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基于单片机控制的高精度直流电流源系统的开发 被引量:11
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作者 范新强 姚兴辉 《工矿自动化》 北大核心 2006年第6期49-50,共2页
高精度直流电流源系统以AT89C52为控制模块核心,通过恒流源电路向负载提供高精度直流电流,电流输出范围为20~2000mA。该电流源系统具有输出电流预置、1mA步进调整及给定值和实测值显示等功能。
关键词 直流电流源 控制 单片机 AT89C52
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水润滑条件下聚丙烯/有机改性蒙脱土纳米复合材料摩擦磨损性能研究 被引量:2
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作者 陈奎 雒向东 邵月君 《润滑与密封》 CAS CSCD 北大核心 2008年第1期110-112,共3页
针对2种有机改性蒙脱土(OMMT,TJ-2型和KH-V6型),研究了熔融插层法制备的聚丙烯(PP)/OMMT纳米复合材料在水润滑条件下的摩擦磨损性能,并用扫描电子显微镜观察分析了复合材料的磨损表面。结果表明:2种PP/OMMT纳米复合材料的摩擦因数和磨... 针对2种有机改性蒙脱土(OMMT,TJ-2型和KH-V6型),研究了熔融插层法制备的聚丙烯(PP)/OMMT纳米复合材料在水润滑条件下的摩擦磨损性能,并用扫描电子显微镜观察分析了复合材料的磨损表面。结果表明:2种PP/OMMT纳米复合材料的摩擦因数和磨损率都随OMMT含量的增加先减小后增加。当TJ-2型OMMT质量分数为1.5%时,复合材料的摩擦因数和磨损率分别为纯PP的88%和48%;当KH-V6型OMMT质量分数为2%时,复合材料的摩擦因数和磨损率分别为纯PP的92%和50%。此外,在水介质中,随OMMT填充量的增加,PP/OMMT纳米复合材料的主要磨损形式依次是磨粒磨损、粘着磨损和磨粒磨损。 展开更多
关键词 聚丙烯 蒙脱土 纳米复合材料 摩擦磨损性能
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磁控溅射Cu膜的表面形貌演化研究 被引量:9
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作者 雒向东 《半导体技术》 CAS CSCD 北大核心 2007年第2期138-141,共4页
采用磁控溅射工艺在单晶Si<111>衬底上制备300 nm厚的Cu膜,用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,研究工艺参数对Cu膜表面形貌的影响。结果表明:随着沉积温度、溅射功率及偏压的变化,Cu膜表面粗糙度历经了不同的演化过程。沉积粒... 采用磁控溅射工艺在单晶Si<111>衬底上制备300 nm厚的Cu膜,用原子力显微镜(AFM)观察薄膜表面形貌,研究工艺参数对Cu膜表面形貌的影响。结果表明:随着沉积温度、溅射功率及偏压的变化,Cu膜表面粗糙度历经了不同的演化过程。沉积粒子的扩散和晶粒生长之间的竞争决定了薄膜表面演化。 展开更多
关键词 磁控溅射 薄膜 表面形貌
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PMMA/MMT纳米复合材料硫酸腐蚀产物EDS、SEM表征 被引量:2
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作者 陈奎 朱雅峰 +1 位作者 曾华 邵月君 《塑料工业》 CAS CSCD 北大核心 2007年第11期57-59,共3页
用失重法研究了聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/KH—V6型蒙脱土纳米复合材料的耐H2S04腐蚀行为,并用EDS和SEM分析了腐蚀产物膜。结果表明,质量分数为2%~3%的蒙脱土复合材料发生的是均匀腐蚀,蒙脱土的片层阻隔作用使得PMMA基体的降解... 用失重法研究了聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)/KH—V6型蒙脱土纳米复合材料的耐H2S04腐蚀行为,并用EDS和SEM分析了腐蚀产物膜。结果表明,质量分数为2%~3%的蒙脱土复合材料发生的是均匀腐蚀,蒙脱土的片层阻隔作用使得PMMA基体的降解行为减弱,腐蚀速率最小,腐蚀膜内外表面出现明显的孔;随蒙脱土质量分数的进一步增加(4%),蒙脱土在PMMA基体中发生聚集,阻隔作用减弱,复合材料的腐蚀速率上升,且在H2SO4的作用下,聚集态的蒙脱土容易从复合材料中分离出来,导致腐蚀产物的内表面出现不光滑的小坑。 展开更多
关键词 聚甲基丙烯酸甲酯 蒙脱土 硫酸 腐蚀 纳米复合材料
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