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用电去离子方法去除高纯水中硅的研究
被引量：
7
1
作者
闻瑞梅
张亚峰
+1 位作者
邓守权
范伟
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004年第10期27-29,共3页
研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比。实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因...
研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比。实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因素不变的情况下,EDI对硅的脱除率随着pH的增加先增加,然后有所下降;在电压、pH等因素不变的情况下,流量的增加不利于EDI对硅的脱除。
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关键词
电去离子
硅
高纯水
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职称材料
题名
用电去离子方法去除高纯水中硅的研究
被引量：
7
1
作者
闻瑞梅
张亚峰
邓守权
范伟
机构
同济大学环境科学与工程学院
华东建筑
设计
研究院有限公司
北京钢铁设计总院
出处
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004年第10期27-29,共3页
文摘
研究了电压、pH、流量等因素对EDI去除高纯水中硅的影响,探讨了EDI装置对高纯水中硅的去除机理,并对传统工艺与EDI的除硅效果进行了对比。实验结果表明:在pH、流量等因素不变的情况下,电压的增加有利于EDI对硅的脱除;在电压、流量等因素不变的情况下,EDI对硅的脱除率随着pH的增加先增加,然后有所下降;在电压、pH等因素不变的情况下,流量的增加不利于EDI对硅的脱除。
关键词
电去离子
硅
高纯水
Keywords
electrodeionization(EDI)
silicon
ultra-pure water
分类号
TQ085.411 [化学工程]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
用电去离子方法去除高纯水中硅的研究
闻瑞梅
张亚峰
邓守权
范伟
《工业水处理》
CAS
CSCD
2004
7
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