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退火温度对TiO_2纳米薄膜酒精气敏特性影响的研究(英文)
1
作者
李阳
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第8期2019-2023,共5页
采用直流磁控溅射的方法在Al2O3陶瓷管、硅基片上溅射制备了二氧化钛(TiO2)纳米薄膜材料.将薄膜样品放入管式退火炉中分别在500℃,700℃和1100℃温度下退火.由于退火温度的不同,薄膜的晶体结构、晶粒尺寸、晶向以及气敏特性都有所不同....
采用直流磁控溅射的方法在Al2O3陶瓷管、硅基片上溅射制备了二氧化钛(TiO2)纳米薄膜材料.将薄膜样品放入管式退火炉中分别在500℃,700℃和1100℃温度下退火.由于退火温度的不同,薄膜的晶体结构、晶粒尺寸、晶向以及气敏特性都有所不同.利用X射线衍射(XRD)技术和薄膜气敏特性测试,分析了退火温度对薄膜气敏特性的影响.分析结果表明退火温度在500℃时,呈现锐钛矿结构,薄膜具有很好的选择性、很短的反应(恢复)时间.对TiO2薄膜表面进行修饰,发现此TiO2薄膜的最佳工作温度为370℃左右.薄膜的气敏机理也得到了讨论.
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关键词
二氧化钛纳米薄膜
退火温度
乙醇气敏特性
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职称材料
题名
退火温度对TiO_2纳米薄膜酒精气敏特性影响的研究(英文)
1
作者
李阳
机构
五邑大学数学物理系纳米材料研究所
出处
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009年第8期2019-2023,共5页
基金
Supported by National Natural Science Foundation of China(60437030)
文摘
采用直流磁控溅射的方法在Al2O3陶瓷管、硅基片上溅射制备了二氧化钛(TiO2)纳米薄膜材料.将薄膜样品放入管式退火炉中分别在500℃,700℃和1100℃温度下退火.由于退火温度的不同,薄膜的晶体结构、晶粒尺寸、晶向以及气敏特性都有所不同.利用X射线衍射(XRD)技术和薄膜气敏特性测试,分析了退火温度对薄膜气敏特性的影响.分析结果表明退火温度在500℃时,呈现锐钛矿结构,薄膜具有很好的选择性、很短的反应(恢复)时间.对TiO2薄膜表面进行修饰,发现此TiO2薄膜的最佳工作温度为370℃左右.薄膜的气敏机理也得到了讨论.
关键词
二氧化钛纳米薄膜
退火温度
乙醇气敏特性
Keywords
TiO2 thin films Annealing temperature Ethanol-sensing properties
分类号
TN321.93 [电子电信—物理电子学]
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题名
作者
出处
发文年
被引量
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1
退火温度对TiO_2纳米薄膜酒精气敏特性影响的研究(英文)
李阳
《光子学报》
EI
CAS
CSCD
北大核心
2009
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