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LCD触控感应技术发展趋势(英文)
被引量:
19
1
作者
白石
王延峰
+3 位作者
黄敏
冷长林
贾勇
金春梅
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期572-575,共4页
作为直接和界面友好的输入装置,触摸屏被广泛地应用于移动显示产品。在过去几年中,触控技术的发展也是多种多样的。文章主要介绍了传统式触控技术及内嵌式触控技术的特点,并讨论了触控技术的发展趋势。
关键词
技术发展趋势
LCD
感应
输入装置
显示产品
直接和
触摸屏
内嵌式
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职称材料
量子点发光在显示器件中的应用
被引量:
26
2
作者
张锋
薛建设
+2 位作者
喻志农
周伟峰
惠官宝
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期163-167,共5页
介绍了量子点材料的发光原理、基本结构,以及量子点LED的特性、制备方法以及其在显示领域的最新进展。量子点LED由于具有发光纯度高、使用寿命长、可由溶液法制备等独特的优点,越来越受到人们的重视,成为显示领域新的研究热点。
关键词
量子点
发光二极管
显示器件
色域
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职称材料
TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺
被引量:
13
3
作者
李文波
王刚
+4 位作者
张卓
胡望
刘宏宇
邵喜斌
徐征
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期522-526,559,共6页
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击。在TFT-LCD阵列基板制造方...
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击。在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中。通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向。
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关键词
掩模版
薄膜晶体管液晶显示器
阵列工艺
技术进展
市场行情
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职称材料
高性能金属铟镓锌氧化物TFT的研究
被引量:
10
4
作者
刘翔
张盛东
+3 位作者
薛建设
宁策
杨静
王刚
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期130-133,共4页
在2.5 G试验线上研究了金属氧化物IGZO薄膜晶体管(TFT)的性能,获得良好的IGZO TFT性能,迁移率为10.65cm2/V·s,阈值电压Vth为-1.5 V,开态电流为1.58×10-4 A,关态电流为3.0×10-12,开关比为5.27×107,亚阈值摆幅为0.44V...
在2.5 G试验线上研究了金属氧化物IGZO薄膜晶体管(TFT)的性能,获得良好的IGZO TFT性能,迁移率为10.65cm2/V·s,阈值电压Vth为-1.5 V,开态电流为1.58×10-4 A,关态电流为3.0×10-12,开关比为5.27×107,亚阈值摆幅为0.44V/Dev,验证了TFT的均一性和重复性。此外还研究了可见光照和电压偏应力对IGZO TFT性能的影响,可见光照不会促使IGZO TFT Vth的漂移,进行2 h的负偏电压应力测试,IGZO TFT的Vth几乎没有漂移。使用上述IGZO TFT基板成功地制作了中国大陆第一款Oxide-LCD样机(18.5英寸),展现出良好的效果。
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关键词
金属氧化物薄膜晶体管
铟镓锌氧化物半导体
高迁移率
高性能
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职称材料
微胶囊电泳显示与TFT-LCD之比较分析
被引量:
5
5
作者
李文波
徐征
+4 位作者
张卓
王刚
邵喜斌
刘宏宇
李云飞
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期576-581,共6页
对微胶囊电泳显示与TFT-LCD显示进行了对比研究,讨论并分析了它们在显示原理、电路的驱动方式和灰阶实现、像素设计以及显示性能等多方面的不同特性,并对微胶囊电泳显示的应用前景做了简要介绍和预测。
关键词
微胶囊电泳显示
TFT—LCD显示
比较分析
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职称材料
表面处理对液晶显示阵列基板中黑矩阵残留的影响
被引量:
1
6
作者
张锋
舒适
+1 位作者
齐永莲
刘震
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期915-919,共5页
主要分析了黑矩阵残留程度与SiNx、SiON、SiOx等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了...
