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高洁净微合金钢变形抗力的研究 被引量:2
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作者 康永林 王艳丽 +2 位作者 张艳 柳得橹 傅杰 《中国机械工程》 EI CAS CSCD 北大核心 2002年第3期242-244,共3页
利用 Gleeble- 1 5 0 0材料热 /力模拟机研究了高洁净微合金钢的变形抗力规律 ,讨论了不同形变温度对金属流变特性的影响并与两种工业钢X6 0 (管道用钢 )和 XTE3 5 5 (大桥用钢 )进行了比较。变形抗力实验在 72 0~1 1 0 0℃进行 ,实验... 利用 Gleeble- 1 5 0 0材料热 /力模拟机研究了高洁净微合金钢的变形抗力规律 ,讨论了不同形变温度对金属流变特性的影响并与两种工业钢X6 0 (管道用钢 )和 XTE3 5 5 (大桥用钢 )进行了比较。变形抗力实验在 72 0~1 1 0 0℃进行 ,实验表明 ,随着变形温度的降低 ,金属的流变应力明显升高 ;在低温区变形时 (72 0~ 780℃ ) ,高洁净钢的变形抗力与两种工业钢无明显差别 ;相同变形温度条件下 ,变形量增大时高洁净钢的变形抗力增加程度比两种工业钢小。 展开更多
关键词 高洁净微合金钢 变形能力 形变温度 变形量
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NiFe/IrMn多层膜制备及MgO掺杂研究 被引量:2
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作者 李明华 游顺青 +3 位作者 刘洋 陈喜 董跃刚 于广华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2012年第11期1503-1505,共3页
采用磁控溅射制备了Ta/NiFe/IrMn/Ta薄膜,研究了反铁磁IrMn的溅射功率和铁磁层NiFe厚度对多层膜交换偏置场的影响。在反铁磁IrMn中插入MgO,发现MgO含量对交换偏置场有一定影响。随着MgO含量的增加,多层膜的交换偏置场逐渐增大,当MgO的... 采用磁控溅射制备了Ta/NiFe/IrMn/Ta薄膜,研究了反铁磁IrMn的溅射功率和铁磁层NiFe厚度对多层膜交换偏置场的影响。在反铁磁IrMn中插入MgO,发现MgO含量对交换偏置场有一定影响。随着MgO含量的增加,多层膜的交换偏置场逐渐增大,当MgO的含量约为2.5%交换偏置场达到最大值。随着MgO含量进一步增加交换偏置场下降。在IrMn中插入适量的MgO可以有效地增加交换偏置场。 展开更多
关键词 MGO 掺杂 交换偏置场
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NiFeCr/NiFe/MgO/Ta薄膜制备及热处理研究 被引量:2
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作者 李明华 李伟 +1 位作者 滕蛟 于广华 《功能材料》 EI CAS CSCD 北大核心 2013年第18期2630-2632,共3页
采用磁控溅射制备了NiFeCr(4.5nm)/NiFe(10nm)/MgO(4.0nm)/Ta(5.0nm)薄膜,并对薄膜进行真空磁场退火。退火后薄膜磁电阻变化率显著提高,400℃退火后达到3.02%,之后随着退火温度的升高,磁电阻变化率下降。XRD结果表明,薄膜不仅具有很强的... 采用磁控溅射制备了NiFeCr(4.5nm)/NiFe(10nm)/MgO(4.0nm)/Ta(5.0nm)薄膜,并对薄膜进行真空磁场退火。退火后薄膜磁电阻变化率显著提高,400℃退火后达到3.02%,之后随着退火温度的升高,磁电阻变化率下降。XRD结果表明,薄膜不仅具有很强的NiFe(111)织构,同时还出现了MgO的(111)衍射峰。随退火温度的升高,MgO(111)衍射峰的强度有所降低。 展开更多
关键词 MGO NiFeCr 各向异性磁电阻 退火
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交换耦合双层膜PtMn/Co的微观结构和磁性
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作者 郑小兰 顾有松 +2 位作者 张跃 展晓元 李建民 《真空科学与技术学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2006年第3期210-213,共4页
采用磁控溅射法在Si(100)基片上沉积了PtMn/Co双层膜,研究退火温度与样品微结构以及磁性的关系,发现退火温度越高,反铁磁性PtMn层由fcc非磁性相向fct反铁磁性相转变越充分,交换偏置场值Hex越高。同时,随着退火温度的升高,反铁磁层的晶... 采用磁控溅射法在Si(100)基片上沉积了PtMn/Co双层膜,研究退火温度与样品微结构以及磁性的关系,发现退火温度越高,反铁磁性PtMn层由fcc非磁性相向fct反铁磁性相转变越充分,交换偏置场值Hex越高。同时,随着退火温度的升高,反铁磁层的晶粒尺寸逐渐增大,交换偏置场Hex值随着反铁磁层晶粒尺寸的增大几乎呈线性增加。研究了交换偏置场与铁磁层、反铁磁层厚度的关系,结果表明,在250℃退火时Hex与PtMn厚度关系为有峰值的曲线,此退火温度下反铁磁层临界厚度为20 nm,最佳反铁磁层厚度为60 nm。还发现了交换偏置场Hex随着铁磁性Co层厚度的增大几乎呈线性降低,充分说明铁磁、反铁磁交换耦合作用是一种界面耦合效应。 展开更多
关键词 交换偏置场 热处理工艺 相转变 磁性能
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