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金刚石的射频喷射等离子体化学气相沉积及其Ni-N掺杂的研究
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作者 石彦超 李彬 +6 位作者 李佳君 左勇刚 白旸 刘浩 孙占峰 马殿理 陈广超 《人工晶体学报》 EI CAS CSCD 北大核心 2015年第10期2670-2678,共9页
对自行设计的RF喷射等离子体增强化学气相沉积系统(RF plasma jet CVD)进行了电子温度和电子密度的模拟计算分析。在优化的参数下进行了金刚石膜体的制备,并应用光发射谱技术(OES)在线分析了等离子体的成分。通过Raman、XRD和SEM分析了... 对自行设计的RF喷射等离子体增强化学气相沉积系统(RF plasma jet CVD)进行了电子温度和电子密度的模拟计算分析。在优化的参数下进行了金刚石膜体的制备,并应用光发射谱技术(OES)在线分析了等离子体的成分。通过Raman、XRD和SEM分析了沉积样品的成分、晶体结构和形貌。通过在反应气体中加入NH3,并利用载气技术将含有Ni元素的金属有机物引入到沉积区,进行了Ni、N共掺杂沉积。利用XPS以及PL谱分析了掺杂样品的化学价键和光致发光特性,结果发现Ni-N价键的存在以及在800 nm附近的光发射峰。 展开更多
关键词 化学气相沉积 射频喷射等离子体 金刚石 Ni-N掺杂
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