主要分析了黑矩阵残留程度与SiNx、SiON、SiOx等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分析了表面亲水特性和黑矩阵残留程度的关系。最后,研究了等离子体处理条件对基底表面亲水特性的影响,提出了采用O2/He等离子体对基底表面进行改性来解决黑矩阵的残留问题。实验结果表明:基底表面的水接触角越小、亲水性越强,黑矩阵在基底表面的残留越少;O2/He等离子体表面处理使基底表面的水接触角从17°降低到3°,增强了基底表面的亲水特性,并且黑矩阵工艺之后基底表面的粗糙度从3.06nm降低到0.69nm,消除了黑矩阵的残留。
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关键词
等离子体处理
亲水性
接触角
黑矩阵
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职称材料
钼缓冲层对钼/铜叠层结构电极特性的影响
被引量:
1
7
作者
李旭远
薛唯
+4 位作者
喻志农
薛建设
张学辉
柳逢春
杨伟生
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第1期1-5,共5页
采用直流磁控溅射方法制备了钼/铜叠层结构电极,其电阻率达到2.28μΩ·cm,显著低于铝钕合金的电阻率;金属钼作为缓冲层,提高了铜电极在玻璃上的附着力;钼作为阻挡层有效地阻挡了铜向非晶硅中的扩散,避免了铜对于薄膜晶体管有源层...
采用直流磁控溅射方法制备了钼/铜叠层结构电极,其电阻率达到2.28μΩ·cm,显著低于铝钕合金的电阻率;金属钼作为缓冲层,提高了铜电极在玻璃上的附着力;钼作为阻挡层有效地阻挡了铜向非晶硅中的扩散,避免了铜对于薄膜晶体管有源层的影响。采用这种结构的电极作为大尺寸高分辨平板显示器的扫描线和数据线有望缓解信号延迟的问题。
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关键词
显示技术
钼铜叠层电极
电阻率
扩散
附着力
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职称材料
叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
被引量:
1
8
作者
舒适
齐永莲
+2 位作者
徐传祥
张锋
崔承镇
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第12期956-960,共5页
本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题,即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等,并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成...
本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题,即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等,并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成一定的叠层高度后,采用形貌追随型平坦化材料对像素区平坦,通过控制像素开口部分OC的厚度,可以实现叠层隔垫物高度的控制。采用改变叠层图案设计的方法形成主-副隔垫物高度差(Main-sub段差),段差达成范围是0.4~1.2μm,达到了灰阶曝光方式可以达到段差的水平,但成本却大幅降低。并且验证了采用形貌追随型OC材料覆盖可以较好的保持OC工艺前形成的Main-sub段差。基于以上技术制备了4 Mask彩色滤光片原型机。
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关键词
彩色滤光片
叠层隔垫物
形貌追随型平坦化材料
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职称材料
白色光阻材料在OGS工艺中的应用
9
作者
冯京
徐传祥
+3 位作者
张方振
惠官宝
张锋
姚琪
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期525-531,共7页
分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况。验证了白色光阻材料在OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件。首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高...
分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况。验证了白色光阻材料在OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件。首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化。然后对白色光阻材料和触摸屏制作工艺进行工艺整合,提出了采用白色光阻加黑矩阵的双层结构,可以保证白色光阻材料的OD值,防止后面的金属线被透视出来,其中白色光阻的厚度控制在15μm,黑矩阵的厚度在1.2μm。在后续的Photo工艺时,调整工艺参数,加大了PR的厚度并加大曝光显影时间,成功解决了这种高段差造成的金属线Open和Remain问题,并采用OGS工艺制作了白色光阻触摸屏样品。
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关键词
白色光阻
色度
耐化性
光密度
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职称材料
题名
LCD触控感应技术发展趋势(英文)
被引量:
19
1
作者
白石
王延峰
黄敏
冷长林
贾勇
金春梅
机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
中国教学仪器设备总
公司
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期572-575,共4页
文摘
作为直接和界面友好的输入装置,触摸屏被广泛地应用于移动显示产品。在过去几年中,触控技术的发展也是多种多样的。文章主要介绍了传统式触控技术及内嵌式触控技术的特点,并讨论了触控技术的发展趋势。
关键词
技术发展趋势
LCD
感应
输入装置
显示产品
直接和
触摸屏
内嵌式
Keywords
LCD
touch screen panel
external
internal
trend
分类号
TN27 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
量子点发光在显示器件中的应用
被引量:
26
2
作者
张锋
薛建设
喻志农
周伟峰
惠官宝
