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植物缓蚀剂的研究进展及其在金属材料防腐中的应用
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作者 徐姿仪 陈倚 +4 位作者 韩嘉茹 魏雅晓 乔冬升 邱丽娜 弓爱君 《表面技术》 北大核心 2025年第17期1-17,共17页
金属材料因其优异的力学性能被广泛应用于建筑、交通及电子制造等领域,但因腐蚀问题导致其寿命缩短、安全隐患增大,并造成了巨大的经济和环境损失。缓蚀剂是一种经济高效的防腐手段,其中植物缓蚀剂(Plant corrosion inhibitors)以绿色... 金属材料因其优异的力学性能被广泛应用于建筑、交通及电子制造等领域,但因腐蚀问题导致其寿命缩短、安全隐患增大,并造成了巨大的经济和环境损失。缓蚀剂是一种经济高效的防腐手段,其中植物缓蚀剂(Plant corrosion inhibitors)以绿色友好、原料来源广泛、易于提取等优势成为研究热点。系统综述了植物缓蚀剂的研究进展,重点探讨其活性成分与作用机制的构效关系。通过对比分析发现,部分体系在酸性介质中对碳钢、铜等材料的缓蚀效率超过95%,且利用复配协同效应(如与碘化钾结合)可以显著提升缓蚀效率。采用电化学(EIS、PDP)结合吸附等温线的方法时,植物缓蚀剂多表现为混合型抑制机制,其吸附行为与Langmuir、Freundlich或Temkin等温模型拟合。此外,现代提取技术(超声波、微波辅助)与传统方法相比,在效率和环保性上更具优势。最后,针对现有问题提出优化提取工艺,拓展其在电子制造和航空航天等精密工业中的应用,并利用大数据技术建立缓蚀剂数据库等,旨在为植物缓蚀剂的设计及多领域应用提供参考。 展开更多
关键词 金属材料 植物缓蚀剂 腐蚀防护 绿色化学 腐蚀抑制机制
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镍及其合金超精密抛光技术研究进展 被引量:3
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作者 韩嘉茹 蒋淼锦 +4 位作者 陈倚 魏雅晓 乔冬升 徐姿仪 弓爱君 《表面技术》 北大核心 2025年第1期97-109,共13页
镍及其合金作为高新技术领域的重要基础材料,对其表面质量的要求日益提升。然而,由于其韧性高、硬度高、导热系数小,可加工性较差,传统表面加工方法存在加工硬化、表面划痕、加工效率低等问题,因此对镍及其合金进行超精密抛光已成为一... 镍及其合金作为高新技术领域的重要基础材料,对其表面质量的要求日益提升。然而,由于其韧性高、硬度高、导热系数小,可加工性较差,传统表面加工方法存在加工硬化、表面划痕、加工效率低等问题,因此对镍及其合金进行超精密抛光已成为一个极其重要的研究方向。聚焦于高效率、高质量、低损伤抛光,综述了应用于镍及其合金加工的电化学抛光(ECP)、化学机械抛光(CMP)、磁流变抛光(MRF)与激光抛光(LP)技术的原理、特点以及国内外研究现状。从表面质量、抛光效率、形状限制、环境污染以及加工成本这几个方面对各超精密抛光技术进行了对比,并概述了不同抛光技术的优缺点,分析了不同种类镍合金所适用的抛光方法。归纳总结发现,ECP与CMP成本较低,是目前加工镍及其合金的主流方式,但其抛光液存在污染。MRF与LP对环境友好,可用于复杂形状表面的抛光,但操作过程复杂、成本较高。最后基于目前镍及其合金超精密抛光所存在的问题与现有的技术,对超精密抛光技术的发展趋势进行了展望,以期为进一步研究镍及其合金的超精密抛光提供理论指导。 展开更多
关键词 镍合金 抛光 材料去除机理 抛光效率 表面质量 超精密
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低温配位-沉淀法合成疏水ZnO及提高泡沫稳定性的应用(英文) 被引量:1
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作者 顾少楠 李文军 +2 位作者 罗文利 常志东 周花蕾 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2015年第3期594-602,共9页
