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离线热处理和原位电子辐照下羟基硫酸镍纳米带结构演变的TEM研究
被引量：
2
1
作者
卢小莉
张珂
+3 位作者
李露颖
王建波
唐一文
贾志勇
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2008年第4期275-281,共7页
利用透射电子显微术,主要包括亮场像形貌观察、选区电子衍射结合运动学模拟计算和高分辨电子显微像,对水热法制备的结晶良好的Ni(SO4)0.3(OH)1.4纳米带结构和生长形态进行了表征,并结合利用在不同温度的离线热处理及原位电子辐照,对从...
利用透射电子显微术,主要包括亮场像形貌观察、选区电子衍射结合运动学模拟计算和高分辨电子显微像,对水热法制备的结晶良好的Ni(SO4)0.3(OH)1.4纳米带结构和生长形态进行了表征,并结合利用在不同温度的离线热处理及原位电子辐照,对从结晶良好的Ni(SO4)0.3(OH)1.4纳米带到疏松多孔的NiO纳米带,最后到NiO纳米颗粒的结构演变进行了系统研究,得到了Ni(SO4)0.3(OH)1.4和NiO的取向关系,揭示了这一系列过程的结构演变并给出了Ni(SO4)0.3(OH)1.4的初步结构模型。
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关键词
纳米带
羟基硫酸镍
热处理
电子辐照
选区电子衍射
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职称材料
导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
被引量：
17
2
作者
陈志钢
唐一文
+3 位作者
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期367-372,共6页
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 ...
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol／L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积 的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.
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关键词
氧化亚铜
电沉积
膜
表征
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职称材料
题名
离线热处理和原位电子辐照下羟基硫酸镍纳米带结构演变的TEM研究
被引量：
2
1
作者
卢小莉
张珂
李露颖
王建波
唐一文
贾志勇
机构
武汉
大学
物理
科学与
技术
学院
武汉
大学
电子显微镜中心
华中师范大学物理科学与技术学院纳米研究院
出处
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2008年第4期275-281,共7页
基金
教育部新世纪人才基金
湖北省青年杰出人才基金资助项目(No.2005ABB014)
文摘
利用透射电子显微术,主要包括亮场像形貌观察、选区电子衍射结合运动学模拟计算和高分辨电子显微像,对水热法制备的结晶良好的Ni(SO4)0.3(OH)1.4纳米带结构和生长形态进行了表征,并结合利用在不同温度的离线热处理及原位电子辐照,对从结晶良好的Ni(SO4)0.3(OH)1.4纳米带到疏松多孔的NiO纳米带,最后到NiO纳米颗粒的结构演变进行了系统研究,得到了Ni(SO4)0.3(OH)1.4和NiO的取向关系,揭示了这一系列过程的结构演变并给出了Ni(SO4)0.3(OH)1.4的初步结构模型。
关键词
纳米带
羟基硫酸镍
热处理
电子辐照
选区电子衍射
Keywords
nanobelt
Ni（ SO4 ）0.3 （OH） 1.4
heat treatment
electron irradiation
SAED
分类号
TB383.1 [一般工业技术—材料科学与工程]
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职称材料
题名
导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
被引量：
17
2
作者
陈志钢
唐一文
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
机构
华中师范大学
物理
科学与
技术
学院
纳米
科技
研究院
出处
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第2期367-372,共6页
基金
国家自然科学基金(20207002)教育部留学回国人员启动基金
文摘
研究了用简单铜盐通过阴极还原氧化亚铜的电化学行为,讨论了一些工艺因素对 在导电玻片上电沉积Cu2O薄膜的影响,并对所制备的Cu2O薄膜分别用台阶仪、X射线 衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、X射线光电子能谱(XPS)进行表征.得到的较佳工艺 条件为:电势-0.22--0.45V(vs SCE),温度为60℃,pH值为5.5-6.0,(CH3COO)2Cu浓度为 0.015-0.04mol／L.表征结果发现,随池温的升高,晶粒尺寸从0.2μm增加到0.4μm,60℃沉积 的Cu2O薄膜开始具有(111)面择优取向,Cu2O膜纯度高,薄膜表面呈网络多孔结构.
关键词
氧化亚铜
电沉积
膜
表征
Keywords
cuprous oxide
electrodeposition
film
characterization
分类号
O614 [理学—无机化学]
TB43 [一般工业技术]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
离线热处理和原位电子辐照下羟基硫酸镍纳米带结构演变的TEM研究
卢小莉
张珂
李露颖
王建波
唐一文
贾志勇
《电子显微学报》
CAS
CSCD
2008
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
导电玻片上氧化亚铜膜的电沉积和表征
陈志钢
唐一文
贾志杰
张丽莎
李家麟
余颖
《无机材料学报》
SCIE
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
17
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职称材料
已选择
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