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高效率n型硅离子注入双面太阳电池
1
作者
李晓苇
史金超
+2 位作者
张伟
沈艳娇
李锋
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期211-215,共5页
为进一步提升n型硅双面太阳电池的转化效率,采用了磷离子注入技术制备n型硅双面太阳电池的背场。基于离子注入技术准直性和均匀性好的特点,掺杂后硅片的表面复合电流密度降低到了1.4×10^-13A/cm2,隐性开路电压可达670 mV,且分布区...
为进一步提升n型硅双面太阳电池的转化效率,采用了磷离子注入技术制备n型硅双面太阳电池的背场。基于离子注入技术准直性和均匀性好的特点,掺杂后硅片的表面复合电流密度降低到了1.4×10^-13A/cm2,隐性开路电压可达670 mV,且分布区间更紧凑。在电阻率为13Ω·cm的n型硅片基底上,采用磷离子注入技术工业化生产的n型硅双面太阳电池的正面平均转化效率达到了20.64%,背面平均转化效率达到了19.52%。内量子效率的分析结果显示,离子注入太阳电池效率的增益主要来自长波段光谱响应的提升。
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关键词
双面太阳电池
n型Si
转化效率
背场
离子注入
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职称材料
题名
高效率n型硅离子注入双面太阳电池
1
作者
李晓苇
史金超
张伟
沈艳娇
李锋
机构
河北大学物理科学
与技术
学院
保定天威英利新能源有限公司光伏材料与技术国家重点实验室
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2018年第3期211-215,共5页
基金
国家国际科技合作专项资助项目(2015DFE62900)
文摘
为进一步提升n型硅双面太阳电池的转化效率,采用了磷离子注入技术制备n型硅双面太阳电池的背场。基于离子注入技术准直性和均匀性好的特点,掺杂后硅片的表面复合电流密度降低到了1.4×10^-13A/cm2,隐性开路电压可达670 mV,且分布区间更紧凑。在电阻率为13Ω·cm的n型硅片基底上,采用磷离子注入技术工业化生产的n型硅双面太阳电池的正面平均转化效率达到了20.64%,背面平均转化效率达到了19.52%。内量子效率的分析结果显示,离子注入太阳电池效率的增益主要来自长波段光谱响应的提升。
关键词
双面太阳电池
n型Si
转化效率
背场
离子注入
Keywords
bifacial solar cell
n-type Si
conversion efficiency
back surface field
ion implantation
分类号
TN305.3 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
高效率n型硅离子注入双面太阳电池
李晓苇
史金超
张伟
沈艳娇
李锋
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2018
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