针对污水处理的无机膜的制备与应用研究 被引量：1

1

作者 黄宾 冯斌 周耀 《中国陶瓷》 CSCD 北大核心 2011年第1期37-40,共4页

无机膜分离技术是当今世界上发展较快的一门技术,采用膜分离技术对气相、液相进行分离过滤具有操作简单、能耗低的特点,应用日益广泛。本文研究了无机陶瓷膜管的制备过程中缺陷产生原因和解决办法,分析了无机膜的性能和在污水处理中的应... 无机膜分离技术是当今世界上发展较快的一门技术,采用膜分离技术对气相、液相进行分离过滤具有操作简单、能耗低的特点,应用日益广泛。本文研究了无机陶瓷膜管的制备过程中缺陷产生原因和解决办法,分析了无机膜的性能和在污水处理中的应用,并对无机膜技术的发展进行了展望。 展开更多

关键词 无机膜 污水处理 水通量 制备

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薄膜应力的研究 被引量：2

2

作者 范玉殿 周志烽 《真空科学与技术》 CSCD 1993年第2期130-137,共8页

本文首先简述了薄膜应力研究的发展过程,并指出了薄膜应力在薄膜研究与生产中的普遍性和重要性。薄膜应力研究的基本问题包括应力的测量、应力产生的机制、应力的控制和应力的作用。应力与薄膜结构、性能之间存在着相互影响的复杂关系... 本文首先简述了薄膜应力研究的发展过程,并指出了薄膜应力在薄膜研究与生产中的普遍性和重要性。薄膜应力研究的基本问题包括应力的测量、应力产生的机制、应力的控制和应力的作用。应力与薄膜结构、性能之间存在着相互影响的复杂关系。在综述前人研究工作的基础上,本文还简要介绍了Co—Cr合金膜和Gd-Fe合金膜的应力研究结果。 展开更多

关键词 薄膜物理学 应力

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薄膜热应力的研究 被引量：17

3

作者 周志烽 范玉殿 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第5期347-354,共8页

讨论了薄膜热应力的产生原因及其计算方法。热应力与薄膜和基片的热膨胀系数、基片温度及其分布密切相关。利用溅射沉积在基片表面上的Fe－Ni薄膜热电偶测量薄膜沉积过程中的基片温度及其变化。Fe－Ni薄膜热电偶具有易于制作、稳定性好... 讨论了薄膜热应力的产生原因及其计算方法。热应力与薄膜和基片的热膨胀系数、基片温度及其分布密切相关。利用溅射沉积在基片表面上的Fe－Ni薄膜热电偶测量薄膜沉积过程中的基片温度及其变化。Fe－Ni薄膜热电偶具有易于制作、稳定性好和动态响应快等优点，热电势率也较高（0．022mV／℃）。最后，简要介绍了磁控溅射Co－Cr合金膜的热应力和本征应力的研究结果。 展开更多

关键词 薄膜 热应力 温度测量 垂直磁记录介质

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薄膜内应力的起源 被引量：17

4

作者 范玉殿 周志烽 《材料科学与工程》 CSCD 1996年第1期5-12,共8页

薄膜内应力的存在是薄膜生产、制备过程中的普遍现象。应力的产生与薄膜的成核、生长以及微观结构密切相关。本文综述了目前已提出的各种有关应力起源的理论模型,并对磁控溅射 Co-Cr 和 Gd-Fe 二元合金薄膜的应力产生机制进行讨论。

关键词 薄膜 应力 微观结构

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薄膜溅射沉积过程中的原子喷丸效应 被引量：6

5

作者 范毓殿 周志烽 《真空科学与技术》 EI CSCD 1996年第4期235-241,共7页

原子喷丸效应是薄膜溅射沉积过程中的普遍现象，是指反弹工作气体原子和溅射原子构成的荷能粒子流对生长膜面的轰击作用。这些荷能粒子在向基片输运的过程中受到工作气体原子的散射。原子喷丸效应与靶材和工作气体的原子质量比以及工作... 原子喷丸效应是薄膜溅射沉积过程中的普遍现象，是指反弹工作气体原子和溅射原子构成的荷能粒子流对生长膜面的轰击作用。这些荷能粒子在向基片输运的过程中受到工作气体原子的散射。原子喷丸效应与靶材和工作气体的原子质量比以及工作气体压强密切相关。以平面磁控溅射Co－Cr，Ni-Fe和Gd－Fe等二元合金薄膜为对象，研究其内应力与Ar工作气体压强的关系，并探讨原子喷丸效应对应力的影响。在靶材原子质量较大并且工作气体压强较低的情形下，可导致薄膜中呈压应力。 展开更多

