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氨化Ga_2O_3和金属Ga粒混合镓源制备高质量GaN纳米线 被引量:2
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作者 李琰 王朋伟 +3 位作者 孙杨慧 高靖云 赵清 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2011年第2期91-96,共6页
在管式炉中用化学气相沉积(CVD)法在高温下用金做催化剂,首次通过氨化Ga2O3和金属Ga粒组成的混合镓源制备出高质量的GaN纳米线。运用SEM,TEM,XRD以及Raman,PL等表征手段分析了氮化镓纳米线的形貌、结构以及发光性质。最后着重探讨了通... 在管式炉中用化学气相沉积(CVD)法在高温下用金做催化剂,首次通过氨化Ga2O3和金属Ga粒组成的混合镓源制备出高质量的GaN纳米线。运用SEM,TEM,XRD以及Raman,PL等表征手段分析了氮化镓纳米线的形貌、结构以及发光性质。最后着重探讨了通过改变镓源的构成、氨化温度以及镓源和生长衬底间的距离等生长条件,研究了其对氮化镓形貌的影响,藉以提高在管式炉中生长GaN的可控性及可重复性,为制备大量GaN纳米线提供了依据。 展开更多
关键词 化学气相沉积法 氮化镓 纳米线 生长条件
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