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金属表面微纳米光滑构造的新方法
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作者 张洋 朱新利 +1 位作者 廖志敏 俞大鹏 《电子显微学报》 CAS CSCD 北大核心 2009年第6期511-516,共6页
传统的曝光技术等平面工艺通常只能获得边缘陡峭的平面结构。通过多层曝光、灰度曝光、聚焦离子束加工等方法可以实现高度渐变的准三维结构的构造,却往往难以获得良好的光滑度。本文结合电子束曝光技术、PMMA结构平滑技术、模板剥离技术... 传统的曝光技术等平面工艺通常只能获得边缘陡峭的平面结构。通过多层曝光、灰度曝光、聚焦离子束加工等方法可以实现高度渐变的准三维结构的构造,却往往难以获得良好的光滑度。本文结合电子束曝光技术、PMMA结构平滑技术、模板剥离技术,实现了多种多样的渐变结构的构造。这种技术具有构造方法简单、表面粗糙度小、可自由定位等众多优点。 展开更多
关键词 光滑结构 金属 电子束曝光 模板剥离法
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