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MOCVD侧向外延GaN的结构特性
被引量:
2
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作者
方慧智
陆敏
+4 位作者
陈志忠
陆羽
胡晓东
杨志坚
张国义
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期748-752,共5页
侧向外延(ELO)GaN的原子力显微镜(AFM)表面形貌图像表明,ELO-GaN相当平整,而掩膜区中央有线状分布的小丘群,这是由ELO-GaN在掩膜区中央接合时晶向不一致而产生的缺陷造成的。观察ELO-GaN扫描电子显微镜(SEM)截面图,侧向接合处存在着三...
侧向外延(ELO)GaN的原子力显微镜(AFM)表面形貌图像表明,ELO-GaN相当平整,而掩膜区中央有线状分布的小丘群,这是由ELO-GaN在掩膜区中央接合时晶向不一致而产生的缺陷造成的。观察ELO-GaN扫描电子显微镜(SEM)截面图,侧向接合处存在着三角空洞,并且侧向接合导致上述小丘群。X射线衍射(XRD)曲线表明,掩膜边界处的GaN晶面有倾斜。拉曼散射谱表明,掩膜区GaN质量相对于窗口区大为提高。ELO-GaN和普通外延GaN的拉曼散射谱比较表明,ELO-GaN中的应力较小,晶体质量较高。
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关键词
侧向外延
金属有机化学气相沉积
氮化镓
原子力显微镜
拉曼散射
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职称材料
题名
MOCVD侧向外延GaN的结构特性
被引量:
2
1
作者
方慧智
陆敏
陈志忠
陆羽
胡晓东
杨志坚
张国义
机构
北京大学
物理
学院
人工微结构和介观物理国家重点实验室宽禁带半导体研究中心
出处
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005年第6期748-752,共5页
基金
国家自然科学基金(60376005
60276010)
+1 种基金
国家"863"计划(2001AA313140
2001AA313060)资助项目
文摘
侧向外延(ELO)GaN的原子力显微镜(AFM)表面形貌图像表明,ELO-GaN相当平整,而掩膜区中央有线状分布的小丘群,这是由ELO-GaN在掩膜区中央接合时晶向不一致而产生的缺陷造成的。观察ELO-GaN扫描电子显微镜(SEM)截面图,侧向接合处存在着三角空洞,并且侧向接合导致上述小丘群。X射线衍射(XRD)曲线表明,掩膜边界处的GaN晶面有倾斜。拉曼散射谱表明,掩膜区GaN质量相对于窗口区大为提高。ELO-GaN和普通外延GaN的拉曼散射谱比较表明,ELO-GaN中的应力较小,晶体质量较高。
关键词
侧向外延
金属有机化学气相沉积
氮化镓
原子力显微镜
拉曼散射
Keywords
epitaxial lateral overgrowth
MOCVD
GaN
AFM
Raman scattering
分类号
O472.3 [理学—半导体物理]
O482.31 [理学—固体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
MOCVD侧向外延GaN的结构特性
方慧智
陆敏
陈志忠
陆羽
胡晓东
杨志坚
张国义
《发光学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2005
2
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