以Zn(NO3)2·6H2O为原料,25%氨水为配位剂,用NaOH做沉淀剂,十六烷基三甲溴化铵(CTAB)为改性剂制备了具有不同表面接触角的氧化锌微球。采用X射线衍射,扫描电镜和表面ζ电位技术对其进行了表征,并对合成过程中体系中的组分分布以及... 以Zn(NO3)2·6H2O为原料,25%氨水为配位剂,用NaOH做沉淀剂,十六烷基三甲溴化铵(CTAB)为改性剂制备了具有不同表面接触角的氧化锌微球。采用X射线衍射,扫描电镜和表面ζ电位技术对其进行了表征,并对合成过程中体系中的组分分布以及各组分对形貌的影响进行了分析。泡沫稳定性的实验结果表明:颗粒质量浓度为0.03%,接触角为52.9°的氧化锌颗粒具有对泡沫最强的稳定作用。同时对颗粒的疏水改性和提高泡沫性的机理进行了讨论。 展开更多
关键词 氧化锌 配位沉淀 形貌可控 疏水效应 泡沫稳定性
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新型钢抛光液中磨料的种类及其性能研究进展 被引量:1
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作者 陈倚 张偲淼 +3 位作者 屈蔚然 郑书佳 孙一嘉 弓爱君 《表面技术》 EI CAS CSCD 北大核心 2024年第3期88-100,122,共14页
磨料在抛光液中主要起机械作用,磨料的理化性质,如硬度、粒径、浓度等,是影响化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)性能的重要因素,对抛光效率有较大影响。针对我国抛光液对外依赖、需求量大,但精度等指标达不到市场要求等... 磨料在抛光液中主要起机械作用,磨料的理化性质,如硬度、粒径、浓度等,是影响化学机械抛光(Chemical Mechanical Polishing,CMP)性能的重要因素,对抛光效率有较大影响。针对我国抛光液对外依赖、需求量大,但精度等指标达不到市场要求等问题,同时由于磨料在抛光液的抛光性能中起着至关重要的作用,因此寻求效果更好的改性磨料或新型磨料材料,以促进化学机械抛光技术的发展势在必行。故此,归纳汇总近年来国内外研制出的新型钢抛光液,聚焦于抛光液磨料这一重要组分中不同物质的物化性质及其作用,对抛光性能(如材料去除率、表面粗糙度和光泽度等)的影响等,分类别阐述了不同物质的优劣势、复配协同作用以及在现有抛光液中的效果,为之后抛光液配方研究中磨料的选择提供参考。归纳总结发现,混合与复合磨料较单一磨料有较大的提升,稀土掺杂、核/壳结构等改进存在较大的研究价值,组分间的复配协同作用对抛光性能的提升有一定作用。最后,基于目前钢抛光液应用中存在的问题以及现有的具有前景的技术,对钢抛光液中磨料的发展进行了展望。 展开更多
关键词 化学机械抛光 抛光液 磨料 抛光机理
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离子受体对自由卟啉探针荧光识别性能的影响(英文)
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作者 耿聪 郑慧 +1 位作者 陈玉婷 姜建壮 《无机化学学报》 SCIE CAS CSCD 北大核心 2019年第11期2152-2158,共7页
通过对2个N,N-二吡啶胺基受体修饰的自由卟啉化合物(Porphyrin-2-DPA)光学识别性能的系统研究,可以得知:该卟啉化合物中心刚性共轭的四吡咯环状结构不仅作为灵敏的光学信号基团、更是作为第一离子配位受体,在非共轭的N,N-二吡啶胺基受... 通过对2个N,N-二吡啶胺基受体修饰的自由卟啉化合物(Porphyrin-2-DPA)光学识别性能的系统研究,可以得知:该卟啉化合物中心刚性共轭的四吡咯环状结构不仅作为灵敏的光学信号基团、更是作为第一离子配位受体,在非共轭的N,N-二吡啶胺基受体辅助下,对Pb2+/Cu2+离子表现出灵敏的多重信号分析识别功能。 展开更多
关键词 荧光探针 卟啉 N N-二吡啶胺基(DPA) 阳离子 多重分析物 多重信号
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