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题名LCD触控感应技术发展趋势(英文)
被引量：19
- 1
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作者
白石
王延峰
黄敏
冷长林
贾勇
金春梅
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机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
中国教学仪器设备总公司
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期572-575,共4页
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文摘
作为直接和界面友好的输入装置,触摸屏被广泛地应用于移动显示产品。在过去几年中,触控技术的发展也是多种多样的。文章主要介绍了传统式触控技术及内嵌式触控技术的特点,并讨论了触控技术的发展趋势。
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关键词
技术发展趋势
LCD
感应
输入装置
显示产品
直接和
触摸屏
内嵌式
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Keywords
LCD
touch screen panel
external
internal
trend
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分类号
TN27
[电子电信—物理电子学]
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题名量子点发光在显示器件中的应用
被引量：26
- 2
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作者
张锋
薛建设
喻志农
周伟峰
惠官宝
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机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
北京理工大学光电学院薄膜与显示技术实验室
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2012年第2期163-167,共5页
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文摘
介绍了量子点材料的发光原理、基本结构,以及量子点LED的特性、制备方法以及其在显示领域的最新进展。量子点LED由于具有发光纯度高、使用寿命长、可由溶液法制备等独特的优点,越来越受到人们的重视,成为显示领域新的研究热点。
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关键词
量子点
发光二极管
显示器件
色域
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Keywords
quantum dot
light emitting diode
display technology
color gamut
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分类号
O472.8
[理学—半导体物理]
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题名TFT用掩模版与TFT-LCD阵列工艺
被引量：13
- 3
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作者
李文波
王刚
张卓
胡望
刘宏宇
邵喜斌
徐征
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机构
北京交通大学光电子技术研究所
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
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出处
《半导体技术》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第6期522-526,559,共6页
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基金
国家"863"计划资助项目(2008AA03A334)
中国博士后科学基金资助项目(20090460265)
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文摘
薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)产业经过20年的发展,其规模已经远远超出10年前的预想,技术发展也呈现出加速进步的趋势。各种新一代光刻技术的出现显著提升了掩模版的制作精度,对其市场价格也造成了不小的冲击。在TFT-LCD阵列基板制造方面,4掩模版光刻工艺技术逐渐成为当今主流,而3掩模版光刻工艺因其技术难度大、良品率低,目前还掌握在少数几家TFT-LCD厂商手中。通过对掩模版的国内外市场行情、技术进展以及掩模版数目与TFT-LCD阵列工艺的关系作全面的阐述,指出加强TFT-LCD掩模版等配套材料的自主研发、采用更加先进的制造技术是简化生产工艺、降低生产成本的有效手段,也是我国TFT-LCD产业下一步努力发展的方向。
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关键词
掩模版
薄膜晶体管液晶显示器
阵列工艺
技术进展
市场行情
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Keywords
mask
thin film transistor liquid crystal display（TFT-LCD）
array process
technology progress
market
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分类号
TN321.5
[电子电信—物理电子学]
TN305.6
[电子电信—物理电子学]
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题名微胶囊电泳显示与TFT-LCD之比较分析
被引量：5
- 4
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作者
李文波
徐征
张卓
王刚
邵喜斌
刘宏宇
李云飞
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机构
北京交通大学光电子技术研究所发光与光信息技术教育部重点实验室
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2010年第4期576-581,共6页
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基金
国家"863"计划资助项目(No.2008AA03A334)
中国博士后科学基金资助项目(No.20090460265)
+3 种基金
国家自然科学基金(No.10974013
No.10774013)
教育部博士点基金(No.20090009110027)
国家"973"项目(No.2010CB327704)
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文摘
对微胶囊电泳显示与TFT-LCD显示进行了对比研究,讨论并分析了它们在显示原理、电路的驱动方式和灰阶实现、像素设计以及显示性能等多方面的不同特性,并对微胶囊电泳显示的应用前景做了简要介绍和预测。
