期刊导航
期刊开放获取
上海教育软件发展有限公..
期刊文献
+
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
任意字段
题名或关键词
题名
关键词
文摘
作者
第一作者
机构
刊名
分类号
参考文献
作者简介
基金资助
栏目信息
检索
高级检索
期刊导航
共找到
2
篇文章
<
1
>
每页显示
20
50
100
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
显示方式:
文摘
详细
列表
相关度排序
被引量排序
时效性排序
新旧动能转换引领第三代半导体产业创新发展
被引量:
4
1
作者
李晋闽
《中国科技产业》
2018年第1期54-55,共2页
第三代半导体材料凭借其极其重要和具有战略性的应用价值,成为提升新一代信息技术核心竞争力的重要支撑。第一代半导体材料以硅(Si)和锗(Ge)等元素半导体为代表,奠定了微电子产业基础;第二代半导体材料以砷化镓(GaAs)和磷化铟(In...
第三代半导体材料凭借其极其重要和具有战略性的应用价值,成为提升新一代信息技术核心竞争力的重要支撑。第一代半导体材料以硅(Si)和锗(Ge)等元素半导体为代表,奠定了微电子产业基础;第二代半导体材料以砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)为代表,奠定了信息产业基础。
展开更多
关键词
第三代半导体材料
产业创新
动能转换
核心竞争力
元素半导体
微电子产业
信息技术
信息产业
在线阅读
下载PDF
职称材料
大面积规则排布的AlN纳米柱阵列制备
被引量:
2
2
作者
朱邵歆
陈翔
+3 位作者
闫建昌
张韵
王军喜
李晋闽
《半导体技术》
CSCD
北大核心
2017年第9期696-700,716,共6页
采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀...
采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀相结合的工艺,通过自上而下的方法制备得到了大面积范围内规则排列的Al N纳米柱阵列,纳米柱的高度和直径分别为1μm和535 nm。研究结果表明,高晶体质量的Al N材料以及基于AZ400K溶液的湿法腐蚀工艺是制备无腐蚀坑且侧壁光滑的垂直Al N纳米柱阵列的关键。Al N纳米柱阵列的制备为深紫外纳米柱发光器件的研究奠定了基础。
展开更多
关键词
氮化铝
纳米柱
纳米压印光刻
湿法腐蚀
自上而下法
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
新旧动能转换引领第三代半导体产业创新发展
被引量:
4
1
作者
李晋闽
机构
半导体照明联合创新国家重点实验室
国家
半导体
照明
工程研发及产业联盟
出处
《中国科技产业》
2018年第1期54-55,共2页
文摘
第三代半导体材料凭借其极其重要和具有战略性的应用价值,成为提升新一代信息技术核心竞争力的重要支撑。第一代半导体材料以硅(Si)和锗(Ge)等元素半导体为代表,奠定了微电子产业基础;第二代半导体材料以砷化镓(GaAs)和磷化铟(InP)为代表,奠定了信息产业基础。
关键词
第三代半导体材料
产业创新
动能转换
核心竞争力
元素半导体
微电子产业
信息技术
信息产业
分类号
F426.63 [经济管理—产业经济]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
大面积规则排布的AlN纳米柱阵列制备
被引量:
2
2
作者
朱邵歆
陈翔
闫建昌
张韵
王军喜
李晋闽
机构
中国电子信息产业发展研究院集成电路研究所
中国科学院
半导体
研究所
半导体
照明
研发中心
中国科学院大学
北京市第三代
半导体
材料及应用技术工程中心
半导体照明联合创新国家重点实验室
出处
《半导体技术》
CSCD
北大核心
2017年第9期696-700,716,共6页
基金
国家重点研发计划"战略性先进电子材料"重点专项(2016YFB04000803
2016YFB04000802)
+6 种基金
国家高技术研究发展计划(863计划)资助项目(2014AA032608)
国家自然科学基金资助项目(61376090
61376047
61527814
61674147
61204053)
北京市科委重大项目课题资助项目(D161100002516002)
文摘
采用金属有机化合物化学气相沉积(MOCVD)方法在2英寸(1英寸=2.54 cm)c面蓝宝石衬底上异质外延厚度1μm、具有原子级平整表面的高质量氮化铝(Al N)外延层。并在此高质量Al N薄膜的基础上开发了基于纳米压印光刻技术、干法刻蚀和湿法腐蚀相结合的工艺,通过自上而下的方法制备得到了大面积范围内规则排列的Al N纳米柱阵列,纳米柱的高度和直径分别为1μm和535 nm。研究结果表明,高晶体质量的Al N材料以及基于AZ400K溶液的湿法腐蚀工艺是制备无腐蚀坑且侧壁光滑的垂直Al N纳米柱阵列的关键。Al N纳米柱阵列的制备为深紫外纳米柱发光器件的研究奠定了基础。
关键词
氮化铝
纳米柱
纳米压印光刻
湿法腐蚀
自上而下法
Keywords
AlN
nanorods
nano-imprint lithography
wet etching
top-down method
分类号
TN304.054 [电子电信—物理电子学]
TN304.2 [电子电信—物理电子学]
在线阅读
下载PDF
职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
新旧动能转换引领第三代半导体产业创新发展
李晋闽
《中国科技产业》
2018
4
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
大面积规则排布的AlN纳米柱阵列制备
朱邵歆
陈翔
闫建昌
张韵
王军喜
李晋闽
《半导体技术》
CSCD
北大核心
2017
2
在线阅读
下载PDF
职称材料
已选择
0
条
导出题录
引用分析
参考文献
引证文献
统计分析
检索结果
已选文献
上一页
1
下一页
到第
页
确定
用户登录
登录
IP登录
使用帮助
返回顶部