期刊文献+
共找到2篇文章
< 1 >
每页显示 20 50 100
新旧动能转换引领第三代半导体产业创新发展 被引量:4
1
作者 李晋闽 《中国科技产业》 2018年第1期54-55,共2页
第三代半导体材料凭借其极其重要和具有战略性的应用价值,成为提升新一代信息技术核心竞争力的重要支撑。第一代半导体材料以硅(Si)和锗(Ge)等元素半导体为代表,奠定了微电子产业基础;第二代半导体材料以砷化镓(GaAs)和磷化铟(In... 第三代半导体材料凭借其极其重要和具有战略性的应用价值,成为提升新一代信息技术核心竞争力的重要支撑。第一代半导体材料以硅(Si)和锗(Ge)等元素半导体为代表,奠定了微电子产业基础;第二代半导体材料以砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)为代表,奠定了信息产业基础。 展开更多
关键词 第三代半导体材料 产业创新 动能转换 核心竞争力 元素半导体 微电子产业 信息技术 信息产业
在线阅读 下载PDF
大面积规则排布的AlN纳米柱阵列制备 被引量:2
2
作者 朱邵歆 陈翔 +3 位作者 闫建昌 张韵 王军喜 李晋闽 《半导体技术》 CSCD 北大核心 2017年第9期696-700,716,共6页
采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀... 采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀相结合的工艺,通过自上而下的方法制备得到了大面积范围内规则排列的Al N纳米柱阵列,纳米柱的高度和直径分别为1μm和535 nm。研究结果表明,高晶体质量的Al N材料以及基于AZ400K溶液的湿法腐蚀工艺是制备无腐蚀坑且侧壁光滑的垂直Al N纳米柱阵列的关键。Al N纳米柱阵列的制备为深紫外纳米柱发光器件的研究奠定了基础。 展开更多
关键词 氮化铝 纳米柱 纳米压印光刻 湿法腐蚀 自上而下法
在线阅读 下载PDF
上一页 1 下一页 到第
使用帮助 返回顶部