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铜抛光液的电化学行为研究 被引量:4
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作者 李秀娟 郭东明 +1 位作者 康仁科 金洙吉 《哈尔滨工业大学学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2008年第7期1144-1147,共4页
为分析用于超大规模集成电路(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)所使用抛光液的添加剂对铜硅片的氧化、溶解和腐蚀抑制行为,以双氧水为氧化剂,柠檬酸为络合剂,苯丙三唑(BTA)为腐蚀抑制剂,在pH5的条件下进行抛光液的电化学行为研究.测试了铜在... 为分析用于超大规模集成电路(ULSI)中铜化学机械抛光(CMP)所使用抛光液的添加剂对铜硅片的氧化、溶解和腐蚀抑制行为,以双氧水为氧化剂,柠檬酸为络合剂,苯丙三唑(BTA)为腐蚀抑制剂,在pH5的条件下进行抛光液的电化学行为研究.测试了铜在抛光液中的极化曲线、交流阻抗谱以及静腐蚀量.试验结果表明:添加络合剂柠檬酸降低了原来处于钝化状态下的铜抛光液系统的阻抗;加入缓蚀剂BTA后,Cu-H2O2-Citric acid-BTA系统的交流阻抗值增大.测试到的Cu-H2O2-Citric acid系统由于存在铜的不可逆氧化过程,导致了Warburg阻抗的存在;添加BTA后,在铜的表面生成了CuBTA的缓蚀膜,抑制了铜的腐蚀并改变了铜在Cu-H2O2-Citric acid系统中的电化学反应过程. 展开更多
关键词 化学机械抛光 电化学 交流阻抗谱 电极过程
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地理标志保护模式之争与我国的立法选择 被引量:45
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作者 王莲峰 黄泽雁 《华东政法学院学报》 CSSCI 2006年第6期44-53,共10页
目前地理标志的扩大保护和多边通知及注册制度成为地理标志国际保护的新焦点。地理标志保护模式之争已成为我国地理标志保护领域亟待解决的问题。本文着重分析了我国现行地理标志保护模式中存在的不足和缺憾,提出制定专门的《地理标志... 目前地理标志的扩大保护和多边通知及注册制度成为地理标志国际保护的新焦点。地理标志保护模式之争已成为我国地理标志保护领域亟待解决的问题。本文着重分析了我国现行地理标志保护模式中存在的不足和缺憾,提出制定专门的《地理标志保护法》,并对该法的框架和内容提出了设想。 展开更多
关键词 地理标志 保护模式 立法选择
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计算机软件保护的法律分析 被引量:7
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作者 吴道同 吴林 《知识产权》 CSSCI 2006年第5期69-72,共4页
随着计算机软件在世界范围内的飞速发展,引起了人们对其保护的思考,各种法律保护的理论、方法应运而生。其中以版权法保护、专利法保护、商业秘密保护、综合模式保护较为有影响力。笔者通过对这些方法的利弊分析,来寻求解决问题的方法... 随着计算机软件在世界范围内的飞速发展,引起了人们对其保护的思考,各种法律保护的理论、方法应运而生。其中以版权法保护、专利法保护、商业秘密保护、综合模式保护较为有影响力。笔者通过对这些方法的利弊分析,来寻求解决问题的方法。在修改、补充原有法律和针对软件特点专门立法两种解决途径的对比下,指出专门立法的优势。当然一切的推论只是单纯从保护计算机软件出发,立法还应结合中国当前在软件领域的国情。 展开更多
关键词 计算机软件 版权保护 专利保护 合模式保护 专门立法
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维护我国生态安全,防范外来物种入侵的几点思考 被引量:3
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作者 曹丽荣 李艳红 《四川动物》 CSCD 北大核心 2007年第4期872-876,共5页
随着全球经济一体化,国际贸易和旅游业的快速发展,外来物种入侵现象日益加剧,对我国生态安全和生物多样性保护构成了极大的威胁,加强外来入侵物种的防范和管理已迫在眉睫。本文分析了我国外来物种入侵的途径、入侵特征以及外来入侵物种... 随着全球经济一体化,国际贸易和旅游业的快速发展,外来物种入侵现象日益加剧,对我国生态安全和生物多样性保护构成了极大的威胁,加强外来入侵物种的防范和管理已迫在眉睫。本文分析了我国外来物种入侵的途径、入侵特征以及外来入侵物种对我国造成的危害,探讨了防范外来入侵物种的对策。 展开更多
关键词 外来入侵物种 防范 生态安全
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野生动物资源的法律保护 被引量:5
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作者 曹丽荣 《四川动物》 CSCD 北大核心 2011年第2期288-292,共5页
野生动物资源兼具经济、生态、文化和社会等价值,保护野生动物资源不仅有利于维持生态平衡,而且是保护人类自身生存和经济社会可持续发展不可缺少的资源。保护野生动物资源已成为全球关注的重要问题。本文梳理了我国目前有关野生动物资... 野生动物资源兼具经济、生态、文化和社会等价值,保护野生动物资源不仅有利于维持生态平衡,而且是保护人类自身生存和经济社会可持续发展不可缺少的资源。保护野生动物资源已成为全球关注的重要问题。本文梳理了我国目前有关野生动物资源保护的相关法律规定,同时对完善我国野生动物资源保护的法律问题进行了初步探讨,提出了相关建议。 展开更多
关键词 野生动物资源 法律 保护
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RBR控制在超大规模集成电路制造的化学机械抛光工艺中的应用
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作者 李秀娟 金洙吉 +2 位作者 康仁科 郭东明 苏建修 《金刚石与磨料磨具工程》 CAS 北大核心 2006年第2期61-64,共4页
本论文介绍了RBR过程控制技术在超大规模集成电路(ULSI)制造中的化学机械抛光(CMP)这一关键工艺中的应用。CMP工艺中的RBR控制是利用CMP工艺后检测获得的抛光质量数据来调整下一片硅片抛光的输入工艺参数的方法实现的。由于影响CMP过程... 本论文介绍了RBR过程控制技术在超大规模集成电路(ULSI)制造中的化学机械抛光(CMP)这一关键工艺中的应用。CMP工艺中的RBR控制是利用CMP工艺后检测获得的抛光质量数据来调整下一片硅片抛光的输入工艺参数的方法实现的。由于影响CMP过程的参数比较多,并且存在一些复杂的变化过程(如抛光垫老化、更换抛光垫等),使得其RBR控制是一个多目标、多输入、多输出的控制过程。本文结合CMP工艺分析了RBR控制,并以双指数权重调整方法为例描述了用于CMP的RBR控制算法,最后介绍了RBR控制在CMP工艺应用中的最新研究结果。 展开更多
关键词 化学机械抛光 RBR控制 过程控制
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