关键词 薄膜 溅射 应力

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瓷砖装饰用压电喷墨打印头关键技术研究

6

作者 仲作金 褚祥诚 +3 位作者 陈海超 张淑兰 崔宏超 周梅 《压电与声光》 CAS CSCD 北大核心 2016年第2期221-226,共6页

压电喷墨技术是一种广泛应用于工业数字印刷领域的喷墨打印技术。根据压电陶瓷变形模式不同,压电喷墨可分为挤压式、弯曲式、推动式和剪切式4种驱动原理。该文介绍了4种压电喷墨原理及相关研究方法。有限元分析和流体动力学计算可模拟... 压电喷墨技术是一种广泛应用于工业数字印刷领域的喷墨打印技术。根据压电陶瓷变形模式不同,压电喷墨可分为挤压式、弯曲式、推动式和剪切式4种驱动原理。该文介绍了4种压电喷墨原理及相关研究方法。有限元分析和流体动力学计算可模拟墨滴生成与飞行的过程,便于研究喷头电学参数和几何尺寸对喷墨性能的影响。并讨论了喷墨打印头的压电元件、喷嘴板等材料优化,以及压电喷墨头研究进展及未来展望。 展开更多

关键词 喷墨打印 压电陶瓷 流体仿真 电压波形 喷嘴

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氮气压力对氮化硅烧结行为的影响 被引量：8

7

作者 彭刚 江尧忠 《硅酸盐通报》 CAS CSCD 1997年第4期27-30,34,共5页

本文对在１４００～１７００℃温度范围内，分别在３０ａｔｍ和１ａｔｍ的Ｎ２中氮化硅陶瓷的烧结行为进行了比较研究，对比试验结果表明，在气压烧结过程中其致密化和α－β相变速率均滞后于常压烧结，晶界第二相组成也有所不同。为了... 本文对在１４００～１７００℃温度范围内，分别在３０ａｔｍ和１ａｔｍ的Ｎ２中氮化硅陶瓷的烧结行为进行了比较研究，对比试验结果表明，在气压烧结过程中其致密化和α－β相变速率均滞后于常压烧结，晶界第二相组成也有所不同。为了避免高压氮气被包陷和致密化滞后，在气压烧结过程的前期（１７００℃）应避免使用高压氮气。 展开更多

关键词 氮化硅陶瓷 气压烧结 致密化 相变 烧结

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炭黑和造孔剂对反应烧结碳化硅性能的影响 被引量：1

8

作者 张喜飞 陈定 +3 位作者 罗琼 顾华志 黄奥 付绿平 《耐火材料》 CAS 北大核心 2023年第4期320-323,共4页

为提高反应烧结碳化硅的力学性能,以碳化硅微粉(55~44和5.0~3.5μm)和炭黑为原料,羧甲基纤维素纳(CMC)和羟丙基甲基纤维素(HPMC)为造孔剂,经1740℃保温1 h制备了反应烧结碳化硅陶瓷。研究了炭黑添加量(加入质量分数分别为5%、7.5%、10%... 为提高反应烧结碳化硅的力学性能,以碳化硅微粉(55~44和5.0~3.5μm)和炭黑为原料,羧甲基纤维素纳(CMC)和羟丙基甲基纤维素(HPMC)为造孔剂,经1740℃保温1 h制备了反应烧结碳化硅陶瓷。研究了炭黑添加量(加入质量分数分别为5%、7.5%、10%、12.5%、15%)及不同质量比的造孔剂对反应烧结碳化硅物理性能的影响,并进行XRD和光学显微镜分析。结果表明:1)当炭黑添加量(w)从5%增加到15%时,材料弯曲强度从172 MPa升高到258 MPa,断裂韧性从3.31 MPa·m^(1/2)升高到3.77 MPa·m^(1/2);2)造孔剂能够优化游离Si的分布,当炭黑添加量为15%(w),造孔剂CMC与HPMC质量比为1.5∶4.5时,反应烧结碳化硅具有优异的力学性能,其弯曲强度为268 MPa,断裂韧性为4.42 MPa·m^(1/2)。 展开更多

