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导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
被引量：
17
1
作者
陈志钢
唐一文
+3 位作者
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期367-372,共6页
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 ...
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol／L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积 的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.
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关键词
氧化亚铜
电沉积
膜
表征
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职称材料
题名
导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
被引量：
17
1
作者
陈志钢
唐一文
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
机构
华中师范大学物理科学与技术学院纳米科技研究院
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期367-372,共6页
基金
国家自然科学基金(20207002)教育部留学回国人员启动基金
文摘
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol／L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积 的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.
关键词
氧化亚铜
电沉积
膜
表征
Keywords
cuprous oxide
electrodeposition
film
characterization
分类号
O614 [理学—无机化学]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
陈志钢
唐一文
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
17
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职称材料
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