的增加,沉积在玻璃表面的铜颗粒数量增加;而在激光能量密度一定(27.13J/cm^2)的条件下,若保持激光光斑的横向和纵向搭接率一致,当光斑搭接率不小于50%时,由于玻璃对激光的强烈吸收,导致铜沉积失败;当光斑搭接率在-20%～50%变化时,沉积在玻璃表面的铜颗粒数量呈现先增加后减小的变化趋势。激光诱导等离子体沉积技术是一种可实现透明衬底材料表面金属化的便捷技术。
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关键词
激光技术
激光诱导等离子体沉积
纳秒光纤激光
铜沉积层
铜图案
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Keywords
laser technique
laser-induced plasma deposition
nanosecond fiber laser
copper deposition layer
copper pattern
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分类号
TN249
[电子电信—物理电子学]
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