关键词 反应烧结碳化硅 炭黑 造孔剂 断裂韧性

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高岭土质无光釉 被引量：3

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作者 范玉容 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 1992年第6期25-30,共6页

研究了无光剂为钙、钡、锡、锌、钛的彩釉砖高岭土质无光釉配方,并用XRD、OM研究了釉结构.研究表明,釉面光滑、细腻的无光釉,其釉中有很细小的晶体,也有稍大的晶体,晶体粒度大小为1-20μm;适宜的SiO_2/Al_2O_3比值是获得质感好的高岭土... 研究了无光剂为钙、钡、锡、锌、钛的彩釉砖高岭土质无光釉配方,并用XRD、OM研究了釉结构.研究表明,釉面光滑、细腻的无光釉,其釉中有很细小的晶体,也有稍大的晶体,晶体粒度大小为1-20μm;适宜的SiO_2/Al_2O_3比值是获得质感好的高岭土质无光釉的关键;易生成大晶粒的钙、钡、锡无光剂,与生成小晶粒的锌、钛无光剂混合使用,易获得质感好的高岭土质无光釉. 展开更多

关键词 高岭石 陶瓷 无光釉 釉

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Co-Cr合金膜的X射线线形分析

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作者 周志烽 苏清新 范玉殿 《真空科学与技术》 CSCD 1996年第6期421-426,共6页

利用近似函数法对Co－Cr合金薄膜的衍射线线形进行分析，并提出用“三线法”确定衍射线的函数类型及其积分宽度，由此可计算薄膜的晶粒尺寸和微观应变。理论计算和实验表明，“三线法”结合近似函数法在线形分析方面是简便、可靠的。通... 利用近似函数法对Co－Cr合金薄膜的衍射线线形进行分析，并提出用“三线法”确定衍射线的函数类型及其积分宽度，由此可计算薄膜的晶粒尺寸和微观应变。理论计算和实验表明，“三线法”结合近似函数法在线形分析方面是简便、可靠的。通过分析Co－Cr膜在不同工艺条件下（膜厚、Ar工作气体压强和负偏压）的衍射线线形，发现衍射线的物理展宽（即有效晶粒尺寸的减小）与晶粒取向度的下降是相对应的。晶粒取向度的下降与结构缺陷密度的增大有关。负偏压溅射时由于Ar原子残留在膜内引起晶格膨胀，从而使微观应变有较大增加。 展开更多

关键词 X射线衍射 合金膜 钴铬合金

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浸渍-裂解法增强碳化硅-堇青石支撑体强度

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作者 冯斌 林珊 +2 位作者 陈家才 吴丹 廖健坤 《中国陶瓷》 CAS CSCD 北大核心 2021年第7期51-57,共7页

陶瓷过滤膜在高温烟气分离领域有着重要的应用,其关键问题在于提高陶瓷支撑体在热冲击和酸性条件下的热稳定性。本研究采用SiC-堇青石作为陶瓷支撑体材料,利用浸渍-裂解法制备得到SiC-堇青石陶瓷支撑体。研究结果表明,通过浸渍-裂解法... 陶瓷过滤膜在高温烟气分离领域有着重要的应用,其关键问题在于提高陶瓷支撑体在热冲击和酸性条件下的热稳定性。本研究采用SiC-堇青石作为陶瓷支撑体材料,利用浸渍-裂解法制备得到SiC-堇青石陶瓷支撑体。研究结果表明,通过浸渍-裂解法有效地消除了支撑体的弱结合区域,同时前驱体原位形成修补相,共同提高了体系的强度。最终制备的SiC-堇青石支撑体的平均孔径为6.2μm,开孔孔隙率为36.4%,抗弯强度49.2MPa,氮气通量为1.2×104 m^(3)/(m^(2)hbar),经过30次高温循环后抗弯强度保持约42 MPa,表现出优异的热稳定性。 展开更多

关键词 浸渍-裂解法 陶瓷支撑体 强度 热稳定性

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