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关键词
微胶囊电泳显示
TFT—LCD显示
比较分析
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Keywords
microencapsulated electrophoretic display l TFT-LCD display l comparative analysis
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分类号
TN27
[电子电信—物理电子学]
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题名表面处理对液晶显示阵列基板中黑矩阵残留的影响
被引量：1
- 5
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作者
张锋
舒适
齐永莲
刘震
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机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2015年第6期915-919,共5页
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基金
京东方科技集团股份有限公司研发项目基金(No.2012057)~~
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文摘
主要分析了黑矩阵残留程度与SiNx、SiON、SiOx等基底表面亲水特性的关系,研究了等离子体处理对基底表面亲水特性以及黑矩阵残留的影响。首先,通过原子力显微镜和扫描电子显微镜对黑矩阵在不同基底表面的残留颗粒大小、表面粗糙度进行了测试。然后,使用接触角测试仪对不同基底表面的亲水特性进行了表征,分析了表面亲水特性和黑矩阵残留程度的关系。最后,研究了等离子体处理条件对基底表面亲水特性的影响,提出了采用O2/He等离子体对基底表面进行改性来解决黑矩阵的残留问题。实验结果表明:基底表面的水接触角越小、亲水性越强,黑矩阵在基底表面的残留越少;O2/He等离子体表面处理使基底表面的水接触角从17°降低到3°,增强了基底表面的亲水特性,并且黑矩阵工艺之后基底表面的粗糙度从3.06nm降低到0.69nm,消除了黑矩阵的残留。
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关键词
等离子体处理
亲水性
接触角
黑矩阵
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Keywords
plasma treatment
hydrophilicity
contact angle
black matrix
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分类号
O472.1
[理学—半导体物理]
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题名叠层方式形成彩色滤光片隔垫物的研究
被引量：1
- 6
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作者
舒适
齐永莲
徐传祥
张锋
崔承镇
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机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2017年第12期956-960,共5页
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基金
京东方科技集团股份有限公司研发项目基金(No.2013013)~~
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文摘
本文研究了液晶显示面板彩色滤光片工艺中以叠层方式形成隔垫物的关键技术问题,即叠层隔垫物高度控制、主-附隔垫物段差的形成和主-附隔垫物段差受后续平坦层工艺的影响变化等,并提出了解决方案。在黑矩阵、红色、绿色、蓝色滤光层形成一定的叠层高度后,采用形貌追随型平坦化材料对像素区平坦,通过控制像素开口部分OC的厚度,可以实现叠层隔垫物高度的控制。采用改变叠层图案设计的方法形成主-副隔垫物高度差(Main-sub段差),段差达成范围是0.4~1.2μm,达到了灰阶曝光方式可以达到段差的水平,但成本却大幅降低。并且验证了采用形貌追随型OC材料覆盖可以较好的保持OC工艺前形成的Main-sub段差。基于以上技术制备了4 Mask彩色滤光片原型机。
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关键词
彩色滤光片
叠层隔垫物
形貌追随型平坦化材料
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Keywords
color filter
stacking photo spacer
shape-following
OC material
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分类号
O472.1
[理学—半导体物理]
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题名白色光阻材料在OGS工艺中的应用
- 7
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作者
冯京
徐传祥
张方振
惠官宝
张锋
姚琪
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机构
京东方科技集团股份有限公司技术研发中心
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出处
《液晶与显示》
CAS
CSCD
北大核心
2016年第6期525-531,共7页
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基金
京东方科技集团股份有限公司研发火种基金项目(No.FR25)~~
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文摘
分析了白色光阻材料在不同温度、不同厚度和不同化学品浸泡下色度值、分辨率和附着力的变化情况。验证了白色光阻材料在OGS(One glass solution)触摸屏生产中的工艺条件。首先,关注白色光阻材料的光密度值(OD值)、分辨率、耐化性、耐高温性能以及在不同厚度下白色光阻材料的色度变化。然后对白色光阻材料和触摸屏制作工艺进行工艺整合,提出了采用白色光阻加黑矩阵的双层结构,可以保证白色光阻材料的OD值,防止后面的金属线被透视出来,其中白色光阻的厚度控制在15μm,黑矩阵的厚度在1.2μm。在后续的Photo工艺时,调整工艺参数,加大了PR的厚度并加大曝光显影时间,成功解决了这种高段差造成的金属线Open和Remain问题,并采用OGS工艺制作了白色光阻触摸屏样品。
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关键词
白色光阻
色度
耐化性
光密度
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Keywords
white matrix
chrominance
chemical resistance
optical density
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分类号
O472.1
[理学—半导体物理]
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