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基于负膨胀材料的光纤Bragg光栅温度补偿研究 被引量:5
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作者 王艳 闫卫平 +1 位作者 张玉书 王聪 《仪器仪表学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第z1期10-11,25,共3页
伴随着光纤通信技术的发展,光纤Bragg光栅已成为光纤通信的基本元件。由于光纤Bragg光栅的中心反射波长λB随着环境温度的起伏而发生漂移,为光纤Bragg光栅的应用带来很大困难。本文用负热膨胀系数陶瓷粉末ZrW2O8对光纤Bragg光栅进行了... 伴随着光纤通信技术的发展,光纤Bragg光栅已成为光纤通信的基本元件。由于光纤Bragg光栅的中心反射波长λB随着环境温度的起伏而发生漂移,为光纤Bragg光栅的应用带来很大困难。本文用负热膨胀系数陶瓷粉末ZrW2O8对光纤Bragg光栅进行了温度补偿,取得了一定的补偿效果,为深入研究奠定了一定的基础。 展开更多
关键词 光纤BRAGG光栅 反射波长 负热膨胀系数 ZRW2O8 温度补偿
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高压电力电容器典型缺陷的静电场仿真研究 被引量:1
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作者 张建超 郭继芳 孟超 《电源技术》 CAS CSCD 北大核心 2009年第9期787-789,共3页
缺陷的几何形状,材料的基本参数及空间电荷的分布,都影响着局部放电发生的机理与参量。为了研究高压储能电容器的局部放电现象,从绝缘材料的典型缺陷出发,讨论局部放电与缺陷的关系。
关键词 电容器 静电场 仿真 电力
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M(M=Mg,Ca,Sr,Ba,Ni)Nb_2O_6的光催化性能的研究 被引量:5
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作者 安惠中 王聪 +1 位作者 王天民 郝维昌 《无机材料学报》 SCIE EI CAS CSCD 北大核心 2007年第5期922-926,共5页
应用固相烧结法制备了半导体光催化材料MgNb_2O_6,CaNb_2O_6,SrNb_2O_6,BaNb_2O_6,NiNb_2O_6粉体.利用XRD、UV-Vis漫反射谱、扫描电镜对上述粉体晶体结构、光谱性质和形貌进行了分析.在紫外光下对其降解罗丹明B(RhB)的光催化性能进行了... 应用固相烧结法制备了半导体光催化材料MgNb_2O_6,CaNb_2O_6,SrNb_2O_6,BaNb_2O_6,NiNb_2O_6粉体.利用XRD、UV-Vis漫反射谱、扫描电镜对上述粉体晶体结构、光谱性质和形貌进行了分析.在紫外光下对其降解罗丹明B(RhB)的光催化性能进行了评估.结果表明,碱土金属Sr、Ba对NiNb_2O_6中Ni的取代能很好地提高铌酸盐的光催化效果,在10h紫外光照射下能分别将RhB的浓度降解到原来的21%和37%. 展开更多
关键词 铌酸盐 光催化 降解罗丹明B 碱土金属
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基底及HMVF层厚度变化对NbSiN/NbSiNO/Si_3N_4涂层光学性能的影响 被引量:1
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作者 谢万峰 闫金良 +4 位作者 刘宇 薛亚飞 张易军 张放放 王聪 《太阳能学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2014年第1期145-148,共4页
采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBU... 采用多靶磁控溅射镀膜机,以在Si靶上加Nb片的方法分别在Cu和单面抛光不锈钢(SS)基底上制备NbSiN/NbSiNO/Si3N4和Mo/NbSiN/NbSiNO/Si3N4多层膜。用α-step台阶仪(DEKTAK IIA)测量膜层厚度,UVPC3100分光光度计和傅里叶红外光谱仪(EXCALIBUR FTS 3000)对样品的光学性质进行表征。实验表明:在Cu基底上制备的涂层吸收率α=0.90,发射率ε=0.12;以SS为基底,红外反射层Mo的厚度约为230nm时,在λ>2.5μm范围内反射率最高,达到90%以上。高金属体积分数吸收层(HMVF)厚度约为80nm时吸收率α=0.95,发射率ε=0.33;真空下500℃和600℃各20h退火后吸收率、发射率变化不大。 展开更多
关键词 太阳能 光谱选择性 光学特性 吸收率 发射率 磁控溅射
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TiN_xO_y薄膜的制备及其光学特性 被引量:1
5
作者 陈尔东 王聪 《材料科学与工程学报》 CAS CSCD 北大核心 2008年第5期706-708,共3页
用直流磁控溅射技术在玻璃基底上沉积TiNxOy薄膜。应用XRD与SEM表征了TiNxOy薄膜的晶化程度及表面形貌。在室温下300~900nm的波长范围内测量了薄膜的透射光谱,并根据“包络法”理论,计算了薄膜的光学常数。结果表明,随着入射波长的... 用直流磁控溅射技术在玻璃基底上沉积TiNxOy薄膜。应用XRD与SEM表征了TiNxOy薄膜的晶化程度及表面形貌。在室温下300~900nm的波长范围内测量了薄膜的透射光谱,并根据“包络法”理论,计算了薄膜的光学常数。结果表明,随着入射波长的增加,薄膜的折射率n先减小后再增加;消光系数k单调增加;而吸收系数变化平缓。由“包络法”和Tauc关系确定TiNxOy薄膜的光学能隙约为2.213eV。 展开更多
关键词 直流磁控溅射 TiNxOy 薄膜 光学特性 包络法
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