机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
北京理工大学光电学院薄膜与显示
技术
实验室
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期163-167,共5页
文摘
介绍了量子点材料的发光原理、基本结构,以及量子点LED的特性、制备方法以及其在显示领域的最新进展。量子点LED由于具有发光纯度高、使用寿命长、可由溶液法制备等独特的优点,越来越受到人们的重视,成为显示领域新的研究热点。
关键词
量子点
发光二极管
显示器件
色域
Keywords
quantum dot
light emitting diode
display technology
color gamut
分类号
O472.8 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺
被引量:
13
3
作者
李文波
王刚
张卓
胡望
刘宏宇
邵喜斌
徐征
机构
北京交通大学光电子
技术
研究所
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期522-526,559,共6页
基金
国家"863"计划资助项目(2008AA03A334)
中国博士后科学基金资助项目(20090460265)
文摘
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击。在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中。通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向。
关键词
掩模版
薄膜晶体管液晶显示器
阵列工艺
技术进展
市场行情
Keywords
mask
thin film transistor liquid crystal display(TFT-LCD)
array process
technology progress
market
分类号
TN321.5 [电子电信—物理电子学]
TN305.6 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
高性能金属铟镓锌氧化物TFT的研究
被引量:
10
4
作者
刘翔
张盛东
薛建设
宁策
杨静
王刚
机构
北京大学微电子学研究院
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
Oxide TFT工艺开发
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014年第2期130-133,共4页
文摘
在2.5 G试验线上研究了金属氧化物IGZO薄膜晶体管(TFT)的性能,获得良好的IGZO TFT性能,迁移率为10.65cm2/V·s,阈值电压Vth为-1.5 V,开态电流为1.58×10-4 A,关态电流为3.0×10-12,开关比为5.27×107,亚阈值摆幅为0.44V/Dev,验证了TFT的均一性和重复性。此外还研究了可见光照和电压偏应力对IGZO TFT性能的影响,可见光照不会促使IGZO TFT Vth的漂移,进行2 h的负偏电压应力测试,IGZO TFT的Vth几乎没有漂移。使用上述IGZO TFT基板成功地制作了中国大陆第一款Oxide-LCD样机(18.5英寸),展现出良好的效果。
关键词
金属氧化物薄膜晶体管
铟镓锌氧化物半导体
高迁移率
高性能
Keywords
Metal-oxide thin film transistor, IGZO semiconductor, High mobility, High stability
分类号
TN305.7 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
微胶囊电泳显示与TFT-LCD之比较分析
被引量:
5
5
作者
李文波
徐征
张卓
王刚
邵喜斌
刘宏宇
李云飞
机构
北京交通大学光电子
技术
研究所发光与光信息
技术
教育部重点实验室
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期576-581,共6页
基金
国家"863"计划资助项目(No.2008AA03A334)
中国博士后科学基金资助项目(No.20090460265)
+3 种基金
国家自然科学基金(No.10974013
No.10774013)
教育部博士点基金(No.20090009110027)
国家"973"项目(No.2010CB327704)
文摘
对微胶囊电泳显示与TFT-LCD显示进行了对比研究,讨论并分析了它们在显示原理、电路的驱动方式和灰阶实现、像素设计以及显示性能等多方面的不同特性,并对微胶囊电泳显示的应用前景做了简要介绍和预测。
关键词
微胶囊电泳显示
TFT—LCD显示
比较分析
Keywords
microencapsulated electrophoretic display l TFT-LCD display l comparative analysis
分类号
TN27 [电子电信—物理电子学]
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职称材料
题名
表面处理对液晶显示阵列基板中黑矩阵残留的影响
被引量:
1
6
作者
张锋
舒适
齐永莲
刘震
机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期915-919,共5页
基金
京东方科技集团股份有限公司研发项目基金(No.2012057)~~
文摘
主要分析了黑矩阵残留程度与SiNx、SiON、SiOx等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分析了表面亲水特性和黑矩阵残留程度的关系。最后,研究了等离子体处理条件对基底表面亲水特性的影响,提出了采用O2/He等离子体对基底表面进行改性来解决黑矩阵的残留问题。实验结果表明:基底表面的水接触角越小、亲水性越强,黑矩阵在基底表面的残留越少;O2/He等离子体表面处理使基底表面的水接触角从17°降低到3°,增强了基底表面的亲水特性,并且黑矩阵工艺之后基底表面的粗糙度从3.06nm降低到0.69nm,消除了黑矩阵的残留。
关键词
等离子体处理
亲水性
接触角
黑矩阵
Keywords
plasma treatment
hydrophilicity
contact angle
black matrix
分类号
O472.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
钼缓冲层对钼/铜叠层结构电极特性的影响
被引量:
1
7
作者
李旭远
薛唯
喻志农
薛建设
张学辉
柳逢春
杨伟生
机构
北京理工大学光电学院薄膜与显示实验室
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
昆明物理研究所
出处
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015年第1期1-5,共5页
