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微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究
被引量：
6
1
作者
张新宇
易新建
+1 位作者
起兴荣
刘鲁勤
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
1998年第1期60-64,共5页
利用光刻／离子束刻蚀制作大面阵硅微透镜阵列，采用SEM和表面探针测试等手段分析所制样品的形貌特点，定性讨论制备工艺的不同对所制器件的影响．所用工艺为大面阵微尖阵列和微合阵列的离子束刻蚀制作奠定了基础．
关键词
面阵
微透镜
微观形貌分析
硅微透镜
光刻胶
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职称材料
题名
微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究
被引量：
6
1
作者
张新宇
易新建
起兴荣
刘鲁勤
机构
华中理工大学光电于工程系
航天部二院
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
1998年第1期60-64,共5页
文摘
利用光刻／离子束刻蚀制作大面阵硅微透镜阵列，采用SEM和表面探针测试等手段分析所制样品的形貌特点，定性讨论制备工艺的不同对所制器件的影响．所用工艺为大面阵微尖阵列和微合阵列的离子束刻蚀制作奠定了基础．
关键词
面阵
微透镜
微观形貌分析
硅微透镜
光刻胶
Keywords
Area Si microlens arrays
Morphology analysis
分类号
TH－39 [机械工程]
TH74－39 [机械工程—光学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
微透镜制作中光刻胶与衬底匹配行为的研究
张新宇
易新建
起兴荣
刘鲁勤
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
1998
6
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