基金
北京市自然科学基金资助项目(4112049)
校基础研究基金项目(20110442018)
文摘
采用直流磁控溅射方法制备了钼/铜叠层结构电极,其电阻率达到2.28μΩ·cm,显著低于铝钕合金的电阻率;金属钼作为缓冲层,提高了铜电极在玻璃上的附着力;钼作为阻挡层有效地阻挡了铜向非晶硅中的扩散,避免了铜对于薄膜晶体管有源层的影响。采用这种结构的电极作为大尺寸高分辨平板显示器的扫描线和数据线有望缓解信号延迟的问题。
关键词
显示技术
钼铜叠层电极
电阻率
扩散
附着力
Keywords
Display technology, Mo/Cu stacked structure electrode, Resistivity, Diffusion, Adhesion
分类号
R27 [医药卫生—中医学]
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职称材料
题名
叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
被引量:
1
8
作者
舒适
齐永莲
徐传祥
张锋
崔承镇
机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第12期956-960,共5页
基金
京东方科技集团股份有限公司研发项目基金(No.2013013)~~
文摘
本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题,即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等,并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成一定的叠层高度后,采用形貌追随型平坦化材料对像素区平坦,通过控制像素开口部分OC的厚度,可以实现叠层隔垫物高度的控制。采用改变叠层图案设计的方法形成主-副隔垫物高度差(Main-sub段差),段差达成范围是0.4~1.2μm,达到了灰阶曝光方式可以达到段差的水平,但成本却大幅降低。并且验证了采用形貌追随型OC材料覆盖可以较好的保持OC工艺前形成的Main-sub段差。基于以上技术制备了4 Mask彩色滤光片原型机。
关键词
彩色滤光片
叠层隔垫物
形貌追随型平坦化材料
Keywords
color filter
stacking photo spacer
shape-following
OC material
分类号
O472.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
白色光阻材料在OGS工艺中的应用
9
作者
冯京
徐传祥
张方振
惠官宝
张锋
姚琪
机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期525-531,共7页
基金
京东方科技集团股份有限公司研发火种基金项目(No.FR25)~~
文摘
分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况。验证了白色光阻材料在OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件。首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化。然后对白色光阻材料和触摸屏制作工艺进行工艺整合,提出了采用白色光阻加黑矩阵的双层结构,可以保证白色光阻材料的OD值,防止后面的金属线被透视出来,其中白色光阻的厚度控制在15μm,黑矩阵的厚度在1.2μm。在后续的Photo工艺时,调整工艺参数,加大了PR的厚度并加大曝光显影时间,成功解决了这种高段差造成的金属线Open和Remain问题,并采用OGS工艺制作了白色光阻触摸屏样品。
关键词
白色光阻
色度
耐化性
光密度
Keywords
white matrix
chrominance
chemical resistance
optical density
分类号
O472.1 [理学—半导体物理]
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职称材料
题名
作者
出处
发文年
被引量
操作
1
LCD触控感应技术发展趋势(英文)
白石
王延峰
黄敏
冷长林
贾勇
金春梅
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010
19
在线阅读
下载PDF
职称材料
2
量子点发光在显示器件中的应用
张锋
薛建设
喻志农
周伟峰
惠官宝
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2012
26
在线阅读
下载PDF
职称材料
3
TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺
李文波
王刚
张卓
胡望
刘宏宇
邵喜斌
徐征
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010
13
在线阅读
下载PDF
职称材料
4
高性能金属铟镓锌氧化物TFT的研究
刘翔
张盛东
薛建设
宁策
杨静
王刚
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2014
10
在线阅读
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职称材料
5
微胶囊电泳显示与TFT-LCD之比较分析
李文波
徐征
张卓
王刚
邵喜斌
刘宏宇
李云飞
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010
5
在线阅读
下载PDF
职称材料
6
表面处理对液晶显示阵列基板中黑矩阵残留的影响
张锋
舒适
齐永莲
刘震
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
7
钼缓冲层对钼/铜叠层结构电极特性的影响
李旭远
薛唯
喻志农
薛建设
张学辉
柳逢春
杨伟生
《真空科学与技术学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2015
1
在线阅读
下载PDF
职称材料
8
叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
舒适
齐永莲
徐传祥
张锋
崔承镇
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2017
1
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职称材料
9
白色光阻材料在OGS工艺中的应用
冯京
徐传祥
张方振
惠官宝
张锋
姚琪
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016
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